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超临界二氧化碳流体染色工程化研究进展 被引量:15
1
作者 郑环达 郑禹忠 +2 位作者 岳成君 韩建国 郑来久 《精细化工》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第9期1449-1456,1471,共9页
介绍了超临界CO2流体基本性质;综述了近年来国内外在超临界CO2流体工程化染色装备系统、工程化染色工艺技术和专用染料三方面的最新研究进展。结果表明:经过多年发展,适用于散纤维、筒纱、织物的超临界C02流体工程化染色装备开始逐... 介绍了超临界CO2流体基本性质;综述了近年来国内外在超临界CO2流体工程化染色装备系统、工程化染色工艺技术和专用染料三方面的最新研究进展。结果表明:经过多年发展,适用于散纤维、筒纱、织物的超临界C02流体工程化染色装备开始逐步推向市场,并可通过智能安全联锁系统保障装备的安全运行;聚酯纤维材料超临界C02流体染色工程化染色工艺技术日趋成熟,已经在世界范围内进行了初步生产应用;但天然纤维超临界C02流体染色专用染料仍存在色牢度差,易于造成设备腐蚀等问题。指出超临界C02流体染色专用商品化染料体系建立、超临界CO2流体染色装备工业放大设计和超临界CO2流体染色工艺放大效应是该项技术产业化应用进程中应着力解决的关键问题。 展开更多
关键词 超临界CO2 装备 染料 染色 工艺 研究进展
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国外电子特种气体技术进展及国内合资气体公司概况 被引量:3
2
作者 梁国仑 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 1995年第11期1-12,共12页
综述国外电子特种气体的“超纯”、“超净”技术,一体化供气系统,超微生气体杂质和元素杂质的分析检测技术,电子材种气体市场以及ISO9000系列认证。
关键词 气体 提纯 超净技术 集成电路 电子特种气体
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高硬度高碱度水质稳定技术研究 被引量:1
3
作者 蔡康煜 郭喜民 《工业水处理》 CAS CSCD 1997年第5期36-38,共3页
针对高硬度高碱度水质,在静态阻垢、旋转挂片等试验的基础上,通过先进的、敞开式动态模拟试验装置及必要的分析、监测手段,对该种水质的水稳药剂配方及运行工艺进行了研究,确定了阻垢缓蚀效果好、操作宽容性大、运行费用较低的循环... 针对高硬度高碱度水质,在静态阻垢、旋转挂片等试验的基础上,通过先进的、敞开式动态模拟试验装置及必要的分析、监测手段,对该种水质的水稳药剂配方及运行工艺进行了研究,确定了阻垢缓蚀效果好、操作宽容性大、运行费用较低的循环冷却水处理方案。 展开更多
关键词 高硬度 高碱度 水质 循环冷却水 阻垢 缓蚀
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有机铟源的应用开发研究
4
作者 崔丽钧 周春月 安华 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 1996年第2期18-20,共3页
讨论了三甲基铟在光电新材料中的应用,同时介绍了三甲基铟在应用于MOCVD工艺中质量输入过程中变化的原因及克服这些问题的方法。本文还介绍了新的有机铟源的制备及应用情况。
关键词 三甲基铟 有机铟源 半导体薄膜
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1992年度日本气体市场及主要气体公司经营概况
5
作者 梁国仑 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 1993年第12期7-10,共4页
一、气体市场1992年,日本工业气体市场略有滑坡,这主要是因为氧气市场不景气所致。根据工业项目重建法规,要削减液氧生产装置.转而提高氮气产量。1992~1993年间投产的或计划投产的空分装置,液氧生产量减少9180m^3/hr,而氮气产量增加456... 一、气体市场1992年,日本工业气体市场略有滑坡,这主要是因为氧气市场不景气所致。根据工业项目重建法规,要削减液氧生产装置.转而提高氮气产量。1992~1993年间投产的或计划投产的空分装置,液氧生产量减少9180m^3/hr,而氮气产量增加45680m^3/hr。1993年以后,岩谷产业、大阪氧气、昭和电工和日本制钢化学计划建新厂,新建和扩建一批 CO_2装置和氢装置。两个大型提氪、氙装置已投产。根据日本氧气协会和二氧化碳制造协会统计,1992年气体月生产量为 O_2 1.3亿米~3,N_21.35亿米~3,Ar 1360万米~3,CO_2 9万吨。根据GRN 调查,每种气体的生产能力为:Lo_2128 250Nm^3/h,L_(N2) 211 480Nm^3/h,L_(Ar),25507Nm^3/h,L_(co2)l 043 440t/d.干冰1181t/d,GH_2 44 120Nm^3/h.乙炔9618t/d。 展开更多
