高度择优取向(111)PbTiO_3薄膜的制备及光学特性

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作者 赵强 褚君浩 范正修 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2002年第5期382-384,共3页

单一取向铁电薄膜是大家长期以来研究的目标之一 ,文中采用组合靶射频溅射在白宝石 (α- Al2 O3)衬底上制备出具有较好的 (111)择优取向的 Pb Ti O3薄膜。从薄膜的光学透射谱计算所得的折射率和波长的关系能够较好地符合单振子模型 ,由... 单一取向铁电薄膜是大家长期以来研究的目标之一 ,文中采用组合靶射频溅射在白宝石 (α- Al2 O3)衬底上制备出具有较好的 (111)择优取向的 Pb Ti O3薄膜。从薄膜的光学透射谱计算所得的折射率和波长的关系能够较好地符合单振子模型 ,由此得出了薄膜在 4 0 0～ 2 4 0 0 nm区域的折射率变化 ,在长波极限时薄膜的折射率为2 .5 展开更多

关键词 PbTiO3薄膜 择优取向 铁电薄膜 光学特性

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C轴择优取向ZnO薄膜的溅射工艺与结构研究 被引量：2

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作者 贺洪波 范正修 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第B05期77-78,共2页

通过改变直流磁控反应溅射法的工艺条件 ,同时在玻璃和Si(10 0 )、Si(111)两种硅基底上制备了ZnO薄膜。用X射线衍射方法 (XRD和XRC)对薄膜结构性能进行测试表明 ,这些基底上生长的ZnO薄膜都得到了明显的c轴择优取向和较高的结晶度 ,硅... 通过改变直流磁控反应溅射法的工艺条件 ,同时在玻璃和Si(10 0 )、Si(111)两种硅基底上制备了ZnO薄膜。用X射线衍射方法 (XRD和XRC)对薄膜结构性能进行测试表明 ,这些基底上生长的ZnO薄膜都得到了明显的c轴择优取向和较高的结晶度 ,硅基底上的薄膜结构性能普遍好于玻璃基底上淀积的薄膜。并对溅射工艺与结构的关系进行了分析。 展开更多

关键词 直流磁控溅射 ZNO薄膜 择优取向

全文增补中

HfO_2薄膜的结构对抗激光损伤阈值的影响 被引量：29

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作者 高卫东 张伟丽 +3 位作者 范树海 张大伟 邵建达 范正修 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期176-179,共4页

利用蒸发氧化铪和离子辅助蒸发金属铪反应沉积氧化铪薄膜,对两种工艺下制备的氧化铪薄膜进行光学和结构以及激光损伤特性的研究 实验结果表明,用金属铪反应沉积的氧化铪薄膜不仅结构均匀,并且具有较高的激光损伤阈值 文章对损伤阈值... 利用蒸发氧化铪和离子辅助蒸发金属铪反应沉积氧化铪薄膜,对两种工艺下制备的氧化铪薄膜进行光学和结构以及激光损伤特性的研究 实验结果表明,用金属铪反应沉积的氧化铪薄膜不仅结构均匀,并且具有较高的激光损伤阈值 文章对损伤阈值和薄膜的结构及光学特性之间的关系进行了讨论. 展开更多

关键词 铪 氧化铪 薄膜 激光损伤阈值

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平面行星夹具均匀性修正挡板设计方法研究 被引量：13

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作者 方明 郑伟军 +3 位作者 吴明 范瑞瑛 易葵 范正修 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期286-289,共4页

众多光学系统对其关键环节大尺寸多层光学薄膜提出了越来越复杂的光谱要求,相应地对各个单层膜的厚度容差要求越来越严格。在整个基底表面,每一层都需要沉积得相当均匀。因为,任何单层的非均匀性将增加最终的膜厚误差。随着平面行星夹... 众多光学系统对其关键环节大尺寸多层光学薄膜提出了越来越复杂的光谱要求,相应地对各个单层膜的厚度容差要求越来越严格。在整个基底表面,每一层都需要沉积得相当均匀。因为,任何单层的非均匀性将增加最终的膜厚误差。随着平面行星夹具广泛地应用于大尺寸光学薄膜制备,必须实现对行星夹具的均匀性有效控制。本文建立了平面行星夹具薄膜沉积无量纲模型,通过对夹具上各点的运动轨迹分析,提出了停留概率修正法,获得的理论均匀性与实验结果吻合。用此法设计出单片修正挡板将夹具560 mm范围内的不均匀性从4%改进到6‰。 展开更多

关键词 光学薄膜 平面行星夹具 修正挡板设计 停留概率修正法

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氧分压对ZrO_2薄膜激光损伤阈值的影响 被引量：5

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作者 张东平 赵元安 +3 位作者 范树海 高卫东 邵建达 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期9-12,共4页

