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题名不同碱和分散剂对蓝宝石基片研磨的影响
被引量：2
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作者
张泽芳
刘卫丽
宋志棠
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机构
中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室纳米技术研究室
上海新安纳电子科技有限公司
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出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第4期267-270,共4页
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基金
国家集成电路重大专项(2011ZX02704-002
2009ZX02030-001)
+1 种基金
上海市科委资助项目(0952nm00200
10QB1403600)
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文摘
在LED制造工艺中,金刚石研磨液是一种关键的耗材,用于蓝宝石衬底的研磨和外延片的背减薄,但目前金刚石研磨液均以有机物作为分散介质。采用水为分散介质、多晶金刚石微粉为磨料,在相同研磨条件下,研究了不同种类的碱和分散剂对蓝宝石研磨性能的影响。分别采用分析天平称重法和原子力显微镜测试了研磨速率和蓝宝石的表面粗糙度。结果表明,抛光后蓝宝石表面质量和抛光液分散性有严格的依赖关系,而抛光速率和研磨液分散性并不严格相关。最后,采用三乙醇胺为pH值调节剂,Orotan1124为分散剂,获得了相对较高的去除率和较好的表面质量。
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关键词
多晶金刚石
三乙醇胺
分散剂
蓝宝石
研磨
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Keywords
polycrystalline diamond
triethanolamine
dispersant
sapphire
lapping
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分类号
TN305.2
[电子电信—物理电子学]
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