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KZ-400离子束刻蚀装置的研制 被引量:7
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作者 徐朝银 董晓浩 +5 位作者 赵飞云 高飞 徐德权 凤良杰 阎佐健 孙继武 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期48-53,共6页
日前我室为制作大口径(400 mm×400 mm)衍射光学元件需要,成功研制了一台KZ-400离子束刻蚀装置。它是基于物理溅射效应,将基底匀速扫描条形离子束,连续铣削材料的原子层来实现大面积刻蚀。通过对关键部位的有限元计算,分析影响装置... 日前我室为制作大口径(400 mm×400 mm)衍射光学元件需要,成功研制了一台KZ-400离子束刻蚀装置。它是基于物理溅射效应,将基底匀速扫描条形离子束,连续铣削材料的原子层来实现大面积刻蚀。通过对关键部位的有限元计算,分析影响装置性能的主要因素,优化工艺结构,使各项指标达到了设计要求,现已投入运行。 展开更多
关键词 离子束刻蚀 有限元分析 扫描运动 束流密度均匀性 优化设计
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