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辐射变色膜片对质子剂量响应的实验标定 被引量:1
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作者 洪伟 刘东晓 +3 位作者 滕建 焦春晔 伍波 谷渝秋 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第8期2017-2020,共4页
利用串列静电加速器产生的5~9MeV的质子束对HD-810型辐射变色膜片(RCF)进行了标定。用分光光度计和普通的商用平板扫描仪对辐照后的RCF透过率进行了测量,得到了光学密度变化随RCF灵敏层吸收剂量的变化曲线。标定实验结果表明:在一定的... 利用串列静电加速器产生的5~9MeV的质子束对HD-810型辐射变色膜片(RCF)进行了标定。用分光光度计和普通的商用平板扫描仪对辐照后的RCF透过率进行了测量,得到了光学密度变化随RCF灵敏层吸收剂量的变化曲线。标定实验结果表明:在一定的吸收剂量范围内,RCF的光学密度变化与RCF灵敏层中吸收剂量成线性关系,并且与质子能量无关。测量光学密度所用光源的波长对线性范围的大小有较大影响,绿光(532nm)比红光(670nm)有更大的剂量探测范围。 展开更多
关键词 辐射变色膜片 光学密度 吸收剂量 剂量响应 标定
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基于综合光谱法的污染物颗粒诱导光学元件损伤研究 被引量:2
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作者 丁坤艳 何长涛 +5 位作者 刘志刚 肖婧 冯国英 周凯南 谢娜 韩敬华 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第4期1234-1241,共8页
K9玻璃具有硬度高、热稳定性好、膨胀系数小以及较高的透过率等特性,被广泛应用在高功率激光领域。光学元件污染物诱导损伤问题成为限制高功率激光器发展的瓶颈之一,深入研究光学元件的损伤机理对于控制损伤的形成具有重要意义。为探究... K9玻璃具有硬度高、热稳定性好、膨胀系数小以及较高的透过率等特性,被广泛应用在高功率激光领域。光学元件污染物诱导损伤问题成为限制高功率激光器发展的瓶颈之一,深入研究光学元件的损伤机理对于控制损伤的形成具有重要意义。为探究损伤机理,利用光谱探测分析对Al_(2)O_(3)诱导K9玻璃激光损伤的机制进行了研究。即采用EDS能谱探测技术对损伤前后损伤形貌及元素原子百分比变化进行探究,进而了解损伤过程中发生的物理变化及烧蚀化学变化,并结合LIBS技术对损伤过程中的电离过程进行诊断和讨论。实现了对光学元件损伤原理的探究以及光学元件安全的实时监测。研究结果表明,在激光诱导污染物至K9玻璃损伤的过程中,Al_(2)O_(3)颗粒形貌发生变化,K9玻璃也有微形损伤坑的出现。此外,Al_(2)O_(3)颗粒元素原子百分比含量由于颗粒的变形而发生改变,K9基底中含有的Na_(2)O与氧气结合造成了O元素原子百分比含量升高,SiO_(2)会发生气化-凝结成超细颗粒导致Si元素原子百分比的降低。这些变化直接反映了在损伤过程中发生了高温熔融现象。电离击穿过程可以采用LIBS进行检测,得到在损伤过程中有等离子体闪光的特性。对上述物理过程进行了建模仿真研究,使用COMSOL模拟分析了在损伤过程中的热传导以及等离子体冲击波在基底内的传播特性。研究表明在发生损伤的过程中颗粒的温度达到2800 K高于自身的熔点(2313 K),同样,基底的温度(2500 K)也高于自身的熔点(1673 K),这直接引起相变,并在后续激光辐照下产生等离子体,等离子体的高压冲击等作用致使基底微型熔融损伤坑的出现。模拟分析验证了LIBS技术和EDS能谱分析探究光学元件损伤机制的可行性和准确性,该方法既可以用于损伤机理的分析,还可以对高功率激光系统稳定运行实施监测。 展开更多
关键词 激光损伤机理 激光诱导击穿光谱 能量色散光谱分析法 氧化铝颗粒
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神光Ⅲ原型装置红外脉冲波形测量系统的研制 被引量:6
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作者 夏彦文 孙志红 +3 位作者 赵润昌 唐军 李海 彭志涛 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2012年第6期1453-1457,共5页
