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压力传感器湿法腐蚀敏感膜的工艺研究
1
作者
闫施锦
王丙寅
+5 位作者
王志强
雷程
冀鹏飞
邱海兵
谭秋林
梁庭
《压电与声光》
北大核心
2025年第1期63-68,共6页
随着压力传感器的小型化和高频化发展,降低成本并提升制造工艺成为当前研究的关键。该文通过优化硅片湿法腐蚀工艺来降低压力传感器的制造成本,并使其性能更贴近设计要求。首先,深入研究了不同浓度TMAH(四甲基氢氧化铵)对硅片腐蚀效果...
随着压力传感器的小型化和高频化发展,降低成本并提升制造工艺成为当前研究的关键。该文通过优化硅片湿法腐蚀工艺来降低压力传感器的制造成本,并使其性能更贴近设计要求。首先,深入研究了不同浓度TMAH(四甲基氢氧化铵)对硅片腐蚀效果的影响,通过优化腐蚀工艺条件,确定了在80℃下使用质量分数为25%的TMAH作为腐蚀液,最终成功获得了表面粗糙度仅为0.121μm的低粗糙度硅片表面。然后利用有限元模拟技术,对比了质量分数为5%TMAH湿法腐蚀条件下的灵敏度(109.162 mV/MPa)与质量分数为25%TMAH湿法腐蚀条件下的灵敏度(103.276 mV/MPa),而后者更接近设计要求的灵敏度值(100 mV/MPa)。成功总结了高效的湿法腐蚀工艺,并基于该工艺设计了压力传感器的制造流程。预期该流程能以低成本生产出性能更贴近设计要求的压力传感器,为压力传感器的小型化和高频化发展提供了有力的技术支持。
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关键词
压力传感器
湿法腐蚀
敏感膜
腐蚀形貌
粗糙度
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职称材料
题名
压力传感器湿法腐蚀敏感膜的工艺研究
1
作者
闫施锦
王丙寅
王志强
雷程
冀鹏飞
邱海兵
谭秋林
梁庭
机构
中北大学动态测量技术国家重点实验室
内蒙动力机械研究所
出处
《压电与声光》
北大核心
2025年第1期63-68,共6页
基金
国家重点研发计划(2023YFB3209100)
山西省重点研发计划(2023020302010)。
文摘
随着压力传感器的小型化和高频化发展,降低成本并提升制造工艺成为当前研究的关键。该文通过优化硅片湿法腐蚀工艺来降低压力传感器的制造成本,并使其性能更贴近设计要求。首先,深入研究了不同浓度TMAH(四甲基氢氧化铵)对硅片腐蚀效果的影响,通过优化腐蚀工艺条件,确定了在80℃下使用质量分数为25%的TMAH作为腐蚀液,最终成功获得了表面粗糙度仅为0.121μm的低粗糙度硅片表面。然后利用有限元模拟技术,对比了质量分数为5%TMAH湿法腐蚀条件下的灵敏度(109.162 mV/MPa)与质量分数为25%TMAH湿法腐蚀条件下的灵敏度(103.276 mV/MPa),而后者更接近设计要求的灵敏度值(100 mV/MPa)。成功总结了高效的湿法腐蚀工艺,并基于该工艺设计了压力传感器的制造流程。预期该流程能以低成本生产出性能更贴近设计要求的压力传感器,为压力传感器的小型化和高频化发展提供了有力的技术支持。
关键词
压力传感器
湿法腐蚀
敏感膜
腐蚀形貌
粗糙度
Keywords
pressure sensor
wet etching
sensitive film
etching morphology
roughness
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
TN43 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
压力传感器湿法腐蚀敏感膜的工艺研究
闫施锦
王丙寅
王志强
雷程
冀鹏飞
邱海兵
谭秋林
梁庭
《压电与声光》
北大核心
2025
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