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AlGaN基深紫外LED的NiAu透明电极及其接触特性 被引量:2
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作者 王雪 刘乃鑫 +7 位作者 王兵 郭亚楠 张晓娜 郭凯 李勇强 张童 闫建昌 李晋闽 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第5期898-903,共6页
在p-AlGaN表面沉积Ni/Au/Ni/Au透明电极体系,通过传输线模型测试,研究了退火温度对Ni/Au/Ni/Au与p-Al Ga N材料接触特性的影响。结果表明,AlGaN基深紫外LED采用Ni/Au/Ni/Au金属体系,在600℃空气氛围下退火3 min形成p型半导体材料NiO。... 在p-AlGaN表面沉积Ni/Au/Ni/Au透明电极体系,通过传输线模型测试,研究了退火温度对Ni/Au/Ni/Au与p-Al Ga N材料接触特性的影响。结果表明,AlGaN基深紫外LED采用Ni/Au/Ni/Au金属体系,在600℃空气氛围下退火3 min形成p型半导体材料NiO。进一步优化Ni/Au/Ni/Au体系金属厚度,当Ni/Au/Ni/Au各层厚度由20/20/20/20 nm减薄至2/2/5/5 nm,并在600℃空气氛围退火3 min,其与p-AlGaN材料的接触电阻率从3.23×10^(-1)Ω·cm^(2)降到2.58×10^(-4)Ω·cm^(2)。采用上述优化的Ni/Au/Ni/Au体系制备的深紫外LED器件,器件光电特性得到了改善。在150 mA驱动下工作电压低至5.8 V;通过提升电极透过率,光输出功率提升18.9%。 展开更多
关键词 UV-LED ALGAN NiAu 欧姆接触
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