为了提高神光Ⅲ原型装置激光脉冲波形测量的稳定性、可靠性、经济性,对原有测量系统进行了改造。整个系统由取样与光纤耦合单元、光纤传输单元、光纤合束与光电转换单元、数据采集单元构成,采用近场耦合光纤取样、时分复用的光纤传输技... 为了提高神光Ⅲ原型装置激光脉冲波形测量的稳定性、可靠性、经济性,对原有测量系统进行了改造。整个系统由取样与光纤耦合单元、光纤传输单元、光纤合束与光电转换单元、数据采集单元构成,采用近场耦合光纤取样、时分复用的光纤传输技术,利用一台示波器和光电转换器实现了神光Ⅲ原型装置的预放、主放16束激光脉冲时间波形的测试,提高了系统的运行效率和运行成本。 展开更多
关键词 光纤光学 光耦合 脉冲波形 脉冲展宽 高功率激光
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基于超短激光脉冲扫描法的超高速分幅相机时间响应特性测定 被引量:4
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作者 朱斌 滕建 +11 位作者 吴玉迟 范伟 王少义 税敏 李纲 张天奎 于明海 谭放 杨月 卢峰 闫永宏 谷渝秋 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第10期57-63,共7页
采用超短激光脉冲对一台四通道超高速分幅相机曝光过程进行时间扫描,测定超高速分幅相机时间响应特性.通过对四个通道的同时测定,给出最短曝光时间下相机所有通道的时间响应特性曲线.由此曲线得到相机各通道的实际曝光时间、开/关门时... 采用超短激光脉冲对一台四通道超高速分幅相机曝光过程进行时间扫描,测定超高速分幅相机时间响应特性.通过对四个通道的同时测定,给出最短曝光时间下相机所有通道的时间响应特性曲线.由此曲线得到相机各通道的实际曝光时间、开/关门时间、曝光过程中的响应变化以及四个通道不同的响应特性等诸多信息.通过对相机时间响应特性的测定,考核相机的实际工作性能与工作状态,并为实验数据解读提供参考.超短激光脉冲扫描法可以作为高速摄影类设备时间响应特性测定的标准方法. 展开更多
关键词 超短脉冲 扫描方法 分幅相机 时间响应特性 动态诊断
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去合金化工艺对纳米多孔铜纯度的影响 被引量:3
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作者 谭秀兰 李恺 +3 位作者 罗炳池 罗江山 吴卫东 唐永建 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第4期908-912,共5页
采用腐蚀去合金化方法制备纳米多孔铜材料。研究了固溶时间、腐蚀时间及腐蚀温度对纳米多孔铜表面形貌及残余Mn含量的影响。研究表明:由于固溶时间的延长,合金成分越来越均匀化,去合金化后所得纳米多孔铜的残余Mn原子分数降低。固溶95h... 采用腐蚀去合金化方法制备纳米多孔铜材料。研究了固溶时间、腐蚀时间及腐蚀温度对纳米多孔铜表面形貌及残余Mn含量的影响。研究表明:由于固溶时间的延长,合金成分越来越均匀化,去合金化后所得纳米多孔铜的残余Mn原子分数降低。固溶95h的前驱体合金,随着腐蚀时间的延长,其残余Mn含量降低不明显;随着温度的升高,其残余Mn原子分数由25℃的3.54%降至60℃的1.14%,但是60℃腐蚀后的孔隙与丝径尺寸明显粗化,样品易碎。通过调整去合金化参数,实验所制备的纳米多孔铜呈现均匀的海绵状纳米多孔结构,残余Mn原子分数1.23%,平均丝径尺寸40nm。 展开更多
关键词 纳米多孔铜 去合金化 前驱体合金 表面形貌
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面向对象程序设计在数据采集程序中的一种应用
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作者 苏春晓 虞孝麒 +2 位作者 杨存榜 郭素 陈红素 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第6期502-505,共4页
介绍了包含型多态性的概念和在支持多种数据采集硬件数据采集程序中的应用 ,介绍了应用虚拟函数技术所得到的优点。
关键词 面向对象 程序设计 数据采集程序 多态性 虚函数
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溶剂热法中Na_2S浓度对银纳米线合成的影响 被引量:7