关键词 日本 工业气体 市场
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涤纶筒纱超临界二氧化碳流体染色工程化装备与工艺 被引量:9
6
作者 郑环达 胥维昌 +4 位作者 赵强 岳成君 单世宝 闫俊 郑来久 《纺织学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第8期86-90,101,共6页
针对传统水介质染色过程水耗、能耗、污水排放量大的难题,采用具有自主知识产权的1 000 L复式超临界CO_2流体染色装备系统对涤纶筒纱进行无水染色工程化生产。基于研发的复式超临界CO_2流体无水染色装备,系统介绍了其超临界流体染色工... 针对传统水介质染色过程水耗、能耗、污水排放量大的难题,采用具有自主知识产权的1 000 L复式超临界CO_2流体染色装备系统对涤纶筒纱进行无水染色工程化生产。基于研发的复式超临界CO_2流体无水染色装备,系统介绍了其超临界流体染色工艺过程;同时,利用独特设计的筒纱染色釜,进行了涤纶筒纱超临界CO_2流体无水染色工艺研究。结果表明:利用研发的1 000 L复式超临界CO_2流体无水染色装备,可获得较高染色深度的筒纱,且染色产品具有良好的匀染性;此外,染色涤纶筒纱的耐水洗、耐摩擦色牢度可达到4~5级以上,耐日晒色牢度可达到6级以上,满足了工程化生产的需要。 展开更多
关键词 染色 超临二氧化碳 分散染料 工程化 涤纶筒纱
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氦检测器气相色谱法快速测定高纯氦中痕量组分 被引量:2
7
作者 高增 李健 唐学渊 《色谱》 CAS CSCD 北大核心 1992年第1期30-33,共4页
国内外曾有多人进行过氦离子化检测器气相色谱法分析高纯氦中痕量组分的方法和仪器的研究。迄今尚没有见到在一台仪器上,使用一只检测器,在五分半钟内分析氦中痕量Ne、H_2、Ar、O_2、N_2、CO、CH_4,CO_2、N_2O的报道。本工作在研制出二... 国内外曾有多人进行过氦离子化检测器气相色谱法分析高纯氦中痕量组分的方法和仪器的研究。迄今尚没有见到在一台仪器上,使用一只检测器,在五分半钟内分析氦中痕量Ne、H_2、Ar、O_2、N_2、CO、CH_4,CO_2、N_2O的报道。本工作在研制出二分半钟分离Ne、H_2、Ar、O_2、N_2、CH_4的高效色谱柱后。 展开更多
关键词 痕量组分分析 气相色谱
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吸附法制取电子级高纯氯 被引量:4
8
作者 孔祥芝 《制冷学报》 CAS CSCD 1989年第4期31-40,共10页
以工业液氯为原料,取化学处理沸石作吸附剂、刚常温吸附、低温冷凝法,制取优于99.998%的电子级高纯氯的试验研究。测定了H_2O、CO_2的穿透吸附容量和CO_2的穿透曲线,介绍了吸附剂的筛选及其再生,低沸点气体杂质用能耗低的浅冷法进行冷... 以工业液氯为原料,取化学处理沸石作吸附剂、刚常温吸附、低温冷凝法,制取优于99.998%的电子级高纯氯的试验研究。测定了H_2O、CO_2的穿透吸附容量和CO_2的穿透曲线,介绍了吸附剂的筛选及其再生,低沸点气体杂质用能耗低的浅冷法进行冷凝分离,含氯尾气用稀氨水溶液吸收处理等试验研究结果。 展开更多
关键词 试验研究 电子级 吸附容量 溶液吸收 穿透点 穿透曲线 填料吸收塔 尾气处理 化学处理 沸石吸附
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高纯二氯二氢硅的生产和应用 被引量:3
9
作者 孙福楠 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 1996年第11期27-28,共2页
叙述了二氯二氢硅的主要生产方法及其用途。
关键词 二氯二氢硅 生产方法 合成
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高纯气体分析的高效色谱柱研制 被引量:1
10
作者 高增 李健 唐学渊 《色谱》 CAS CSCD 北大核心 1990年第6期391-393,共3页
