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微波等离子体化学气相淀积纳米级 ZrO_2薄膜
被引量：
4
1
作者
曹传宝
喻维杰
+1 位作者
彭定坤
孟广耀
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1992年第3期323-328,共6页
以β-二酮螯合物 Zr(DPM)_4为挥发性源,利用微波等离子体化学气相淀积方法成功地在低温(<300℃)下合成了 ZrO_2薄膜,SEM 观测表明薄膜形貌呈细粒结构,其晶粒尺寸为纳米量级.XRD指出,淀积物中除单斜相 ZrO_2外,还存在亚稳态的四方相.X...
以β-二酮螯合物 Zr(DPM)_4为挥发性源,利用微波等离子体化学气相淀积方法成功地在低温(<300℃)下合成了 ZrO_2薄膜,SEM 观测表明薄膜形貌呈细粒结构,其晶粒尺寸为纳米量级.XRD指出,淀积物中除单斜相 ZrO_2外,还存在亚稳态的四方相.XPS 测量了 Zr3d 的电子结合能,发现较之标准 ZrO_2样品低约0.5eV,XPS 定量分析显示薄膜中含有一定量的 C 及过量的 O(?)对其原因以及在不同的淀积条件、薄膜的形成机制等进行了讨论.
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关键词
薄膜
化学气相淀积
氧化锆
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职称材料
题名
微波等离子体化学气相淀积纳米级 ZrO_2薄膜
被引量：
4
1
作者
曹传宝
喻维杰
彭定坤
孟广耀
机构
中国科技大学材料科学与工程系中国科学院中国科技大学结构分析研究实验室
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1992年第3期323-328,共6页
文摘
以β-二酮螯合物 Zr(DPM)_4为挥发性源,利用微波等离子体化学气相淀积方法成功地在低温(<300℃)下合成了 ZrO_2薄膜,SEM 观测表明薄膜形貌呈细粒结构,其晶粒尺寸为纳米量级.XRD指出,淀积物中除单斜相 ZrO_2外,还存在亚稳态的四方相.XPS 测量了 Zr3d 的电子结合能,发现较之标准 ZrO_2样品低约0.5eV,XPS 定量分析显示薄膜中含有一定量的 C 及过量的 O(?)对其原因以及在不同的淀积条件、薄膜的形成机制等进行了讨论.
关键词
薄膜
化学气相淀积
氧化锆
Keywords
ZrO_2 films
Microwave plasma CVD
分类号
TQ174.758 [化学工程—陶瓷工业]
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作者
出处
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被引量
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1
微波等离子体化学气相淀积纳米级 ZrO_2薄膜
曹传宝
喻维杰
彭定坤
孟广耀
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1992
4
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