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纳米Si_3N_4制备及光学特性研究
被引量：
6
1
作者
王锐
李道火
+2 位作者
黄永攀
罗丽明
浦坦
《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
2004年第5期557-560,共4页
为了制备高纯度的非晶纳米氮化硅粉体,在传统的激光诱导化学气相沉积法反应装置的基础上,加入正交紫外光束以激励NH3分解,从而提高气相中n(N)/n(Si)比,减少产物中游离硅的摩尔浓度.利用TEM技术和光谱分析技术研究了粒子的形貌和特性.结...
为了制备高纯度的非晶纳米氮化硅粉体,在传统的激光诱导化学气相沉积法反应装置的基础上,加入正交紫外光束以激励NH3分解,从而提高气相中n(N)/n(Si)比,减少产物中游离硅的摩尔浓度.利用TEM技术和光谱分析技术研究了粒子的形貌和特性.结果表明:在一定的工艺参数条件下,可制备出粒径超微(7-15nm)、无团聚、理想化学剂量(n(N)/n(Si)=1.314)的非晶纳米氮化硅粉体;表面效应和量子尺寸效应导致粉体红外吸收光谱和拉曼光谱的'蓝移'和'宽化'现象;采用双光束激励的激光诱导化学气相沉积法是制备高纯度纳米氮化硅粉体的理想方法.
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关键词
粉体
制备
高纯度
纳米
氮化硅
硅粉
游离硅
化学气相沉积法
光束
光学特性
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职称材料
题名
纳米Si_3N_4制备及光学特性研究
被引量：
6
1
作者
王锐
李道火
黄永攀
罗丽明
浦坦
机构
中科院安徽光机所新型激光器与晶体材料研究室
出处
《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
2004年第5期557-560,共4页
文摘
为了制备高纯度的非晶纳米氮化硅粉体,在传统的激光诱导化学气相沉积法反应装置的基础上,加入正交紫外光束以激励NH3分解,从而提高气相中n(N)/n(Si)比,减少产物中游离硅的摩尔浓度.利用TEM技术和光谱分析技术研究了粒子的形貌和特性.结果表明:在一定的工艺参数条件下,可制备出粒径超微(7-15nm)、无团聚、理想化学剂量(n(N)/n(Si)=1.314)的非晶纳米氮化硅粉体;表面效应和量子尺寸效应导致粉体红外吸收光谱和拉曼光谱的'蓝移'和'宽化'现象;采用双光束激励的激光诱导化学气相沉积法是制备高纯度纳米氮化硅粉体的理想方法.
关键词
粉体
制备
高纯度
纳米
氮化硅
硅粉
游离硅
化学气相沉积法
光束
光学特性
Keywords
LICVD
Si3N4
double beam optical stimulation
infrared absorption spectra
laman spectra
分类号
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
TQ174 [化学工程—陶瓷工业]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
纳米Si_3N_4制备及光学特性研究
王锐
李道火
黄永攀
罗丽明
浦坦
《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
2004
6
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