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色谱/质谱联用法测定NF_3中微量CF_4 被引量:13
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作者 张洪彬 韦桂欢 周升如 《质谱学报》 EI CAS CSCD 2001年第3期51-55,共5页
本文利用色谱 质谱联用技术对NF3中微量CF4进行了测定。采用选择离子监测 (SIM)方式测定 ,定量选择离子m z为 69,方法简单、准确、选择性好 ,CF4浓度在 55~ 550 0mg m3范围内与峰面积呈线性关系 ,方法最低检测浓度5.5mg m3,相对标准偏... 本文利用色谱 质谱联用技术对NF3中微量CF4进行了测定。采用选择离子监测 (SIM)方式测定 ,定量选择离子m z为 69,方法简单、准确、选择性好 ,CF4浓度在 55~ 550 0mg m3范围内与峰面积呈线性关系 ,方法最低检测浓度5.5mg m3,相对标准偏差 5.6%。 展开更多
关键词 色谱 质谱 选择离子监测 NF3 CF4 半导体 刻蚀 测定 联用技术 测定 刻蚀剂 电子工业 三氟化氮 四氟化碳
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