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微束斑RHEED类平行束电子枪设计
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作者 赵伟霞 史丽娜 +2 位作者 刘俊标 殷伯华 韩立 《光学精密工程》 北大核心 2025年第12期1876-1888,共13页
针对高分辨率反射式高能电子衍射仪(RHEED)在微电子制造与表面分析领域的应用需求,而且长工作距离、微束斑、小束半角的电子枪是实现RHEED高分辨检测的关键核心部件,研制了微束斑的RHEED类平行束电子枪,分析了电子枪的电子光学系统特性... 针对高分辨率反射式高能电子衍射仪(RHEED)在微电子制造与表面分析领域的应用需求,而且长工作距离、微束斑、小束半角的电子枪是实现RHEED高分辨检测的关键核心部件,研制了微束斑的RHEED类平行束电子枪,分析了电子枪的电子光学系统特性,采用电子光学仿真软件仿真设计了低像差聚焦透镜;搭建了实验平台对研制的电子枪进行了束斑直径、束流和束半角性能测试与高定向热解石墨(HOPG)样品的衍射成像测试。实验结果表明:在工作距离500 mm下,RHEED类平行束电子枪的束斑直径为47.1μm(加速电压30 kV),发射束流与束半角分别为144.96μA,0.289 mrad(加速电压15 kV),在HOPG样品上获得了清晰的强度与晶体结构因子相对应的衍射斑点。 展开更多
关键词 电子光学 反射式高能电子衍射 电子枪 类平行电子束
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微型阵列束闸电子束偏转特性研究 被引量:2
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作者 张雨露 张利新 +3 位作者 刘俊标 王文博 殷伯华 韩立 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2023年第2期171-179,共9页
为了降低微型阵列式束闸边缘场和邻近电场对多束电子束的偏转影响和串扰,本文以3×3阵列束闸为研究对象,利用COMSOL Multiphysics中的静电和带电粒子追踪模块,研究束闸长宽比、隔离接地极和束闸上方增加接地层对电子束偏转的影响。... 为了降低微型阵列式束闸边缘场和邻近电场对多束电子束的偏转影响和串扰,本文以3×3阵列束闸为研究对象,利用COMSOL Multiphysics中的静电和带电粒子追踪模块,研究束闸长宽比、隔离接地极和束闸上方增加接地层对电子束偏转的影响。研究表明,在长宽比不变的情况下,边缘场对电子束偏转的影响在总偏转量中的占比与偏转电压无关;而偏转极板的长宽比越大越有利于精确控制电子束的偏转;通过优化隔离接地电极结构与参数,可减小束闸之间的串扰引起的束斑模糊问题。为了减小边缘场和邻近电场对电子束偏转的影响,本研究分析得出,如果束闸上方接地层的作用范围小于100μm,可在一定程度上抑制串扰的影响。同时,分析表明将接地层上圆孔改为方孔后,也在一定程度上减小了不平衡电场带来的影响。 展开更多
关键词 多束电子光学 微型阵列束闸 边缘场 串扰 带电粒子追踪
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多束电子光学系统的研究现状与发展 被引量:1
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作者 张利新 赵伟霞 +3 位作者 陈代谢 张雨露 刘俊标 韩立 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2023年第3期376-385,共10页
本文对多束电子光学系统的国内外研究现状进行了详细调研,总结了各个系统的特点以及应用领域。多束电子光学系统在生命科学领域、材料领域以及半导体领域具有广泛的应用价值,本文指出了我国需要开展这方面研究的必要性。同时,本文介绍... 本文对多束电子光学系统的国内外研究现状进行了详细调研,总结了各个系统的特点以及应用领域。多束电子光学系统在生命科学领域、材料领域以及半导体领域具有广泛的应用价值,本文指出了我国需要开展这方面研究的必要性。同时,本文介绍了国内在多束电子光学领域的研究进展。 展开更多
关键词 电子光学 多束电子光学 高通量 扫描电子显微镜
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微型阵列束闸设计与实验 被引量:2
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作者 张利新 孙博彤 +3 位作者 刘星云 殷伯华 刘俊标 韩立 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第13期2061-2069,共9页
微型阵列束闸是多束电子束曝光系统的关键部件,用于控制多束电子束的开/关,实现复杂图形的快速曝光。对3×3微型阵列束闸进行了设计与制作,并进行了多束电子束偏转实验研究。对阵列束闸结构进行了优化设计,并基于MEMS加工工艺成功... 微型阵列束闸是多束电子束曝光系统的关键部件,用于控制多束电子束的开/关,实现复杂图形的快速曝光。对3×3微型阵列束闸进行了设计与制作,并进行了多束电子束偏转实验研究。对阵列束闸结构进行了优化设计,并基于MEMS加工工艺成功制备了阵列束闸。针对阵列束闸的控制要求,设计了可单独控制的阵列束闸控制器。将控制器与阵列束闸进行连接,验证了控制器的偏转速度与功能完整性。最后,在多束电子束测试平台对阵列束闸进行了偏转实验,研究串扰对电子束偏转的影响。实验结果表明:阵列束闸控制器的偏转速度达到43.5 MHz,大于设计值10 MHz;阵列束闸成功实现了单独控制电子束开和关,束闸的偏转距离在25~30μm之间,小于计算值43.29μm;串扰程度均小于3%。该阵列束闸已经具备多束电子束开/关控制功能,但在偏转精度,设计和加工工艺等方面还需进一步优化和完善。 展开更多
