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Cl/HN_3/I_2全气相化学激光体系的化学动力学模拟计算
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作者 唐书凯 多丽萍 桑凤亭 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期560-562,共3页
 对Cl/HN3/I2产生NCl(a)/I激光的过程进行了化学动力学计算,主要考察了Cl,HN3和I2的初始粒子数密度及其配比对小信号增益系数的影响。结果发现,当温度为400K,初始Cl粒子数密度为1×1015,1×1016和1×1017cm-3时,小信号增...  对Cl/HN3/I2产生NCl(a)/I激光的过程进行了化学动力学计算,主要考察了Cl,HN3和I2的初始粒子数密度及其配比对小信号增益系数的影响。结果发现,当温度为400K,初始Cl粒子数密度为1×1015,1×1016和1×1017cm-3时,小信号增益系数分别达到1.6×10-4,1.1×10-3和1.1×10-2cm-1,获得最佳小信号增益系数的HN3和I2的初始粒子数密度分别为初始Cl粒子数密度的1~2倍和2%~4%。同时,对Cl,HN3和I2配比对小信号增益系数和增益持续时间的影响进行了讨论。 展开更多
关键词 化学动力学计算 小信号增益 Cl/HN3/I2 NCl(a)/I激光
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Cl+HN_3产生NCl(a^1Δ)和NCl(b^1Σ)的实验研究 被引量:2
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作者 唐书凯 李健 +2 位作者 闵祥德 多丽萍 桑凤亭 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第6期691-694,共4页
对利用微波放电直接解离 Cl2 生成 Cl,Cl与 HN3 反应生成 NCl(a1Δ)和 NCl(b1Σ)的过程进行了实验研究。得到了较强的 NCl(a1Δ)和 NCl(b1Σ)自发辐射光谱 ,考察了 Cl2 流量和 He/ Cl2 配比对NCl(a1Δ)和 NCl(b1Σ)生成的影响。发现对... 对利用微波放电直接解离 Cl2 生成 Cl,Cl与 HN3 反应生成 NCl(a1Δ)和 NCl(b1Σ)的过程进行了实验研究。得到了较强的 NCl(a1Δ)和 NCl(b1Σ)自发辐射光谱 ,考察了 Cl2 流量和 He/ Cl2 配比对NCl(a1Δ)和 NCl(b1Σ)生成的影响。发现对于一定的 He流量 ,Cl2 流量对 NCl(a1Δ)和 NCl(b1Σ)生成的影响存在一最佳范围 ,而最佳 He/ Cl2 配比不是一定值 ,而是随 He流量升高而变大 ,在实验所考察的 He流量范围 (5~ 4 0 L/ min)内 ,最佳 He/ Cl2 配比在 3 0∶ 1~ 1 0 0∶ 展开更多
关键词 微波放电 CL2 NCL 氯气 氯化氮 实验研究 化学氧碘激光器
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NCl(a^1Δ)/I(~2P_(3/2))传能体系的实验研究 被引量:2
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作者 唐书凯 于海军 +4 位作者 闵祥德 汪健 张翠兰 多丽萍 桑凤亭 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期529-532,共4页
 利用微波放电Cl2/He等离子体作为Cl源,对反应NCl(a1Δ)+I(2P3/2)→NCl(X3Σ)+I(2P1/2)进行了实验研究,得到了较大的I(2P1/2)自发辐射荧光信号,检测到NCl(a1Δ,b1Σ)自发辐射荧光光谱在存在少量I(2P1/2)下发生的显著变化,其中NCl(a1Δ...  利用微波放电Cl2/He等离子体作为Cl源,对反应NCl(a1Δ)+I(2P3/2)→NCl(X3Σ)+I(2P1/2)进行了实验研究,得到了较大的I(2P1/2)自发辐射荧光信号,检测到NCl(a1Δ,b1Σ)自发辐射荧光光谱在存在少量I(2P1/2)下发生的显著变化,其中NCl(a1Δ)自发辐射荧光信号降低,同时由于I(2P1/2)的作用,NCl(b1Σ)自发辐射荧光信号大幅度增加。在考察各反应气体流量对I(2P1/2)自发辐射荧光信号的影响时发现,在本次实验条件下,各种气体的最佳流量:He为1~4mmol/s,I2为0.01~0.03mmol/s,Cl2为1.0mmol/s左右,而HN3流量略大于Cl2流量时信号升高幅度开始变缓,约为Cl2流量的两倍时信号不再有显著的变化。 展开更多
关键词 微波放电 NCl(a^1△)/I(^2P3/2)传能体系 实验研究 自发辐射荧光光谱 化学激光系统 氯化钠
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化学气相沉积SiC材料超光滑表面纳米加工 被引量:2
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作者 公发全 肖鹏 +3 位作者 黄润兰 李刚 刘万发 董闯 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期327-329,共3页
利用传统光学加工方法,采用陶瓷磨盘和金刚石微粉对国产化学气相沉积(CVD)SiC进行了粗磨、细磨加工;然后,利用颗粒直径从4μm到1μm的金刚石研磨膏逐级进行抛光,发现SiC表面存在纳米级划痕;最后,改用颗粒直径为20 nm氧化铝纳米颗粒的碱... 利用传统光学加工方法,采用陶瓷磨盘和金刚石微粉对国产化学气相沉积(CVD)SiC进行了粗磨、细磨加工;然后,利用颗粒直径从4μm到1μm的金刚石研磨膏逐级进行抛光,发现SiC表面存在纳米级划痕;最后,改用颗粒直径为20 nm氧化铝纳米颗粒的碱性水溶液进行抛光,表面粗糙度达到0.6 nm(RMS),表面纳米级划痕得到很好改善,获得了较高表面质量的超光滑表面。 展开更多
关键词 化学气相沉积 SIC材料 光学加工 超光滑表面 纳米加工 表面粗糙度
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Cl/Cl_2/He+HN_3/He反应体系的实验研究(英文) 被引量:1
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作者 多丽萍 唐书凯 +3 位作者 于海军 闵祥德 桑凤亭 杨柏龄 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第4期426-430,共5页
本文对微波解离Cl_2产生Cl,与HN_3/He的混合气体反应产生的激发态粒子NCl(a^1△)和NCl(b^1∑)进行了实验研究。对NCl(a^1△)和NCl(b^1∑)的荧光光谱进行了测量并对光谱强度沿气流方向的变化趋势以及依赖几种不同气体流量和配比的变化关... 本文对微波解离Cl_2产生Cl,与HN_3/He的混合气体反应产生的激发态粒子NCl(a^1△)和NCl(b^1∑)进行了实验研究。对NCl(a^1△)和NCl(b^1∑)的荧光光谱进行了测量并对光谱强度沿气流方向的变化趋势以及依赖几种不同气体流量和配比的变化关系进行了研究。给出了NCl(a^1△)和NCl(b^1∑)产生的最佳实验参数及配比关系,并对结果做了讨论. 展开更多
关键词 Cl/Cl2/He+HN3/He反应体系 激发态粒子 NCl(a1△) NCl(b1∑) 荧光光谱 光谱强度
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