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湿法腐蚀DFB半导体激光器的均匀光栅的研究
被引量:
2
1
作者
高丽艳
陈国鹰
+2 位作者
花吉珍
张世祖
郭艳菊
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第8期41-44,共4页
论述了用湿法腐蚀电子束光刻的均匀光栅DFB激光器亚微米光栅的过程,研究了几种腐蚀液对半导体激光器外延材料中InP的腐蚀过程。用扫描电子显微镜(SEM)对其腐蚀情况进行了分析,通过调节腐蚀液HBr:HNO3:H2O的体积比,找到了对InP腐蚀的最...
论述了用湿法腐蚀电子束光刻的均匀光栅DFB激光器亚微米光栅的过程,研究了几种腐蚀液对半导体激光器外延材料中InP的腐蚀过程。用扫描电子显微镜(SEM)对其腐蚀情况进行了分析,通过调节腐蚀液HBr:HNO3:H2O的体积比,找到了对InP腐蚀的最佳配比(1:1:30)以及合适的腐蚀条件(室温23℃)。利用这种腐蚀液得到的光栅图形可以满足DFB激光器的要求。
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关键词
化学湿法腐蚀
DFB半导体激光器
扫描电子显微镜
电了束光刻
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职称材料
InGaAs(InAlAs)/InP和InP/InAlAs湿法选择腐蚀研究
2
作者
赵永林
蔡道明
+2 位作者
周州
郭亚娜
刘跳
《微纳电子技术》
CAS
2005年第11期515-517,共3页
介绍了两种选择腐蚀液对InGaAs(InAlAs)I/nP和InPI/nAlAs异质结构材料选择腐蚀的实验结果,重点介绍在InAlAs上面生长InP的湿法选择腐蚀,用HClH∶3PO4C∶H3COOH系列腐蚀液,InPI/nAlAs选择比大于300。InPI/nAlAs湿法选择腐蚀的结果可以很...
介绍了两种选择腐蚀液对InGaAs(InAlAs)I/nP和InPI/nAlAs异质结构材料选择腐蚀的实验结果,重点介绍在InAlAs上面生长InP的湿法选择腐蚀,用HClH∶3PO4C∶H3COOH系列腐蚀液,InPI/nAlAs选择比大于300。InPI/nAlAs湿法选择腐蚀的结果可以很好应用到OEIC芯片制作中,并取得了较好的器件及电路结果。
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关键词
湿法选择腐蚀
选择比
InP/InAlAs
光电子集成电路
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职称材料
连续波工作高功率应变单量子阱半导体激光器
被引量:
2
3
作者
辛国锋
陈国鹰
+5 位作者
花吉珍
康志龙
赵卫青
安振峰
冯荣珠
牛健
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第4期476-479,共4页
利用金属有机化合物气相淀积 ( MOCVD)技术成功生长了 In Ga As/Ga As/Al Ga As分别限制应变单量子阱材料 ,用该材料制成的单管半导体激光器在室温下连续波输出功率高达 2 .36 W,中心激射波长为 94 4nm,斜率效率高达 0 .96 W/A,阈值电...
利用金属有机化合物气相淀积 ( MOCVD)技术成功生长了 In Ga As/Ga As/Al Ga As分别限制应变单量子阱材料 ,用该材料制成的单管半导体激光器在室温下连续波输出功率高达 2 .36 W,中心激射波长为 94 4nm,斜率效率高达 0 .96 W/A,阈值电流密度为 177.8A/cm2。该波长的半导体激光器是 Yb:YAG固体激光器的理想泵浦源。
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关键词
应变单量子阱
半导体激光器
金属有机化合物气相淀积
连续波
MOCVD
结构设计
材料结构
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职称材料
大功率半导体激光器阵列热特性分析
被引量:
4
4
作者
李冬梅
安振锋
+2 位作者
王晓燕
许敏
陈国鹰
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第11期843-846,共4页
基于实际器件的材料和结构参数,利用ANSYS软件对泵浦用808nm半导体激光器一维线阵列在连续及准连续驱动条件下的稳态及瞬态温度分布进行了模拟和分析,并采用纵模光谱法对稳态热阻进行了测量,实测与模拟结果基本吻合。
关键词
半导体激光器阵列
温度分布
ANSYS软件
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职称材料
题名
湿法腐蚀DFB半导体激光器的均匀光栅的研究
被引量:
2
1
作者
高丽艳
陈国鹰
花吉珍
张世祖
郭艳菊
机构
河北工业大学信息工程学院微
电子
所
中国电子科技集团公司第十三研究所光电专业部
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第8期41-44,共4页
基金
国家自然科学基金资助项目(60476025)
河北省自然科学基金资助项目(603080)
文摘
论述了用湿法腐蚀电子束光刻的均匀光栅DFB激光器亚微米光栅的过程,研究了几种腐蚀液对半导体激光器外延材料中InP的腐蚀过程。用扫描电子显微镜(SEM)对其腐蚀情况进行了分析,通过调节腐蚀液HBr:HNO3:H2O的体积比,找到了对InP腐蚀的最佳配比(1:1:30)以及合适的腐蚀条件(室温23℃)。利用这种腐蚀液得到的光栅图形可以满足DFB激光器的要求。
