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窄光谱带宽X射线刻蚀多层膜光栅
被引量：
3
1
作者
吴文娟
王占山
+6 位作者
秦树基
王风丽
王洪昌
张众
陈玲燕
徐向东
付绍军
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
2004年第2期226-230,共5页
结合X射线荧光分析和同步辐射单色器对窄光谱带宽多层膜的需求,开展了窄光谱带宽刻蚀多层膜光栅的理论和实验研究。用平均密度法从理论上阐明将多层膜刻蚀成不同刻蚀比的多层膜光栅后,光谱分辨率将得到提高。用磁控溅射方法制备了W/C多...
结合X射线荧光分析和同步辐射单色器对窄光谱带宽多层膜的需求,开展了窄光谱带宽刻蚀多层膜光栅的理论和实验研究。用平均密度法从理论上阐明将多层膜刻蚀成不同刻蚀比的多层膜光栅后,光谱分辨率将得到提高。用磁控溅射方法制备了W/C多层膜,并用常规的光刻工艺对其进行刻蚀,得到了刻蚀后的多层膜光栅。掠入射X射线衍射测量表明,刻蚀后多层膜的衍射峰位置向小角方向移动,多层膜光栅没有改变剩余多层膜的结构,而且带宽减小,光谱分辨率得到提高,说明实验采用的工艺方法和工艺路线可以满足制作窄光谱带宽刻蚀多层膜光栅的要求,为今后进一步研究实用化元件打下了基础。
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关键词
多层膜
光栅
带宽
刻蚀
光谱分辨率
刻蚀比
X射线荧光分析
同步辐射
单色器
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职称材料
题名
窄光谱带宽X射线刻蚀多层膜光栅
被引量：
3
1
作者
吴文娟
王占山
秦树基
王风丽
王洪昌
张众
陈玲燕
徐向东
付绍军
机构
同济
大学
精密光学工程技术研究所物理系
中国科技大学同步辐射国家重点实验室
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
2004年第2期226-230,共5页
基金
国家自然科学基金资助课题(No.60378021)
国家863 804 7 5资助课题
文摘
结合X射线荧光分析和同步辐射单色器对窄光谱带宽多层膜的需求,开展了窄光谱带宽刻蚀多层膜光栅的理论和实验研究。用平均密度法从理论上阐明将多层膜刻蚀成不同刻蚀比的多层膜光栅后,光谱分辨率将得到提高。用磁控溅射方法制备了W/C多层膜,并用常规的光刻工艺对其进行刻蚀,得到了刻蚀后的多层膜光栅。掠入射X射线衍射测量表明,刻蚀后多层膜的衍射峰位置向小角方向移动,多层膜光栅没有改变剩余多层膜的结构,而且带宽减小,光谱分辨率得到提高,说明实验采用的工艺方法和工艺路线可以满足制作窄光谱带宽刻蚀多层膜光栅的要求,为今后进一步研究实用化元件打下了基础。
关键词
多层膜
光栅
带宽
刻蚀
光谱分辨率
刻蚀比
X射线荧光分析
同步辐射
单色器
Keywords
multilayer
grating
spectral band
etching
spectral resolution
etched ratio
分类号
O484.41 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
窄光谱带宽X射线刻蚀多层膜光栅
吴文娟
王占山
秦树基
王风丽
王洪昌
张众
陈玲燕
徐向东
付绍军
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
2004
3
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