在高纯气体各项杂质的色谱分析中,氩、氧是最难分离的物质对。多年来人们在其分离上做了许多努力,或者采用室温下长柱,或者采用短柱低温。虽然达到了二者分离的目的,但大大延长了需同时分析的^-N、CH的溜出时间,相应地降低了检测灵敏度。
关键词 高纯气体分析 高效色谱柱
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高纯氯气及应用 被引量:1
11
作者 孔祥芝 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 1991年第12期29-30,共2页
一、前言信息、生物、新材料三大技术已成为发达国家激烈竞争的主战场。新材料技术既是高技术发展的物质基础,又是现有生产技术的重要支柱,因而,已引起各国高度重视。
关键词 氯气 微电子 光纤 超导材料
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40Mn2钢的强韧化处理及气瓶的低温爆破
12
作者 金巨年 由宏新 +2 位作者 张儒杰 刘大新 王玲 《压力容器》 1989年第2期30-34,共5页
正火40Mn2钢的低温冲击韧性较差,不符合寒冷地区气瓶使用要求。本文作者采用二次正火对气瓶进行改性热处理,并用自建的低温爆破装置对一次、二次正火的气瓶进行-50℃低温爆破。结果表明,二次正火后的性能优于一次正火的气瓶,前者不仅具... 正火40Mn2钢的低温冲击韧性较差,不符合寒冷地区气瓶使用要求。本文作者采用二次正火对气瓶进行改性热处理,并用自建的低温爆破装置对一次、二次正火的气瓶进行-50℃低温爆破。结果表明,二次正火后的性能优于一次正火的气瓶,前者不仅具有较高的强度,而且具有良好的塑性和低温安全性能,说明选用二次正火对40Mn2气瓶进行热处理,以改善气瓶的低温性能,已获得初步成功,并为转入生产准备了条件。 展开更多
关键词 40MN2钢 热处理 气瓶 低温爆破
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国内外电子气体技术进展
13
作者 梁国仑 申屠棠 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 1991年第9期4-10,20,共8页
本文综述了国外兆位集成电路制造用气体品种与纯度标准、MO源材料的开发、电子气体配套器件、电子气体技术进展。指出国内尚未开发出ULSI级气体,在纯化技术、气瓶及管线内表面处理技术、分析检测与安全技术特别是供气技术上与国外水平... 本文综述了国外兆位集成电路制造用气体品种与纯度标准、MO源材料的开发、电子气体配套器件、电子气体技术进展。指出国内尚未开发出ULSI级气体,在纯化技术、气瓶及管线内表面处理技术、分析检测与安全技术特别是供气技术上与国外水平有一定差距。 展开更多
关键词 电子气体 MO源 工业气体
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国外电子气体供气系统洁净技术
14
作者 梁国仑 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 1991年第2期31-35,共5页
电子气体是发展大规模、超大规模和兆位级集成电路必不可少的材料。目前国外256K DRAM(动态存取存储器)已进入成熟期,1兆位DRAM进入全盛期,4兆位DRAM已正式销售,1987年首先由日本开发成功16兆位DRAM。为适应IC(集成电路)发展对材料的需... 电子气体是发展大规模、超大规模和兆位级集成电路必不可少的材料。目前国外256K DRAM(动态存取存储器)已进入成熟期,1兆位DRAM进入全盛期,4兆位DRAM已正式销售,1987年首先由日本开发成功16兆位DRAM。为适应IC(集成电路)发展对材料的需求,国外许多特种气体公司先后开发出电子级、超大规模集成电路级(VLSI)和兆位级电子气体。线宽进入亚微米级后,尘埃、金属粒子污染问题更为人们所关注。本文简介粒子污染及其洁净技术的进展。一、尘埃和金属粒子源及其对半导体器件质量的影响在用于制造半导体器件的气体中。 展开更多
关键词 国外 电子气体 供气系统 集成电路
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日本工业气体及特种气体市场概况
15
作者 梁国仑 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 1993年第8期6-11,共6页
