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色谱/质谱联用法测定NF_3中微量CF_4
被引量:
13
1
作者
张洪彬
韦桂欢
周升如
《质谱学报》
EI
CAS
CSCD
2001年第3期51-55,共5页
本文利用色谱 质谱联用技术对NF3中微量CF4进行了测定。采用选择离子监测 (SIM)方式测定 ,定量选择离子m z为 69,方法简单、准确、选择性好 ,CF4浓度在 55~ 550 0mg m3范围内与峰面积呈线性关系 ,方法最低检测浓度5.5mg m3,相对标准偏...
本文利用色谱 质谱联用技术对NF3中微量CF4进行了测定。采用选择离子监测 (SIM)方式测定 ,定量选择离子m z为 69,方法简单、准确、选择性好 ,CF4浓度在 55~ 550 0mg m3范围内与峰面积呈线性关系 ,方法最低检测浓度5.5mg m3,相对标准偏差 5.6%。
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关键词
色谱
质谱
选择离子监测
NF3
CF4
半导体
刻蚀
测定
联用技术
测定
刻蚀剂
电子工业
三氟化氮
四氟化碳
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职称材料
题名
色谱/质谱联用法测定NF_3中微量CF_4
被引量:
13
1
作者
张洪彬
韦桂欢
周升如
机构
中国船舶重工集团公司七院第七一八研究所
出处
《质谱学报》
EI
CAS
CSCD
2001年第3期51-55,共5页
文摘
本文利用色谱 质谱联用技术对NF3中微量CF4进行了测定。采用选择离子监测 (SIM)方式测定 ,定量选择离子m z为 69,方法简单、准确、选择性好 ,CF4浓度在 55~ 550 0mg m3范围内与峰面积呈线性关系 ,方法最低检测浓度5.5mg m3,相对标准偏差 5.6%。
关键词
色谱
质谱
选择离子监测
NF3
CF4
半导体
刻蚀
测定
联用技术
测定
刻蚀剂
电子工业
三氟化氮
四氟化碳
Keywords
GC/MS, select ion monitor (SIM), NF 3, CF 4
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
发文年
被引量
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1
色谱/质谱联用法测定NF_3中微量CF_4
张洪彬
韦桂欢
周升如
《质谱学报》
EI
CAS
CSCD
2001
13
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