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用相移掩模光刻技术制作大相对孔径二元透镜的研究
被引量：
1
1
作者
周静
黄婉云
陈宝钦
《北京师范大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
1995年第3期348-352,共5页
简述相移掩模的基本原理，提出了用相移掩模光刻技术制作大相对孔径的二元透镜的设想。通过数值模拟对相移掩模光刻技术做了探讨，给出了适合国内ｇ－线光刻机的相移掩模的设计参数。
关键词
相移掩模
光刻
透镜
二元透镜
制造
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职称材料
离子探针分析中质量干扰离子计数测量方法的研究
2
作者
冶宏振
孙慧龄
+1 位作者
李金荣
游俊富
《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1989年第4期387-392,共6页
因离子探针在测量Si 中注入杂质的浓度分布时不能将被测二次离子计数n_i(x_,t)、各种干扰离子(质量干扰离子、边缘效应离子及再沉积效应离子等)计数n_(in)(x_i,t)及仪器噪声计数n_n(x_i,t)分开,实测二次离子计数N_i(x_i,t)是三者之和。...
因离子探针在测量Si 中注入杂质的浓度分布时不能将被测二次离子计数n_i(x_,t)、各种干扰离子(质量干扰离子、边缘效应离子及再沉积效应离子等)计数n_(in)(x_i,t)及仪器噪声计数n_n(x_i,t)分开,实测二次离子计数N_i(x_i,t)是三者之和。按N_i(x_i,t)算出的注入杂质浓度分布常具有严重的误差,甚至是假象,故测出各种干扰离子计数及n_n(x_i,t),并将其与n_i(x_i,t)分开是待解决的重要课题。本文提出了一个测量质量干扰离子计数和仪器噪声计数的分析方法,并依此首次测出了当对要测二次离子(11)~B^+检测时所遇到的质量干扰离子计数和仪器噪声计数的统计平均值(?)_m((11)~B^+,t)与(?)_n((11)~B^+,t)。实验发现两者皆与每道采集时间t 成正比。测出(?)_m((11)~B^+,t)与(?)_n((11)~B^+,t)为测量其它干扰离子计数创造了必要条件。文后对质量干扰离子的来源和组成作了说明。
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关键词
离子探针
干扰
离子
计数
测量
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职称材料
相移掩模方法及其一维数值模拟
被引量：
1
3
作者
周静
龙品
+3 位作者
刘大禾
徐大雄
陈宝钦
梁俊厚
《高技术通讯》
CAS
CSCD
1994年第11期24-28,共5页
相移掩模方法是一种新的光刻技术，它可以提高现有光刻设备的分辨率，使超大规模集成电路及二元光学的制作迈上一个新台阶。本文介绍了相移掩模方法的基本原理，用部分相干光成象理论分析了用于光刻的投影照相系统的成象特性，导出了一...
相移掩模方法是一种新的光刻技术，它可以提高现有光刻设备的分辨率，使超大规模集成电路及二元光学的制作迈上一个新台阶。本文介绍了相移掩模方法的基本原理，用部分相干光成象理论分析了用于光刻的投影照相系统的成象特性，导出了一维成象的简化公式，对一维光栅结构进行了计算机数值模拟并给出了模拟结果。
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关键词
相移掩模
光刻
数值模拟
超大规模
集成电路
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职称材料
题名
用相移掩模光刻技术制作大相对孔径二元透镜的研究
被引量：
1
1
作者
周静
黄婉云
陈宝钦
机构
北京师范大学物理学系
出处
《北京师范大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
1995年第3期348-352,共5页
基金
国家自然科学基金
文摘
简述相移掩模的基本原理，提出了用相移掩模光刻技术制作大相对孔径的二元透镜的设想。通过数值模拟对相移掩模光刻技术做了探讨，给出了适合国内ｇ－线光刻机的相移掩模的设计参数。
关键词
相移掩模
光刻
透镜
二元透镜
制造
Keywords
phase shifting mask
photolithography
binary optics
lens
分类号
O435.2 [机械工程—光学工程]
TH744.03 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
离子探针分析中质量干扰离子计数测量方法的研究
2
作者
冶宏振
孙慧龄
李金荣
游俊富
机构
中国科学院微电子中心研究部
上海测试技术
研究
所
出处
《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1989年第4期387-392,共6页
文摘
因离子探针在测量Si 中注入杂质的浓度分布时不能将被测二次离子计数n_i(x_,t)、各种干扰离子(质量干扰离子、边缘效应离子及再沉积效应离子等)计数n_(in)(x_i,t)及仪器噪声计数n_n(x_i,t)分开,实测二次离子计数N_i(x_i,t)是三者之和。按N_i(x_i,t)算出的注入杂质浓度分布常具有严重的误差,甚至是假象,故测出各种干扰离子计数及n_n(x_i,t),并将其与n_i(x_i,t)分开是待解决的重要课题。本文提出了一个测量质量干扰离子计数和仪器噪声计数的分析方法,并依此首次测出了当对要测二次离子(11)~B^+检测时所遇到的质量干扰离子计数和仪器噪声计数的统计平均值(?)_m((11)~B^+,t)与(?)_n((11)~B^+,t)。实验发现两者皆与每道采集时间t 成正比。测出(?)_m((11)~B^+,t)与(?)_n((11)~B^+,t)为测量其它干扰离子计数创造了必要条件。文后对质量干扰离子的来源和组成作了说明。
关键词
离子探针
干扰
离子
计数
测量
分类号
TG115.215 [金属学及工艺—物理冶金]
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职称材料
题名
相移掩模方法及其一维数值模拟
被引量：
1
3
作者
周静
龙品
刘大禾
徐大雄
陈宝钦
梁俊厚
机构
北京邮电大学应用科技系
出处
《高技术通讯》
CAS
CSCD
1994年第11期24-28,共5页
基金
863计划资助项目
文摘
相移掩模方法是一种新的光刻技术，它可以提高现有光刻设备的分辨率，使超大规模集成电路及二元光学的制作迈上一个新台阶。本文介绍了相移掩模方法的基本原理，用部分相干光成象理论分析了用于光刻的投影照相系统的成象特性，导出了一维成象的简化公式，对一维光栅结构进行了计算机数值模拟并给出了模拟结果。
关键词
相移掩模
光刻
数值模拟
超大规模
集成电路
Keywords
Phase shifting mask,Binary optics,Lithography
分类号
TN470.2 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用相移掩模光刻技术制作大相对孔径二元透镜的研究
周静
黄婉云
陈宝钦
《北京师范大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
1995
1
在线阅读
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职称材料
2
离子探针分析中质量干扰离子计数测量方法的研究
冶宏振
孙慧龄
李金荣
游俊富
《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1989
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
相移掩模方法及其一维数值模拟
周静
龙品
刘大禾
徐大雄
陈宝钦
梁俊厚
《高技术通讯》
CAS
CSCD
1994
1
在线阅读
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职称材料
已选择
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参考文献
引证文献
统计分析
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