一、工业气体的应用领域目前,工业气体主要用于7个工业部门。1.半导体工业日本半导体制造商不仅制造集成电路芯片,而且还利用这些芯片来制造各种电气设备。1990年,半导体工业用气体中氮气约占70%,主要用于吹扫及作为运载气体。年交付量... 一、工业气体的应用领域目前,工业气体主要用于7个工业部门。1.半导体工业日本半导体制造商不仅制造集成电路芯片,而且还利用这些芯片来制造各种电气设备。1990年,半导体工业用气体中氮气约占70%,主要用于吹扫及作为运载气体。年交付量约11亿 m^3,增长10%。现场装置供气约占氮气供应总量的52%。当集成电路线宽进入亚微米级后,对气体纯度提出更严格要求。1991年8月,NTT 研究与开发中心决定在他们的研究工作中使用7N氮气。对于16MDRAM,IBM 已采用超高纯氮,由帝国氧气公司供应8N 氮气。大阪氧气公司、大同氧气公司均向用户供应8N 氮气。日本氧气公司,Shinyo 氧气公司采用双级精馏设备,向用户提供6~9N 超高纯液氮。 展开更多
关键词 特种气体 日本 工业气体
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空心阴极灯直接光谱分析氯离子 被引量:1
16
作者 景桂兰 丛黎华 安春明 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS 1982年第Z2期294-295,共2页
由于氯元素的激发电位高,要用特殊的光源对它进行分析。我们用动态平衡式空心阴极灯光源,实现了对氯元素的光谱分析。选用了如下工作条件:
关键词 空心阴极 光源 光明 氧化物阴极 辐射源 离子电极 离子选择电极 阴离子 氯离子
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有机高分子绝热材料保温工程的火灾和预防 被引量:2
17
作者 马溥 李新士 《消防科技》 1991年第1期45-47,共3页
1 有机高分子绝热材料的火灾危险性 1987年7月,大连某2000t硬质聚氨酯泡沫塑料喷涂冰库发生重大火灾。起火原因是,在保温施工结束后安装制冷排管,用气焊烤管缩口,由于未采取防火措施,高温引燃硬质聚氨酯泡沫塑料保温层。作业点位于距地... 1 有机高分子绝热材料的火灾危险性 1987年7月,大连某2000t硬质聚氨酯泡沫塑料喷涂冰库发生重大火灾。起火原因是,在保温施工结束后安装制冷排管,用气焊烤管缩口,由于未采取防火措施,高温引燃硬质聚氨酯泡沫塑料保温层。作业点位于距地面9m高的吊顶管排处,附近未备灭火器材,无法扑救,施工人员只好撤离。10min后首批消防车赶赴现场。 展开更多
关键词 保温工程 高分子 绝热材料 火灾
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高纯金属有机化合物(MO源)研制新进展
18
作者 曾德辉 李刚 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 1992年第10期16-21,共6页
高纯金属有机化合物(MO)可作为六类高新材料的原材料。MOCVD(金属有机化学汽相淀积)和CBE(化学分子束外延)工艺所需的MO源(Source)和掺杂剂是其主要用途之一。
关键词 金属有机化合物 半导体 薄膜 MO源 MOCVD工艺
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液氮的应用
19
作者 王荣荫 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 1990年第11期33-36,共4页
<正> 一、前言利用液氮的低温(77K)和氮气的惰性,可将其用作致冷剂和防氧化保护气。由于氮气无毒、不污染环境和来源丰富,且其生产与液化技术已经成熟,所以,液氮被广泛用于各个领域。我国现有10000标米~3/时以上的制氧机约300套,... <正> 一、前言利用液氮的低温(77K)和氮气的惰性,可将其用作致冷剂和防氧化保护气。由于氮气无毒、不污染环境和来源丰富,且其生产与液化技术已经成熟,所以,液氮被广泛用于各个领域。我国现有10000标米~3/时以上的制氧机约300套,每年副产氮气38.4亿米~3,绝大部分被放空。若将这些氮气回收利用,按0.5千瓦时/标米~3氧计,氧氮能耗各占一半,则每年可回收9.6亿度电,折合标准煤270万吨, 展开更多
关键词 液氮 应用
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填料塔新型喷淋器——离心式喷头
20
作者 周祥义 《化学工程》 CAS CSCD 北大核心 1989年第6期74-75,共2页
本文介绍填料塔内向填料上喷淋液体的离心式喷头。它的突出优点是喷淋均匀,不易堵塞,操作稳定,能提高填料塔效率,现有150,100和50m^(?)/h三种设计规格。下面通过它与其它形式喷淋器的比较,以说明离心式喷头的优越性。
关键词 填料塔 喷啉器 离心式喷头
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