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题名高集成度多标记光刻版版图的快速处理技术
被引量：1
- 1
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作者
黄翔宇
马协力
金焱骅
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机构
中电国基南方集团有限公司
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出处
《电子技术应用》
2022年第9期67-69,74,共4页
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文摘
介绍了一种高集成度多标记光刻版版图的快速处理技术。其中包括以下四个模块:chip芯片排布模块、标记排布模块、芯粒数统计模块和自动版号模块。在版图编辑工具L-edit中使用这些模块可以大幅提升微光刻中的高集成度多标记光刻版版图的排布效率并提高准确度,从而有效缩短掩膜版的生产周期。
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关键词
微光刻
高集成度
快速排布
光刻版
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Keywords
micro-lithography
highly integrated
rapidly processed
photolithography
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分类号
TN405
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名0.25μm掩模制造中激光直写参数的优化研究
被引量：1
- 2
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作者
袁卓颖
华卫群
刘浩
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机构
中电国基南方集团有限公司
无锡中微掩模电子有限公司
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出处
《电子与封装》
2021年第6期69-73,共5页
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文摘
主要介绍了激光直写的工艺原理和主要的直写参数,通过试验的方式,对0.25μm掩模制造中的激光直写参数束斑剂量、焦距、每束光的剂量、光束一致性以及拼接进行分析和优化,最终确定最佳的工艺参数,使得掩模条宽(CD)均匀性提高近20 nm。
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关键词
掩模
束斑
剂量
焦距
光束一致性
拼接
条宽均匀性
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Keywords
mask
beam spot
dose
focal length
beam consistency
splicing
CD uniformity
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分类号
TN407
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名高集成度复杂光刻版版图的快速巡查与修正技术
- 3
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作者
黄翔宇
纪宝林
马协力
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机构
中电国基南方集团有限公司
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出处
《电子工业专用设备》
2023年第5期29-35,共7页
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文摘
介绍了一种高集成度复杂光刻版版图的快速巡查与自动修正技术。其主要包括线条修复模块、逻辑处理模块和图形巡查模块。通过对L-edit软件嵌入式程序开发,实现版图中关键图形和易错位置的快速巡查与自动修正处理,大幅提高了先进掩模制造加工技术中高集成度复杂光刻版版图的核查准确度与处理效率。
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关键词
微光刻
光刻版
高集成度
快速巡查
自动修正
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Keywords
Micro-lithography
Photo mask
Highly integrated
Rapid inspection
Automatic correction
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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