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作者 陈超华 易早 +4 位作者 谭秀兰 陈家富 吴劼 易有根 唐永建 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第3期75-78,共4页
系统地探讨了溶剂热法中不同Na2S浓度对制备银纳米线的影响。采用扫描电镜、X射线衍射仪和紫外-可见分光光度计对样品进行表征及分析。结果表明,Na2S浓度对银纳米线的合成有着重要的影响,在一定浓度范围内,随着Na2S浓度的增加,银纳米线... 系统地探讨了溶剂热法中不同Na2S浓度对制备银纳米线的影响。采用扫描电镜、X射线衍射仪和紫外-可见分光光度计对样品进行表征及分析。结果表明,Na2S浓度对银纳米线的合成有着重要的影响,在一定浓度范围内,随着Na2S浓度的增加,银纳米线逐渐增加;当Na2S浓度为1mmol/L时,可以得到尺度均匀的纯银纳米线,浓度过大时又会出现类球状银纳米颗粒。 展开更多
关键词 银纳米线 溶剂热法 Na2S
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易碎Be靶丸表面精密抛光技术与理论分析
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作者 李文琦 张建波 +5 位作者 李恺 马小军 罗炳池 蒋晓东 吴卫东 戴亚平 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第5期286-291,共6页
目的建立一种新的易碎空心微球抛光机模型,并研制出该样机,用于空心Be微球的精密抛光。方法采用限位孔设计解决微球低应力夹持问题,添加不同数量的配重球,用于调整待抛球的滑动摩擦力大小和防止其飞出限位孔。上下盘偏心放置,实现微球... 目的建立一种新的易碎空心微球抛光机模型,并研制出该样机,用于空心Be微球的精密抛光。方法采用限位孔设计解决微球低应力夹持问题,添加不同数量的配重球,用于调整待抛球的滑动摩擦力大小和防止其飞出限位孔。上下盘偏心放置,实现微球无规运动。采用白光干涉仪分析抛光后Be微球的表面粗糙度。结果抛光机模型计算表明,待抛球一直在做周期性的变速和变加速运动,其周期大小由上盘转动频率决定,变加速运动增加了微球的滑动摩擦成分,有利于提高微球抛光效率。此外,待抛球表面抛光轨迹呈现无规行走,这有利于抛光的均匀性。使用该原理抛光机,在24 h内能够将直径1.2 mm、均方根表面粗糙度510 nm的易碎铍(Be)靶丸抛光至85 nm。结论理论和实验共同验证了易碎微球抛光机模型的合理性和可行性,上下盘放置方式、限位孔大小设计和配重球数量等关系着易碎微球的抛光均匀性和抛光效率。 展开更多
关键词 精密抛光 无规行走 表面粗糙度 铍靶丸
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PMMA/铜微米线阵列复合材料的制备
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作者 魏威 杨波 +3 位作者 牛高 陈姝帆 杨辉 曾体贤 《塑料》 CAS CSCD 北大核心 2020年第2期136-139,共4页
针对内爆物理实验对编码靶的需求,采用多级集束热拉伸法,制备了包埋聚苯乙烯(PS)编码阵列结构的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)复合丝,经切片、溶解等处理后,得到了具有6孔和26孔编码阵列结构的PMMA模板,再通过电化学沉积得到PMMA/Cu编码阵列... 针对内爆物理实验对编码靶的需求,采用多级集束热拉伸法,制备了包埋聚苯乙烯(PS)编码阵列结构的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)复合丝,经切片、溶解等处理后,得到了具有6孔和26孔编码阵列结构的PMMA模板,再通过电化学沉积得到PMMA/Cu编码阵列复合材料。光学显微镜、微米CT及SEM观测表明,二级拉伸后PS结构直径减小到几十微米,三级拉伸得到的PMMA模板孔径及孔间距一致,分别为5μm和2μm;铜丝径及丝间距与对应的模板一致,铜丝长度达到了30μm;铜微米线在基体中呈规整的编码阵列分布,且表面完整平滑。这2种具有特定尺寸与排列方式的铜微米丝阵列的成功制备,为微纳米阵列的可控制备提供了一种新的方法。 展开更多
关键词 集束热拉伸 PMMA模板 铜微米线 编码阵列 电化学沉积
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