-
题名磁控溅射法制备As-S玻璃薄膜
- 1
-
-
作者
顾少轩
张林
赵光华
-
机构
武汉理工大学材料科学与工程学院
中材高新材料股份有限公司
丹江口汉江集团碳化硅公司
-
出处
《硅酸盐通报》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第1期84-86,105,共4页
-
基金
硅酸盐材料工程教育部重点实验室(武汉理工大学)开放基金(SYSJJ2005-13)
-
文摘
采用磁控溅射法在ITO导电玻璃上制备As-S玻璃薄膜,采用XRD、透可见-红外性能、扫描电镜、XPS等现代测试手段,研究薄膜的结晶形态、光学性质和成分。结果发现,利用磁控溅射方法得到了透过率较高、光学质量优良、没有明显的缺陷的As-S硫系玻璃薄膜,XPS光电子能谱结果显示薄膜As/S摩尔比为0.686,大于设计组成。
-
关键词
磁控溅射
As-S玻璃
薄膜
-
Keywords
magnetron sputtering
As-S glass
film
-
分类号
TQ171.72
[化学工程—玻璃工业]
-
-
题名高炉用优质Si_3N_4结合SiC砖的生产
被引量：1
- 2
-
-
作者
赵光华
罗新民
朱喜仲
范清文
-
机构
丹江口汉江集团碳化硅公司
-
出处
《耐火材料》
CAS
北大核心
1999年第6期337-339,共3页
-
文摘
将SiC砂及Si粉合理搭配 ,通入纯度为99 .99%、H2 O含量小于 50× 1 0 - 6的氮气氮化烧成 ,通过一系列成熟而严格的工艺控制 ,其氮化率可达 89% ,产品的体积密度为 2 .69g·cm- 3,耐压强度达到 2 0 4MPa ,高温抗折强度达到 61 .8MPa。
-
关键词
氮化硅
高炉
耐火材料
碳化硅
耐火砖
-
Keywords
Si_3N_4 bonded SiC bricks, Production control, Nitride firing
-
分类号
TF576.4
[冶金工程—钢铁冶金]
TQ175.79
[化学工程—硅酸盐工业]
-