关键词 电子束曝光 阵列束闸 多束电子束 串扰 偏转速度
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多束电子源设计与实验
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作者 赵伟霞 白凌超 +3 位作者 张利新 刘俊标 殷伯华 韩立 《光学精密工程》 北大核心 2025年第5期741-750,共10页
为了提高扫描电子显微镜等单电子束设备的通量,开发了基于肖特基阴极的多束电子源系统,研究了准直透镜、分束板及微阵列静电透镜的设计方法与制备工艺。根据肖特基阴极发射特性进行了静电准直透镜的设计,仿真计算了准直束的电子光学性... 为了提高扫描电子显微镜等单电子束设备的通量,开发了基于肖特基阴极的多束电子源系统,研究了准直透镜、分束板及微阵列静电透镜的设计方法与制备工艺。根据肖特基阴极发射特性进行了静电准直透镜的设计,仿真计算了准直束的电子光学性能。基于MEMS加工工艺实现了3×3和10×10多孔阵列分束板的制备,开发了多孔多层器件装配系统并实现了微阵列静电透镜的高精度装配;搭建了多束电子源测试平台并进行了多束电子源的准直、分束与聚焦性能验证。结果表明:多束电子源的准直束范围为600μm,准直范围内的束流密度为4.11 A/m^(2)、均匀度为6.06%;实现了3×3分束且大小可调,聚焦后的子束束斑直径均值为5.32μm,束斑直径均匀度为5.91%,束流强度均匀度为4.36%,间距均匀度为3.06%,满足多电子束设备的设计要求。 展开更多
关键词 电子光学 多束电子源 肖特基发射 准直透镜 微阵列单电位透镜
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磁浸没热场发射电子枪
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作者 赵伟霞 张利新 +2 位作者 刘俊标 殷伯华 韩立 《光学精密工程》 北大核心 2025年第11期1700-1712,共13页
为了提高扫描电镜等设备的探针束流,设计了磁浸没式热场发射电子枪,可对电子枪阴极发射电子进行有效收集,提高有效的发射束流。对磁浸没热场发射电子枪的电子光学特性进行了理论分析,仿真对比了单极靴、双极靴轴向间隙、双极靴径向间隙... 为了提高扫描电镜等设备的探针束流,设计了磁浸没式热场发射电子枪,可对电子枪阴极发射电子进行有效收集,提高有效的发射束流。对磁浸没热场发射电子枪的电子光学特性进行了理论分析,仿真对比了单极靴、双极靴轴向间隙、双极靴径向间隙3种结构的磁透镜性能。基于双极靴轴向间隙结构的透镜设计了磁浸没式电子枪,仿真分析了束斑、束流、角束流密度、亮度等参数随浸没透镜的变化情况。基于实验平台对浸没透镜的磁场分布与磁浸没式电子枪的有效发射束流进行了测试。实验结果表明:浸没透镜磁场实际分布值与仿真值基本一致;在相同光阑尺寸下,磁浸没式电子枪的有效发射束流在3.3 kV低加速电压下为44.97 nA,23.5 kV高加速电压下为638.12 nA,与普通热场发射电子枪相比提高了约4倍。 展开更多
关键词 电子光学 热场发射电子枪 磁浸没透镜 双极靴透镜
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热压烧结及轧制工艺对CuCr/CNTs复合材料组织与性能的优化 被引量:4
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作者 李健 左婷婷 +5 位作者 薛江丽 茹亚东 赵兴科 高召顺 韩立 肖立业 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第2期2078-2085,共8页
基于电工材料高电导、高强度的发展需求,本工作通过粉末真空热压烧结成功制备出微量Cr元素掺杂的功能化碳纳米管增强铜基复合材料(CuCr/CNTs),系统研究了热压烧结及轧制工艺对复合材料电导率和力学性能的影响。研究发现,在烧结温度为90... 基于电工材料高电导、高强度的发展需求,本工作通过粉末真空热压烧结成功制备出微量Cr元素掺杂的功能化碳纳米管增强铜基复合材料(CuCr/CNTs),系统研究了热压烧结及轧制工艺对复合材料电导率和力学性能的影响。研究发现,在烧结温度为900℃、保温1 h、保压压力为50 MPa的工艺下,样品的电导率高达96.2%IACS,硬度为73.0HV。通过对微观组织与性能的分析,发现热压烧结工艺显著影响基体晶粒的尺寸以及界面处碳化物的数量,界面处适量Cr 3C 2纳米相的存在可以改善界面润湿性,增强界面结合,有利于电流传递和载荷传递。通过进一步冷轧,CNTs定向排列并均匀分散,样品的电导率和力学性能均有提升,在电导率保持96.6%IACS时,其屈服强度可达311 MPa,拉伸强度达到373 MPa,具有非常好的工程应用前景。 展开更多
关键词 Cu/CNTs复合材料 真空热压烧结 轧制 界面结构 电导率 力学性能
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