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磁控溅射制备横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜
被引量：
7
1
作者
涂昱淳
宋竹青
+6 位作者
黄秋实
朱京涛
徐敬
王占山
李乙洲
刘佳琪
张力
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第9期2419-2422,共4页
采用磁控溅射方法在Si基板上镀制了横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜。以X射线掠入射反射测量了横向梯度多层膜的膜系结构,在基板65mm长度范围内,多层膜周期从8.21nm线性减小到6.57nm,周期梯度为0.03nm/mm。国家同步辐射实验室反射率计的...
采用磁控溅射方法在Si基板上镀制了横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜。以X射线掠入射反射测量了横向梯度多层膜的膜系结构,在基板65mm长度范围内,多层膜周期从8.21nm线性减小到6.57nm,周期梯度为0.03nm/mm。国家同步辐射实验室反射率计的反射率测试结果表明:该横向梯度分布周期多层膜上不同位置,能反射在13.3～15.9nm波段范围内不同波长的极紫外光,反射率为60%～65%。
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关键词
MO/SI多层膜
磁控溅射
梯度多层膜
反射率
同步辐射
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职称材料
磁控溅射方法制备直径120mm高均匀性Mo/Si多层膜
被引量：
4
2
作者
潘磊
王晓强
+7 位作者
张众
朱京涛
王占山
李乙洲
李宏杰
王道荣
赵巨岩
陆伟
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第7期1535-1538,共4页
为满足极紫外、软X射线和X射线大口径多层膜反射镜的需求,采用基板扫掠过矩形靶材表面的镀膜方法,在直径120 mm的平面基板上镀制了Mo/Si周期多层膜。通过调整基板扫掠过矩形靶材表面的速率修正了薄膜的沉积速率,极大地提高了薄膜厚度的...
为满足极紫外、软X射线和X射线大口径多层膜反射镜的需求,采用基板扫掠过矩形靶材表面的镀膜方法,在直径120 mm的平面基板上镀制了Mo/Si周期多层膜。通过调整基板扫掠过矩形靶材表面的速率修正了薄膜的沉积速率,极大地提高了薄膜厚度的均匀性。采用X射线衍射仪对反射镜不同位置多层膜周期厚度进行了测量,结果表明,在直径120 mm范围内,Mo/Si多层膜周期厚度的均匀性达到了0.26%。同步辐射测量多层膜样品不同位置处的反射率,结果表明,在直径120 mm范围内,多层膜的膜层厚度均匀,在入射角10°时13.75 nm波长处平均反射率为66.82%。
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关键词
MO/SI多层膜
磁控溅射
均匀性
反射率
同步辐射
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职称材料
题名
磁控溅射制备横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜
被引量：
7
1
作者
涂昱淳
宋竹青
黄秋实
朱京涛
徐敬
王占山
李乙洲
刘佳琪
张力
机构
同济大学
物理
系精密光学工程技术
研究
所
中国运载火箭研究院试验物理与计算数学实验室
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第9期2419-2422,共4页
基金
国家自然科学基金委员会-中国工程物理研究院联合基金项目(10876023)
国家自然科学基金项目(10905042)
+1 种基金
上海市科委优秀学科带头人项目(09XD1404000)
科技部国际交流与合作专项项目(2008DFA01920)
文摘
采用磁控溅射方法在Si基板上镀制了横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜。以X射线掠入射反射测量了横向梯度多层膜的膜系结构,在基板65mm长度范围内,多层膜周期从8.21nm线性减小到6.57nm,周期梯度为0.03nm/mm。国家同步辐射实验室反射率计的反射率测试结果表明:该横向梯度分布周期多层膜上不同位置,能反射在13.3～15.9nm波段范围内不同波长的极紫外光,反射率为60%～65%。
关键词
MO/SI多层膜
磁控溅射
梯度多层膜
反射率
同步辐射
Keywords
Mo/Si multilayer
magnetron sputtering
laterally graded multilayer
reflectivity
synchrotron radiation
分类号
O434 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
磁控溅射方法制备直径120mm高均匀性Mo/Si多层膜
被引量：
4
2
作者
潘磊
王晓强
张众
朱京涛
王占山
李乙洲
李宏杰
王道荣
赵巨岩
陆伟
机构
同济大学
物理
系精密光学工程技术
研究
所
中国运载火箭研究院试验物理与计算数学实验室
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第7期1535-1538,共4页
基金
国家自然科学基金项目(10825521,10876023,10905042)
国家高技术发展计划项目
+3 种基金
上海市自然科学基金项目(09ZR1434300)
上海市科委纳米计划项目(0952nm06900)
上海市教育发展基金会晨光计划项目(2008CG25)
同济大学青年优秀人才培养计划项目
文摘
为满足极紫外、软X射线和X射线大口径多层膜反射镜的需求,采用基板扫掠过矩形靶材表面的镀膜方法,在直径120 mm的平面基板上镀制了Mo/Si周期多层膜。通过调整基板扫掠过矩形靶材表面的速率修正了薄膜的沉积速率,极大地提高了薄膜厚度的均匀性。采用X射线衍射仪对反射镜不同位置多层膜周期厚度进行了测量,结果表明,在直径120 mm范围内,Mo/Si多层膜周期厚度的均匀性达到了0.26%。同步辐射测量多层膜样品不同位置处的反射率,结果表明,在直径120 mm范围内,多层膜的膜层厚度均匀,在入射角10°时13.75 nm波长处平均反射率为66.82%。
关键词
MO/SI多层膜
磁控溅射
均匀性
反射率
同步辐射
Keywords
Mo/Si multilayer
magnelron sputtering
uniformity
reflectivity
synchrotron radiation
分类号
O434 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
磁控溅射制备横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜
涂昱淳
宋竹青
黄秋实
朱京涛
徐敬
王占山
李乙洲
刘佳琪
张力
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
7
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职称材料
2
磁控溅射方法制备直径120mm高均匀性Mo/Si多层膜
潘磊
王晓强
张众
朱京涛
王占山
李乙洲
李宏杰
王道荣
赵巨岩
陆伟
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
4
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职称材料
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