在不同的氧分压下用电子束热蒸发的方法制备了ZrO2薄膜。分别通过X射线衍射、光学光 谱、热透镜技术、抗激光辐照等测试,对所制备样品的微结构、折射率、吸收率及激光损伤阈值进行了测量。实 验结果表明,薄膜中晶粒主要是四方... 在不同的氧分压下用电子束热蒸发的方法制备了ZrO2薄膜。分别通过X射线衍射、光学光 谱、热透镜技术、抗激光辐照等测试,对所制备样品的微结构、折射率、吸收率及激光损伤阈值进行了测量。实 验结果表明,薄膜中晶粒主要是四方相为主的多晶结构,并且随着氧分压的增加,结晶度、折射率以及弱吸收均 逐渐降低。薄膜的激光损伤阈值开始随着氧分压增加从18.5J/cm2逐渐增加,氧分压为9×10-3Pa时达到最 大,值为26.7J/cm2,氧分压再增加时则又降低到17.5J/cm2。由此可见,氧分压引起的薄膜微结构变化是 ZrO2薄膜激光损伤阈值变化的主要原因。 展开更多

关键词 ZRO2薄膜 氧分压 激光损伤阈值 电子束热蒸发

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窄带干涉滤光片抗击不同输出方式激光的损伤特性研究 被引量：5

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作者 高卫东 贺洪波 +2 位作者 赵元安 范正修 邵建达 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期191-196,共6页

利用Nd∶YAG调Q单脉冲激光和自由脉冲激光对硬膜窄带干涉滤光片进行激光损伤阈值的测试,并且采用表面热透镜技术测量了滤光片的吸收率。实验发现:窄带干涉滤光片的吸收率和激光损伤阈值强烈依赖于辐照激光波长与窄带干涉滤光片通带的相... 利用Nd∶YAG调Q单脉冲激光和自由脉冲激光对硬膜窄带干涉滤光片进行激光损伤阈值的测试,并且采用表面热透镜技术测量了滤光片的吸收率。实验发现:窄带干涉滤光片的吸收率和激光损伤阈值强烈依赖于辐照激光波长与窄带干涉滤光片通带的相对位置;在调 Q单脉冲激光作用下,不同中心波长的滤光片损伤形貌存在明显的差别,而在自由脉冲激光作用下,各滤光片的损伤形貌则趋于相同,均表现为典型的热熔烧蚀破坏。根据实验结果,结合损伤形貌,通过驻波场理论对激光作用下滤光片内电场分布的分析与模拟,探讨了两种激光模式作用下滤光片的损伤特征和损伤机理的不同特点。 展开更多

关键词 干涉滤光片 激光损伤 单脉冲激光 自由脉冲激光

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单晶硅材料的1064nm Nd:YAG脉冲激光损伤特性研究 被引量：7

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作者 高卫东 田光磊 +1 位作者 范正修 邵建达 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第3期317-320,共4页

作为微电子和光电子系统中普遍使用的一种结构材料 ,单晶硅一直是人们研究的焦点。长期以来 ,人们对其电学性质进行了非常深入细致的研究 ,却疏于对其抗击强激光辐照特性的研究。随着激光通讯和光电对抗技术的发展 ,对光学材料的激光破... 作为微电子和光电子系统中普遍使用的一种结构材料 ,单晶硅一直是人们研究的焦点。长期以来 ,人们对其电学性质进行了非常深入细致的研究 ,却疏于对其抗击强激光辐照特性的研究。随着激光通讯和光电对抗技术的发展 ,对光学材料的激光破坏特性和加固技术进行研究的需求也显得越来越迫切。本文主要对单晶硅的抗激光损伤特性进行研究 ,研究了单晶硅材料在 10 6 4nmNd :YAG激光自由脉冲输出模式和单脉冲输出模式作用下的损伤特性 ,通过对两种激光作用下单晶硅损伤形貌的分析 ,在热效应与热力耦合模型的基础上 ,对单晶硅的激光损伤机制进行了探索。 展开更多

关键词 激光损伤 单晶硅 单脉冲激光 自由振荡激光

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退火对ZrO_2薄膜微结构及激光损伤阈值的影响 被引量：3

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作者 田光磊 黄建兵 +1 位作者 贺洪波 邵建达 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期217-221,共5页

