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表面镀膜调控二次电子发射的研究进展
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作者 万雪曼 杨晶 +5 位作者 胡天存 何鋆 杨兆伦 张雨婷 张娜 崔万照 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第24期31-39,98,共10页
二次电子发射现象属于材料表面的一种特殊物理效应,广泛存在于显微分析和信号探测领域、空间大功率微波部件、大型粒子加速器以及高压真空绝缘部件中。表面镀膜技术是二次电子发射调控的重要研究方向之一,通过引入镀层材料来改变衬底的... 二次电子发射现象属于材料表面的一种特殊物理效应,广泛存在于显微分析和信号探测领域、空间大功率微波部件、大型粒子加速器以及高压真空绝缘部件中。表面镀膜技术是二次电子发射调控的重要研究方向之一,通过引入镀层材料来改变衬底的表面状态,从而影响材料对电子的散射能力。从镀膜材料二次电子发射的物理机制和理论模型出发,分析了半经验物理模型的适用条件及优化方向。随后,根据二次电子发射特性应用场景的不同,对常用的镀层材料及其调控方法进行了文献调研和综合分析,从镀膜工艺和显微结构等方面进行了讨论。对电子倍增领域而言,镀覆Al_(2)O_(3)、MgO和Zn O等氧化物薄膜作为二次电子倍增层材料,可以提高器件的探测效率。对空间大功率微波部件而言,镀覆碳化物、氮化物等低SEY的材料,可以降低材料的二次电子发射能力,避免由电子倍增所引起微放电效应。最后,总结了镀膜结构在调控二次电子发射特性的研究进展,并对其未来发展进行了合理展望。 展开更多
关键词 二次电子发射特性 二次电子发射系数调控 表面镀膜技术 表面结构 纳米薄膜
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