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偏振差分反射光谱研究半导体材料的平面内光学各向异性 被引量:2
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作者 赵雷 陈涌海 +2 位作者 左玉华 王海宁 时文华 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期1185-1189,共5页
介绍了偏振差分反射光谱的原理,并结合半导体材料平面内光学各向异性的来源,总结了偏振差分反射光谱作为一种重要的表面、界面分析技术在半导体材料研究中的应用,并分析指出其在Si基材料电光改性研究中将会起到重要作用。
关键词 偏振差分反射光谱 半导体 平面内光学各向异性 电光改性
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SOI通道转换型多模干涉耦合器的研究(英文) 被引量:1
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作者 王章涛 樊中朝 +1 位作者 陈少武 余金中 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第9期1047-1049,共3页
设计和制作了基于SOI的通道转换型多模干涉耦合器。用二维BPM方法分析了耦合器的性能与多模波导宽度和长度的依赖关系 .制作出的耦合器能实现良好的通道转换 ,器件的功率转换比为 73,附加损耗为 2 .2dB .提高器件制作的精度将能进一步... 设计和制作了基于SOI的通道转换型多模干涉耦合器。用二维BPM方法分析了耦合器的性能与多模波导宽度和长度的依赖关系 .制作出的耦合器能实现良好的通道转换 ,器件的功率转换比为 73,附加损耗为 2 .2dB .提高器件制作的精度将能进一步改善耦合器的性能 . 展开更多
关键词 SOI 多模干涉 通道转换
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GaN非线性光学效应研究进展 被引量:3
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作者 陈平 王启明 《物理学进展》 CSCD 北大核心 2005年第4期430-440,共11页
本文简述了对非线性光学材料的一般要求,详细介绍了GaN材料的极化效应,以及因此而具有的良好非线性光学效应。以波长转换为例说明了它在未来全光网络中的应用前景。
关键词 非线性光学材料 GAN 非线性光学效应 全光波长转换
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SiO_x∶Er薄膜材料光致发光特性的研究
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作者 沈海波 郭亨群 +2 位作者 徐骏 陈坤基 王启明 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第9期877-880,938,共5页
采用射频磁控反应溅射技术,以Er2O3和Si为靶材,制备了SiOx∶Er薄膜材料,在不同温度和不同时间下进行退火处理,室温下测量了样品的光致发光(PL)谱,观察到Er3+在1 530,1 542和1 555 nm处波长的发光,发现退火能明显增强Er3+的发光。研究了... 采用射频磁控反应溅射技术,以Er2O3和Si为靶材,制备了SiOx∶Er薄膜材料,在不同温度和不同时间下进行退火处理,室温下测量了样品的光致发光(PL)谱,观察到Er3+在1 530,1 542和1 555 nm处波长的发光,发现退火能明显增强Er3+的发光。研究了退火温度和时间对SiOx∶Er薄膜光致发光的影响,发现Er2O3与Si面积比为1∶1时,1 100℃下20 min退火为样品的最佳退火条件。采用XRD和材料光吸收测试对样品结构和光学性质进行了研究,得到样品中Si晶粒大小为1.6 nm,样品的光学带隙为1.56 eV。对3种不同Er2O3与Si面积比的SiOx∶Er薄膜材料进行研究,得到Er2O3与Si面积比为1∶3为样品的最佳配比,对薄膜材料发光现象进行了探讨。 展开更多
关键词 射频磁控反应溅射 SiOx∶Er薄膜 光致发光
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不同结构SOI交叉波导的损耗及串扰特性研究(英文)
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作者 孙飞 陈少武 余金中 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第11期1649-1653,共5页
利用高阶Pade近似的2D-BPM算法,对具有不同弯曲半径及交叉角度的SOI弯曲交叉波导的传输特性进行了模拟、分析和深入研究,发现交叉波导的串扰随弯曲半径及交叉角度增大而减小的规律.在此基础上,对由正弦弯曲、余弦弯曲以及圆弧弯曲三种... 利用高阶Pade近似的2D-BPM算法,对具有不同弯曲半径及交叉角度的SOI弯曲交叉波导的传输特性进行了模拟、分析和深入研究,发现交叉波导的串扰随弯曲半径及交叉角度增大而减小的规律.在此基础上,对由正弦弯曲、余弦弯曲以及圆弧弯曲三种弯曲波导构成的SOI交叉波导的损耗及串扰特性进行了分析比较.结果表明,由正弦弯曲构成的交叉波导传输损耗最小且串扰最小. 展开更多
关键词 导波光学 SOI 交叉波导 弯曲波导
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纳米技术与能带工程对Si基高效发光的促进 被引量:6
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作者 王启明 《物理学进展》 CSCD 北大核心 2002年第4期359-370,共12页
自 1 991年CanhamL .T发现多孔Si的强发光特性之后 ,Si基发光的系列性探索已走过了 1 0年的路程。人们从中认清了一些重要的科学问题 ,发展和掌握了许多新的技术 ,也取得了许多有价值的重要进展。可以说过去的 1 0年是处於四方探索的百... 自 1 991年CanhamL .T发现多孔Si的强发光特性之后 ,Si基发光的系列性探索已走过了 1 0年的路程。人们从中认清了一些重要的科学问题 ,发展和掌握了许多新的技术 ,也取得了许多有价值的重要进展。可以说过去的 1 0年是处於四方探索的百花齐放阶段。现在无论从应用目标的需求和开拓研究的思路与途径 ,都更加明确、集中 ,一个有实用价值的Si基发光器件的研究高潮即将来临。本文着重评述介绍了四个方面的研究进展 ,即局域态nc_Si的发光 ,基於能带工程的Si基发光 ,纳米结构Si化物的发光和Ge/Si量子点的发光研究 ,指出了各自存在的问题 ,提出了若干新的研究思路。本文还把Si基发光的研究与微电子发展需求紧密结合 ,由此提出了下一阶段开展Si基发光研究应予遵循的几项原则。 展开更多
关键词 纳米技术 Si基发光 能带工程 纳米结构 光电子集成 微电子芯片
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