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激光刻蚀在覆盖Cu-Ni的PVDF薄膜图案化中的应用
被引量：
1
1
作者
朱晓航
王任鑫
+1 位作者
白建新
张鹏飞
《传感器与微系统》
CSCD
北大核心
2021年第4期154-156,共3页
为了对表面镀有纳米级别金属层的聚偏氟乙烯(PVDF)压电薄膜上进行金属图案化处理,利用光刻技术,分别通过湿法腐蚀和干法刻蚀两种途径。实施了不同配方的湿法腐蚀、离子束刻蚀(IBE)、激光刻蚀对表层覆盖Ni-Cu的PVDF薄膜进行尝试。结果发...
为了对表面镀有纳米级别金属层的聚偏氟乙烯(PVDF)压电薄膜上进行金属图案化处理,利用光刻技术,分别通过湿法腐蚀和干法刻蚀两种途径。实施了不同配方的湿法腐蚀、离子束刻蚀(IBE)、激光刻蚀对表层覆盖Ni-Cu的PVDF薄膜进行尝试。结果发现:激光刻蚀可以得到宽度为100μm,厚度为450 nm,长度为600μm的曲梁电极图案。
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关键词
聚偏氟乙烯
电极
激光刻蚀
压电薄膜
金属图案化
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职称材料
题名
激光刻蚀在覆盖Cu-Ni的PVDF薄膜图案化中的应用
被引量：
1
1
作者
朱晓航
王任鑫
白建新
张鹏飞
机构
中北大学动态测试技术省部共建国家重点实验室培育基地
声纳
技术
重点
实验室
出处
《传感器与微系统》
CSCD
北大核心
2021年第4期154-156,共3页
基金
国家自然科学基金资助项目(51875535)
国家重点研发计划资助项目(2019YFC0119800)
国防科技重点实验室基金资助项目(6142109KF201804)。
文摘
为了对表面镀有纳米级别金属层的聚偏氟乙烯(PVDF)压电薄膜上进行金属图案化处理,利用光刻技术,分别通过湿法腐蚀和干法刻蚀两种途径。实施了不同配方的湿法腐蚀、离子束刻蚀(IBE)、激光刻蚀对表层覆盖Ni-Cu的PVDF薄膜进行尝试。结果发现:激光刻蚀可以得到宽度为100μm,厚度为450 nm,长度为600μm的曲梁电极图案。
关键词
聚偏氟乙烯
电极
激光刻蚀
压电薄膜
金属图案化
Keywords
polyvinylidenefluoride(PVDF)
electrode
laser etching
piezoelectric thin film
metal patterning
分类号
TH706 [机械工程—精密仪器及机械]
TP212 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
激光刻蚀在覆盖Cu-Ni的PVDF薄膜图案化中的应用
朱晓航
王任鑫
白建新
张鹏飞
《传感器与微系统》
CSCD
北大核心
2021
1
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