关键词
化学湿法腐蚀
DFB半导体激光器
扫描电子显微镜
电了束光刻
Keywords
wet chemical etching
DFB semiconductor lasers
SEM
electron lithographic
分类号
TN305.2 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
InGaAs(InAlAs)/InP和InP/InAlAs湿法选择腐蚀研究
2
作者
赵永林
蔡道明
周州
郭亚娜
刘跳
机构
中国电子科技集团公司第十三研究所光电专业部
出处
《微纳电子技术》
CAS
2005年第11期515-517,共3页
基金
国家高技术研究发展计划(863计划)项目(2001AA312040)
文摘
介绍了两种选择腐蚀液对InGaAs(InAlAs)I/nP和InPI/nAlAs异质结构材料选择腐蚀的实验结果,重点介绍在InAlAs上面生长InP的湿法选择腐蚀,用HClH∶3PO4C∶H3COOH系列腐蚀液,InPI/nAlAs选择比大于300。InPI/nAlAs湿法选择腐蚀的结果可以很好应用到OEIC芯片制作中,并取得了较好的器件及电路结果。
关键词
湿法选择腐蚀
选择比
InP/InAlAs
光电子集成电路
Keywords
wet selective etching
selectivity
InP/InAls
OEIC
分类号
TN304.2 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
连续波工作高功率应变单量子阱半导体激光器
被引量:
2
3
作者
辛国锋
陈国鹰
花吉珍
康志龙
赵卫青
安振峰
冯荣珠
牛健
机构
河北工业大学信息工程学院微
电子
所
中国电子科技集团公司第十三研究所光电专业部
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第4期476-479,共4页
基金
河北省科技攻关重点项目(编号0 3 2 13 540 D)
河北省自然科学基金项目(编号 60 3 0 80)
文摘
利用金属有机化合物气相淀积 ( MOCVD)技术成功生长了 In Ga As/Ga As/Al Ga As分别限制应变单量子阱材料 ,用该材料制成的单管半导体激光器在室温下连续波输出功率高达 2 .36 W,中心激射波长为 94 4nm,斜率效率高达 0 .96 W/A,阈值电流密度为 177.8A/cm2。该波长的半导体激光器是 Yb:YAG固体激光器的理想泵浦源。
关键词
应变单量子阱
半导体激光器
金属有机化合物气相淀积
连续波
MOCVD
结构设计
材料结构
Keywords
metal organic chemical vapor deposition (MOCVD)
strained single quantum well
continuous wave
semiconductor laser
分类号
TN248.4 [电子电信—物理电子学]
在线阅读
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职称材料
题名
大功率半导体激光器阵列热特性分析
被引量:
4
4
作者
李冬梅
安振锋
王晓燕
许敏
陈国鹰
机构
河北工业大学微
电子
研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所光电专业部
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第11期843-846,共4页
基金
长春光机学院重点实验室基金资助项目(51456030103DZ2302)
文摘
基于实际器件的材料和结构参数,利用ANSYS软件对泵浦用808nm半导体激光器一维线阵列在连续及准连续驱动条件下的稳态及瞬态温度分布进行了模拟和分析,并采用纵模光谱法对稳态热阻进行了测量,实测与模拟结果基本吻合。
关键词
半导体激光器阵列
温度分布
ANSYS软件
Keywords
semiconductor lasers arrays
temperature distribution
ANSYS
分类号
TN248.4 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
湿法腐蚀DFB半导体激光器的均匀光栅的研究
高丽艳
陈国鹰
花吉珍
张世祖
郭艳菊
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2005
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
InGaAs(InAlAs)/InP和InP/InAlAs湿法选择腐蚀研究
赵永林
蔡道明
周州
郭亚娜
刘跳
《微纳电子技术》
CAS
2005
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
连续波工作高功率应变单量子阱半导体激光器
辛国锋
陈国鹰
花吉珍
康志龙
赵卫青
安振峰
冯荣珠
牛健
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2003
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
4
大功率半导体激光器阵列热特性分析
李冬梅
安振锋
王晓燕
许敏
陈国鹰
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2006
4
在线阅读
下载PDF
职称材料
已选择
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引证文献
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