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电子束光刻技术的原理及其在微纳加工与纳米器件制备中的应用 被引量:8
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作者 张琨 林罡 +2 位作者 刘刚 田扬超 王晓平 《电子显微学报》 CAS CSCD 2006年第2期97-103,共7页
电子束光刻是微电子技术领域重要的光刻技术之一,它可以制备特征尺寸10nm甚至更小的图形。随着电子束曝光机越来越多地进入科研领域,它在微纳加工、纳米结构的特性研究和纳米器件的制备等方面都呈现出重要的应用价值。本文以几种常见的... 电子束光刻是微电子技术领域重要的光刻技术之一,它可以制备特征尺寸10nm甚至更小的图形。随着电子束曝光机越来越多地进入科研领域,它在微纳加工、纳米结构的特性研究和纳米器件的制备等方面都呈现出重要的应用价值。本文以几种常见的电子束曝光机为例,说明电子束光刻的工作原理和关键技术,并给出一些它在纳米器件和微纳加工方面的应用实例。 展开更多
关键词 电子束光刻 微纳加工 纳米器件
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振动态选择的NO^2+离子e3B2态解离生成氧离子通道的动力学
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作者 牛铭理 宋磊 +5 位作者 唐小锋 周晓国 刘世林 刘付轶 单晓斌 盛六四 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2011年第8期1797-1802,共6页
结合最新的阈值光电子-光离子符合速度成像技术和同步辐射光电离,开展了振动态选择的NO2+离子e3B2态解离动力学研究.在18.8-19.2eV范围内获得的NO+2离子e3B2态的振动分辨阈值光电子谱与前人结果基本符合,而由e3B2态(0,0,0)和(1,0,0)振... 结合最新的阈值光电子-光离子符合速度成像技术和同步辐射光电离,开展了振动态选择的NO2+离子e3B2态解离动力学研究.在18.8-19.2eV范围内获得的NO+2离子e3B2态的振动分辨阈值光电子谱与前人结果基本符合,而由e3B2态(0,0,0)和(1,0,0)振动能级解离生成的O+碎片离子的符合速度成像清楚地显示出多个圆环结构,表明解离过程中生成了多种具有不同速度的O+离子,对应中性解离碎片NO分子处于不同的内态.通过速度和角度积分,我们分别获得了解离过程中释放的总平动能分布和O+离子的角度分布,其中两振动态选择的NO2+离子解离生成的NO分子X2Π态振动分布十分相似,主要布居的振动量子数为3-5.解离释放的可资用能近似平均分配到碎片的平动能和内能,其中碎片总平动能约占52%,内能约占48%.此外,O+离子的各向异性参数β约为0.3,且不随NO(X2Π)振动量子数而剧烈变化. 展开更多
关键词 解离动力学 光电离 阈值光电子谱 光电子-光离子符合 速度成像
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