利用电子束蒸发方法在Yb∶YAG晶体和熔融石英衬底上沉积单层 ZrO2 薄膜,分别在 673 K和1 073 K的温度下经过12 h退火以后,通过X射线衍射(XRD)分析了薄膜晶相,计算了薄膜的晶粒尺寸;利用表面热透镜技术获得了薄膜的吸收;测量了退火后薄... 利用电子束蒸发方法在Yb∶YAG晶体和熔融石英衬底上沉积单层 ZrO2 薄膜,分别在 673 K和1 073 K的温度下经过12 h退火以后,通过X射线衍射(XRD)分析了薄膜晶相,计算了薄膜的晶粒尺寸;利用表面热透镜技术获得了薄膜的吸收;测量了退火后薄膜的激光损伤阈值。实验结果表明:两种衬底上的薄膜结构受到退火温度和衬底表面结构的影响,高温退火有利于单斜相的形成,含单斜相的 ZrO2 薄膜具有较高的激光损伤阈值,而由于衬底的吸收,Yb∶YAG晶体上薄膜的损伤阈值远小于石英衬底上薄膜的损伤阈值。 展开更多

关键词 退火 ZRO2薄膜 激光损伤阈值 X射线衍射 弱吸收

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组分和应力不均匀分布对薄膜铁电性的影响 被引量：4

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作者 赵强 汤兆胜 +1 位作者 冯仕猛 范正修 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2000年第4期249-252,共4页

采用组合靶射频溅射的方法、制备后慢速降温的途径在（１１１）Ｓｉ基板上制备出了成膜较好的 ＰｂＴｉＯ３薄膜。通过测试分析发现在薄膜中形成了一个缓解应力的过渡层，薄膜中的Ｐｂ、Ｔｉ组分比沿着薄膜生长的方向成非线性增长，并... 采用组合靶射频溅射的方法、制备后慢速降温的途径在（１１１）Ｓｉ基板上制备出了成膜较好的 ＰｂＴｉＯ３薄膜。通过测试分析发现在薄膜中形成了一个缓解应力的过渡层，薄膜中的Ｐｂ、Ｔｉ组分比沿着薄膜生长的方向成非线性增长，并在薄膜表面形成一个富Ｐｂ层，薄膜的Ｃ－Ｖ特性曲线中存在负方向的位移和畸变。结合实验结果对薄膜的生长机理进行了探讨，并且对薄膜中的应力和不均匀分布的组分对薄膜铁电特性的影响进行了理论上的分析，而且与实验取得了一致的结果。 展开更多

关键词 PbTiO3薄膜 应力 组分 铁电

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在(111)Si基底上直接溅射合成PbTiO_3薄膜以及Pb损失的抑制 被引量：1

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作者 赵强 汤兆胜 +1 位作者 冯士猛 范正修 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期412-415,共4页

利用射频磁控溅射系统，采用 Ｔｉ、Ｐｂ组合靶，以 Ｏ２为反应气体，在（ １１１） Ｓｉ基板上直接沉积 ＰｂＴｉＯ３薄膜，通过对不同基底温度以及沉积后的薄膜在不同的氧气氛中来用不同的降温速率降温制备。通过对所得的薄膜的结构... 利用射频磁控溅射系统，采用 Ｔｉ、Ｐｂ组合靶，以 Ｏ２为反应气体，在（ １１１） Ｓｉ基板上直接沉积 ＰｂＴｉＯ３薄膜，通过对不同基底温度以及沉积后的薄膜在不同的氧气氛中来用不同的降温速率降温制备。通过对所得的薄膜的结构和组成以及光学和电学特性的测试、分析得出：在５３５℃时沉积、溅射后直接充入 １０７Ｐａ的氧气并且以 ３℃／ｍｉｎ的速率降至室温，制备出了性能较好的具有钙钛矿结构的ＰｂＴｉＯ３薄膜。并对薄膜的形成机理进行了探讨。 展开更多

关键词 PBTIO3 铁电薄膜 Pb损失 冷却速率

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8.0nm反射式偏振膜的设计和制备

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作者 吕超 易葵 邵建达 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期2049-2052,共4页

讨论了软X射线反射式偏振膜的设计原理和方法,利用设计软件模拟设计了8.0nm处的Mo/B4C偏振膜.对影响多层膜性能的参量进行了详细的误差分析.利用磁控溅射镀膜机进行了偏振膜的制备研究,X射线小角衍射测量了多层膜的周期厚度,测量数据的... 讨论了软X射线反射式偏振膜的设计原理和方法,利用设计软件模拟设计了8.0nm处的Mo/B4C偏振膜.对影响多层膜性能的参量进行了详细的误差分析.利用磁控溅射镀膜机进行了偏振膜的制备研究,X射线小角衍射测量了多层膜的周期厚度,测量数据的拟合结果与设计值吻合很好. 展开更多

关键词 多层膜 软X射线 偏振 准布儒斯特角

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