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丙烯酸配位有机锡光刻胶的制备及高分辨光刻研究
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作者 赵英东 姬沛君 +4 位作者 丛日尧 付海超 张家龙 陈鹏忠 彭孝军 《化工学报》 北大核心 2025年第4期1820-1830,共11页
集成电路产业中光刻技术的迅速发展对光刻胶的性能提出了更高的要求。有机-锡配合物在光刻分辨率和线边缘粗糙度方面表现出优异的特性,但其光刻灵敏度和薄膜稳定性相对较差。本文报道了一种新型的丙烯酸配位的三苯基锡光刻材料Sn1Ac,该... 集成电路产业中光刻技术的迅速发展对光刻胶的性能提出了更高的要求。有机-锡配合物在光刻分辨率和线边缘粗糙度方面表现出优异的特性,但其光刻灵敏度和薄膜稳定性相对较差。本文报道了一种新型的丙烯酸配位的三苯基锡光刻材料Sn1Ac,该材料可同时用于深紫外光刻和电子束光刻。通过与四(3-巯基丙酸)季戊四醇酯(PETMP)形成氢键,成功克服了旋涂薄膜稳定性差的缺陷,其光刻留膜率超过93%。Sn1Ac与PETMP的混合薄膜显示出卓越的负性图案化性能。在电子束光刻条件下,该混合薄膜的分辨率优于15 nm,且线边缘粗糙度低于2 nm。通过X射线光电子能谱等测试手段,提出了锡-碳酸根和硫醇-烯点击反应的协同交联曝光机理。 展开更多
关键词 光刻胶 旋涂 表面 配合物 纳米材料 光响应材料
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