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亚波长介质光栅的制作误差分析 被引量:21
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作者 曹召良 卢振武 +3 位作者 李凤有 孙强 任智斌 赵晶丽 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期76-80,共5页
利用严格耦合波理论 (RCWA )分析了方向误差和面形误差对亚波长光栅衍射效率的影响 通过分析发现 ,方向误差和图案边缘钝化对光栅的衍射效率影响不大 ,而刻蚀过程中由于侧壁倾斜而产生的面形误差对光栅的衍射效率影响非常大 在制作亚... 利用严格耦合波理论 (RCWA )分析了方向误差和面形误差对亚波长光栅衍射效率的影响 通过分析发现 ,方向误差和图案边缘钝化对光栅的衍射效率影响不大 ,而刻蚀过程中由于侧壁倾斜而产生的面形误差对光栅的衍射效率影响非常大 在制作亚波长光栅时 ,可以通过选取合理的刻蚀系统或增大占空比的方法来避免基底型误差的出现 该结论对于制作亚波长光栅具有重要的指导作用 同时根据得出的结论 ,选用专门用于硅深刻蚀的等离子体辅助刻蚀系统制作出了红外30 μm亚波长抗反射光栅 ,检测结果显示 。 展开更多
关键词 亚波长 光栅 方向误差 面形误差 RCWA 衍射效率
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红外30μm亚波长抗反射光栅的制作 被引量:7
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作者 曹召良 卢振武 +3 位作者 张平 王淑荣 赵晶丽 李凤有 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期6-10,共5页
利用严格耦合波理论设计出亚波长抗反射光栅 ,并通过等离子体辅助刻蚀制作出了立方状抗反抗光栅 .测量结果发现该光栅具有良好的增透特性 ,并且测得光栅参数和理论设计参数基本一致 ,表明等离子体辅助刻蚀是制作深光栅的有效方法 .对实... 利用严格耦合波理论设计出亚波长抗反射光栅 ,并通过等离子体辅助刻蚀制作出了立方状抗反抗光栅 .测量结果发现该光栅具有良好的增透特性 ,并且测得光栅参数和理论设计参数基本一致 ,表明等离子体辅助刻蚀是制作深光栅的有效方法 .对实验结果进行了分析和讨论 ,结果表明 。 展开更多
关键词 亚波长 抗反射光栅 严格耦合波理论 红外技术 等离子体辅助刻蚀 光栅参数 衍射光学元件
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