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15 TW激光与氮气作用产生稳定电子束的实验研究
1
作者
李毅飞
李大章
+4 位作者
王进光
朱常青
冯杰
何雨航
陈黎明
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第9期1621-1628,共8页
利用15TW激光脉冲,系统研究了基于电离化注入的激光尾波场加速。实验中,研究了等离子体密度、相互作用位置、激光脉宽以及激光能量对电子束的电荷量、发散角、指向性、能量以及产生概率的影响。将约400mJ、25fs的激光脉冲聚焦在喷嘴前沿...
利用15TW激光脉冲,系统研究了基于电离化注入的激光尾波场加速。实验中,研究了等离子体密度、相互作用位置、激光脉宽以及激光能量对电子束的电荷量、发散角、指向性、能量以及产生概率的影响。将约400mJ、25fs的激光脉冲聚焦在喷嘴前沿,等离子体密度约9×10^18cm^-3时,电子的产生概率高达100%,获得了水平(竖直)发散角(6.5±0.5)mrad((5.3±0.3)mrad)、水平(竖直)指向稳定性±1.2mrad(±0.7mrad)、峰值能量(135±8)MeV和电荷量(13.5±2.0)pC(>50MeV)的稳定电子束,为其应用奠定了基础。
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关键词
激光尾波场加速
电离化注入
高能电子束
电子加速器
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职称材料
基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术进展
被引量：
6
2
作者
张思琪
周思翰
+3 位作者
杨卓俊
许智
兰长勇
李春
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第1期12-30,共19页
基于空间光调制器的无掩膜光刻是光刻技术重要发展方向之一。近年来,随着数字微镜器件芯片集成度与性能的提高,数字微镜器件无掩膜光刻成为一种主要的数字光刻技术。由于可灰度调制的光反射式“数字掩膜”替代了传统光刻中使用的预制物...
基于空间光调制器的无掩膜光刻是光刻技术重要发展方向之一。近年来,随着数字微镜器件芯片集成度与性能的提高,数字微镜器件无掩膜光刻成为一种主要的数字光刻技术。由于可灰度调制的光反射式“数字掩膜”替代了传统光刻中使用的预制物理光掩膜版,该技术极大地简化了光刻制版流程,提高了光刻的灵活性,广泛应用于平面微纳器件、超材料、微流控器件、组织生物研究等领域。从数字无掩膜光刻原理出发,简要介绍了典型匀光照明系统结构与微缩投影系统结构,进而介绍了面向平面光刻的空间分辨率增强技术、灰度光刻技术以及三维微立体光刻技术的进展。最后,列举了几类典型的数字无掩膜光刻应用,并对其发展方向进行了展望。
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关键词
无掩膜光刻
空间光调制器
数字微镜器件
分辨率增强
灰度光刻
微立体光刻
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职称材料
题名
15 TW激光与氮气作用产生稳定电子束的实验研究
1
作者
李毅飞
李大章
王进光
朱常青
冯杰
何雨航
陈黎明
机构
中国科学院物理研究所
光
物理
重点
实验室
中国科学院
高能
物理
研究所
加速器中心
中国科学院物理研究所松山湖材料实验室
出处
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第9期1621-1628,共8页
基金
国家自然科学基金青年科学基金资助项目(11805266)
国家自然科学基金重点项目资助(11334013)
国家自然科学基金联合基金资助项目(U1530150)
文摘
利用15TW激光脉冲,系统研究了基于电离化注入的激光尾波场加速。实验中,研究了等离子体密度、相互作用位置、激光脉宽以及激光能量对电子束的电荷量、发散角、指向性、能量以及产生概率的影响。将约400mJ、25fs的激光脉冲聚焦在喷嘴前沿,等离子体密度约9×10^18cm^-3时,电子的产生概率高达100%,获得了水平(竖直)发散角(6.5±0.5)mrad((5.3±0.3)mrad)、水平(竖直)指向稳定性±1.2mrad(±0.7mrad)、峰值能量(135±8)MeV和电荷量(13.5±2.0)pC(>50MeV)的稳定电子束,为其应用奠定了基础。
关键词
激光尾波场加速
电离化注入
高能电子束
电子加速器
Keywords
laser wakefield acceleration
ionization injection
energetic electron beam
electron accelerator
分类号
O531 [理学—等离子体物理]
O538O539 [理学—等离子体物理]
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职称材料
题名
基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术进展
被引量：
6
2
作者
张思琪
周思翰
杨卓俊
许智
兰长勇
李春
机构
电子科技大学光电
科学
与工程
学院
中国科学院物理研究所松山湖材料实验室
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第1期12-30,共19页
基金
国家自然科学基金资助项目(No.61475030,No.61975024)。
文摘
基于空间光调制器的无掩膜光刻是光刻技术重要发展方向之一。近年来,随着数字微镜器件芯片集成度与性能的提高,数字微镜器件无掩膜光刻成为一种主要的数字光刻技术。由于可灰度调制的光反射式“数字掩膜”替代了传统光刻中使用的预制物理光掩膜版,该技术极大地简化了光刻制版流程,提高了光刻的灵活性,广泛应用于平面微纳器件、超材料、微流控器件、组织生物研究等领域。从数字无掩膜光刻原理出发,简要介绍了典型匀光照明系统结构与微缩投影系统结构,进而介绍了面向平面光刻的空间分辨率增强技术、灰度光刻技术以及三维微立体光刻技术的进展。最后,列举了几类典型的数字无掩膜光刻应用,并对其发展方向进行了展望。
关键词
无掩膜光刻
空间光调制器
数字微镜器件
分辨率增强
灰度光刻
微立体光刻
Keywords
maskless lithography
spatial light modulator
digital micromirror device
resolution enhancement
grayscale lithography
micro-stereo lithography
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
15 TW激光与氮气作用产生稳定电子束的实验研究
李毅飞
李大章
王进光
朱常青
冯杰
何雨航
陈黎明
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术进展
张思琪
周思翰
杨卓俊
许智
兰长勇
李春
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022
6
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职称材料
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