期刊文献+
共找到6篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
等离子喷涂Al_2O_3涂层的电击穿机理 被引量:10
1
作者 郭瑞 梁波 +3 位作者 赵晓兵 杨英春 季珩 郑学斌 《航空材料学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期43-48,共6页
采用大气等离子喷涂技术在铜基体上沉积了Al2O3涂层。采用XRD和SEM对涂层微观结构进行了表征。通过探讨孔隙率和吸潮行为对绝缘性能的影响,分析了等离子喷涂Al2O3涂层结构与电绝缘失效机理的关系。结果表明:等离子喷涂Al2O3涂层较致密... 采用大气等离子喷涂技术在铜基体上沉积了Al2O3涂层。采用XRD和SEM对涂层微观结构进行了表征。通过探讨孔隙率和吸潮行为对绝缘性能的影响,分析了等离子喷涂Al2O3涂层结构与电绝缘失效机理的关系。结果表明:等离子喷涂Al2O3涂层较致密,界面结合较好。随涂层厚度不同其孔隙率在5%~7%范围变化。等离子喷涂Al2O3涂层结构中的孔洞是电绝缘失效的主要部位且呈典型电晕击穿形貌。电晕击穿诱发的裂纹沿击穿方向扩展形成击穿隧道。击穿方向与电极极性无关而由击穿孔洞位置决定。涂层厚度与涂层击穿强度呈现倒数关系。吸潮会诱发导电通路形成降低A12O3,涂层抗击穿能力。 展开更多
关键词 等离子喷涂 A12O3 涂层 电击穿
在线阅读 下载PDF
层状Al_2O_3-TiB_2复相陶瓷的制备 被引量:5
2
作者 曾宇平 江东亮 +1 位作者 谭寿洪 郭景坤 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第2期27-30,共4页
利用流延成型工艺,制备了一定厚度的Al_20_3-TiB_2陶瓷膜,通过剪裁,层压,热压烧结制备了层状Al_2O_3-TiB_2复相材料,并讨论了影响浆料性质及材料性能的各种因素。
关键词 复相陶 流延成型 三氧化二铝 硼化钛
在线阅读 下载PDF
掺钕BGO单晶的光谱研究 被引量:2
3
作者 张秀荣 祁长鸿 刘建成 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第2期158-163,共6页
本文详细分析研究了掺钕BGO单晶的光谱特性.测量了Nd(3+)离子在BGO单晶中的吸收谱、荧光谱(4F3/2→4I(9/2、11/2、13/2)及荧光寿命,并研究了荧光谱的温度效应.计算了跃迁几率、发射截面、分支比和... 本文详细分析研究了掺钕BGO单晶的光谱特性.测量了Nd(3+)离子在BGO单晶中的吸收谱、荧光谱(4F3/2→4I(9/2、11/2、13/2)及荧光寿命,并研究了荧光谱的温度效应.计算了跃迁几率、发射截面、分支比和Ω(2、4、6)等光谱参数,和YAG:Nd(3+)作了比较. 展开更多
关键词 单晶 光谱 锗酸铋 掺钕
在线阅读 下载PDF
砷化镓半导体外延层的电子声成像
4
作者 张冰阳 江福明 +6 位作者 殷庆瑞 惠森兴 姚烈 杨阳 高鸿楷 何益民 侯洵 《分析测试学报》 CAS CSCD 1996年第6期27-31,共5页
本实验利用扫描电子声显微镜对CaAs半导体外延片生长缺陷进行了电子声成像。通过分析不同条件下获得的电声图像,讨论了CaAs半导体外延片在电声成像中其电声信号的产生机制。
关键词 SEAM 砷化镓 缺陷 电子声成像
在线阅读 下载PDF
化学浴沉积法合成硒化铋纳米结构薄膜 被引量:4
5
作者 孙正亮 陈立东 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第2期248-250,231,共4页
近年来,低维热电材料以其优越的性能而受到研究人员的关注,但合成方法多局限于成本较高的物理法。本文采用简便的化学浴沉积法成功地制备出硒化铋纳米结构薄膜。以硝酸铋、硒代硫酸钠分别作为铋源和硒源,以氨三乙酸作为配位剂,在硅片上... 近年来,低维热电材料以其优越的性能而受到研究人员的关注,但合成方法多局限于成本较高的物理法。本文采用简便的化学浴沉积法成功地制备出硒化铋纳米结构薄膜。以硝酸铋、硒代硫酸钠分别作为铋源和硒源,以氨三乙酸作为配位剂,在硅片上沉积出由【001】取向的纳米片组成的硒化铋纳米结构薄膜。薄片厚度在50~100nm。性能表征显示合成出的薄膜室温下电导和赛贝克系数分别为9.2×103Sm-1和-98μVK-1。该法具有低成本、易操作、易于大规模生长等优点,为薄膜的器件化打下基础。 展开更多
关键词 Bi2Se3薄膜 化学浴沉积
在线阅读 下载PDF
(Lu,Y)_2SiO_5∶Ce^(3+)与SrSO_4∶Dy^(3+)材料低温热释光及其测试仪器的研究
6
作者 唐桦明 唐强 +1 位作者 毛日华 谢建才 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第12期1807-1813,共7页
为了分析材料在低温下的陷阱能级,获得更多有关缺陷结构的信息,研制了一套由STM32微控制器为核心的低温热释光发光谱测量系统。设计了低温样品室,采用液氮冷却样品; STM32通过控制加热电流,实现样品以恒定速率升温,从而获得低温热释光... 为了分析材料在低温下的陷阱能级,获得更多有关缺陷结构的信息,研制了一套由STM32微控制器为核心的低温热释光发光谱测量系统。设计了低温样品室,采用液氮冷却样品; STM32通过控制加热电流,实现样品以恒定速率升温,从而获得低温热释光发光曲线或三维热释光谱。温度测量范围为85~400 K,升温速率范围为0. 1~10 K/s。设计了由STM32控制X射线及紫外光源的驱动电路,用于样品的激发。采用高灵敏度CCD实现对三维热释光谱的测量,采用单光子计数器获取二维热释光发光曲线。利用该系统测试了(Lu,Y)_2SiO_5∶Ce^(3+)(LYSO∶Ce^(3+))单晶闪烁体与SrSO_4∶Dy^(3+)粉末样品的热释光谱及辐射发光光谱。观察到LYSO∶Ce^(3+)在108,200,380 K左右的热释光峰,发光波长位于390~450 nm之间,是明显的宽带峰。在低温下由于基质的自陷激子(STE)发射所形成的发射峰在166 K时发生猝灭。在309 K时,Ce^(3+)发射峰展宽为单一发射峰; SrSO_4∶Dy^(3+)发光峰温度为178,385 K,发光波长由Dy^(3+)离子的能级跃迁决定,在480,575,660,750 nm处呈现窄带发光峰。结果表明,系统人机交互界面友好,实验数据可靠,智能化程度高,操作简单。 展开更多
关键词 低温热释光 LYSO 辐射发光 自陷激子 缺陷结构
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部