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高密度等离子刻蚀机中的等离子体诊断技术 被引量:1
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作者 王巍 叶甜春 +2 位作者 李兵 陈大鹏 刘明 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第3期13-17,共5页
等离子体诊断技术对于高密度等离子刻蚀过程的监控显得非常重要。讨论了几种主要的等离子体诊断技术:l a n g m u i r 探针,发射光谱法(O E S),激光诱导荧光法(L I F),光谱椭偏法,质谱法,并就其技术特点及在实际运用时面临的问题进行了... 等离子体诊断技术对于高密度等离子刻蚀过程的监控显得非常重要。讨论了几种主要的等离子体诊断技术:l a n g m u i r 探针,发射光谱法(O E S),激光诱导荧光法(L I F),光谱椭偏法,质谱法,并就其技术特点及在实际运用时面临的问题进行了详细的讨论。 展开更多
关键词 等离子体诊断技术 朗格谬尔探针 发射光谱法:激光诱导荧光法 光谱椭偏法 质谱法
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