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高功率激光放大器脉冲的整形设计被引量：10: 1; 作者王韬范滇元《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第2期139-142,共4页; 针对惯性约束聚变实验对激光驱动器脉冲波形的要求，将优化控制模型理论运用于计算激光放大器输入脉冲的预补偿波形，得到了与实验基本一致的结果。同时给出了我国新一代高功率激光器“神光－Ⅲ”; 关键词高功率激光脉冲整形 ICF驱动器放大器; 在线阅读下载PDF 职称材料

氧分压对电子束蒸发SiO_2薄膜机械性质和光学性质的影响被引量：3: 2; 作者邵淑英范正修 +2 位作者邵建达沈卫星江敏华《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期742-745,共4页; 采用ZYGOMarkⅢ- GPI数字波面干涉仪、NamoScopeⅢa型原子力显微镜对不同氧分压下电子束蒸发方法制备的SiO2 薄膜中的残余应力及表面形貌进行了研究,结果发现:随着氧分压的增大,薄膜中的压应力值逐渐减小,最后变为张应力状态;同时薄膜... 展开更多; 关键词 SIO2薄膜氧分压残余应力表面形貌折射率电子束蒸发; 在线阅读下载PDF 职称材料

光学玻璃材料的破坏和折射率变化的测量研究: 3; 作者朱鹏飞孟绍贤 +1 位作者谢兴龙林尊琪《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第2期105-108,共4页; 介绍了一套用Nomarski干涉仪测量、面阵CCD摄像、微机实时监控记录光学玻璃材料在激光作用下破坏的装置 ,并对试验室原有的Nomarski干涉仪进行了优化设计 ,提高了它的探测灵敏度。; 关键词破坏 Nomarski干涉仪测量光学玻璃材料折射率变化; 在线阅读下载PDF 职称材料

甲基化对多孔SiO2增透薄膜光学稳定性能的影响被引量：2: 4; 作者贾巧英唐永兴《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期580-583,共4页; 分别通过引入甲基三乙氧基硅烷(MTES)、二甲基二乙氧基硅烷(DMDES)以及六甲基二硅氮烷(HMDS)组分对SiO2悬胶体进行改性,得到不同甲基化的多孔SiO2改性薄膜。研究了改性薄膜的光学稳定性,抗激光破坏性能以及机械抗擦性能。结果表明,HMDS... 展开更多; 关键词甲基化光学稳定性 SiO2增透薄改性; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名高功率激光放大器脉冲的整形设计被引量：10: 1; 作者王韬范滇元; 机构中科院上海光学精密机械研究所高功率激光物理国家实验室; 出处《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第2期139-142,共4页; 基金国家863惯性约束聚变领域资助课题; 文摘针对惯性约束聚变实验对激光驱动器脉冲波形的要求，将优化控制模型理论运用于计算激光放大器输入脉冲的预补偿波形，得到了与实验基本一致的结果。同时给出了我国新一代高功率激光器“神光－Ⅲ”; 关键词高功率激光脉冲整形 ICF驱动器放大器; Keywords high power laser amplifier pulse shaping ICF driver optimum; 分类号 TL821 [核科学技术—核技术及应用] TN78 [电子电信—电路与系统]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名氧分压对电子束蒸发SiO_2薄膜机械性质和光学性质的影响被引量：3: 2; 作者邵淑英范正修邵建达沈卫星江敏华; 机构中科院上海光学精密机械研究所薄膜技术研究与发展中心中科院上海光学精密机械研究所高功率激光物理国家实验室; 出处《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期742-745,共4页; 文摘采用ZYGOMarkⅢ- GPI数字波面干涉仪、NamoScopeⅢa型原子力显微镜对不同氧分压下电子束蒸发方法制备的SiO2 薄膜中的残余应力及表面形貌进行了研究,结果发现:随着氧分压的增大,薄膜中的压应力值逐渐减小,最后变为张应力状态;同时薄膜的表面粗糙度也随着氧分压的增大而逐渐增大另外,折射率对氧分压也非常敏感,随着氧分压的增大呈现出了减小的趋势这些现象主要是由于氧分压的改变使得SiO薄膜结构发生了变化引起的。; 关键词 SIO2薄膜氧分压残余应力表面形貌折射率电子束蒸发; Keywords SiO_2 films Oxygen partial pressure Residual stress Surface morphology Refractive index Electron beam evaporation; 分类号 O484.4 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名光学玻璃材料的破坏和折射率变化的测量研究: 3; 作者朱鹏飞孟绍贤谢兴龙林尊琪; 机构中科院上海光学精密机械研究所高功率激光物理国家实验室; 出处《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第2期105-108,共4页; 基金 86 3高技术资助; 文摘介绍了一套用Nomarski干涉仪测量、面阵CCD摄像、微机实时监控记录光学玻璃材料在激光作用下破坏的装置 ,并对试验室原有的Nomarski干涉仪进行了优化设计 ,提高了它的探测灵敏度。; 关键词破坏 Nomarski干涉仪测量光学玻璃材料折射率变化; Keywords damage Nomarski interferometer detection; 分类号 TQ171.7 [化学工程—玻璃工业]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名甲基化对多孔SiO2增透薄膜光学稳定性能的影响被引量：2: 4; 作者贾巧英唐永兴; 机构西安电子科技大学技术物理学院中科院上海光学精密机械研究所; 出处《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期580-583,共4页; 基金国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(863-804-2); 文摘分别通过引入甲基三乙氧基硅烷(MTES)、二甲基二乙氧基硅烷(DMDES)以及六甲基二硅氮烷(HMDS)组分对SiO2悬胶体进行改性,得到不同甲基化的多孔SiO2改性薄膜。研究了改性薄膜的光学稳定性,抗激光破坏性能以及机械抗擦性能。结果表明,HMDS改性薄膜的光学稳定性最好而机械抗擦性较弱,MTES与DMDES改性薄膜的光学稳定性较低而机械抗擦性良好且均与改性组分的含量有关,甲基化改性薄膜的抗激光破坏性能比未改性薄膜的有所降低。; 关键词甲基化光学稳定性 SiO2增透薄改性; Keywords methyl-functioned optical stability silica antirefleetive coatings modified; 分类号 O484.1 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	高功率激光放大器脉冲的整形设计	王韬范滇元	《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心	1999	10	在线阅读下载PDF 职称材料
2	氧分压对电子束蒸发SiO_2薄膜机械性质和光学性质的影响	邵淑英范正修邵建达沈卫星江敏华	《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2005	3	在线阅读下载PDF 职称材料
3	光学玻璃材料的破坏和折射率变化的测量研究	朱鹏飞孟绍贤谢兴龙林尊琪	《激光技术》 CAS CSCD 北大核心	2001	0	在线阅读下载PDF 职称材料
4	甲基化对多孔SiO2增透薄膜光学稳定性能的影响	贾巧英唐永兴	《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心	2008	2	在线阅读下载PDF 职称材料