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北京大气气溶胶表面无机组分的静态飞行时间二次离子质谱研究 被引量:4
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作者 李红 柴发合 +4 位作者 鲁德凤 王学中 邓利群 倪润祥 陈义珍 《环境科学研究》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期619-626,共8页
采用特定的样品处理方式,利用静态飞行时间二次离子质谱(Static-TOF-SIMS)技术,对使用通用型大气污染物采样仪VAPS(URG-3000K)采集于非导电性的滤膜(聚碳酸酯滤膜)上的大气气溶胶细粒子(PM2.5)与粗粒子(PM2.5~10)的表面无机组分进行了... 采用特定的样品处理方式,利用静态飞行时间二次离子质谱(Static-TOF-SIMS)技术,对使用通用型大气污染物采样仪VAPS(URG-3000K)采集于非导电性的滤膜(聚碳酸酯滤膜)上的大气气溶胶细粒子(PM2.5)与粗粒子(PM2.5~10)的表面无机组分进行了探索性的比较分析.结果表明:大气气溶胶细粒子与粗粒子的表面无机组分组成特征具有明显的差异;气溶胶细粒子表面存在着大气中二次形成的亲水性化合物,会对其表面的疏水性/亲水性特征产生影响,从而影响其大气化学行为;气溶胶粗粒子表面存在氟化物,对生态环境和人体健康具有潜在的危害性,应该重视对气溶胶中氟污染的研究与控制;静态飞行时间二次离子质谱可以成为研究大气气溶胶表面化学组成特征的有利分析手段. 展开更多
关键词 气溶胶表面分析 无机组分 静态飞行时间二次离子质谱 北京
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不同工艺制备的ta-C和ta-C:N薄膜表面粗糙度研究(英文) 被引量:4
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作者 张化宇 刘良学 +3 位作者 马洪涛 刘凡新 刘会良 王东 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第5期673-675,共3页
采用FCVA工艺成功制备了ta-C薄膜,采用ECR-CVD工艺对部分ta-C薄膜试样进行氮等离子体处理,制备了ta-C:N薄膜。对两种薄膜的表面粗糙度与元素含量、沉积工艺参数之间的关系进行了研究。通过AFM对薄膜表面粗糙度进行了分析,通过XPS对薄膜... 采用FCVA工艺成功制备了ta-C薄膜,采用ECR-CVD工艺对部分ta-C薄膜试样进行氮等离子体处理,制备了ta-C:N薄膜。对两种薄膜的表面粗糙度与元素含量、沉积工艺参数之间的关系进行了研究。通过AFM对薄膜表面粗糙度进行了分析,通过XPS对薄膜的元素含量进行了分析。试验结果显示,沉积条件对薄膜厚度和元素含量具有明显的影响。对ta-C薄膜进行氮等离子体处理后,其表面粗糙度有一个明显的起伏变化。研究结果表明,氮能改变DLC薄膜表面的粗糙度。元素含量也随着薄膜的厚度变化而变化。 展开更多
关键词 ta—C:N AFM XPS 粗糙度
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光学材料抛光亚表面损伤检测及材料去除机理 被引量:13
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作者 王卓 吴宇列 +3 位作者 戴一帆 李圣怡 鲁德凤 徐惠赟 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期107-111,共5页
抛光后光学元件仍然存在亚表面损伤,它降低光学元件的抗激光损伤能力和光学性能,为去除抛光亚表面损伤以提升光学元件使用性能,需要对其进行准确检测和表征。首先,采用恒定化学蚀刻速率法和二次离子质谱法分别检测水解层深度和抛光杂质... 抛光后光学元件仍然存在亚表面损伤,它降低光学元件的抗激光损伤能力和光学性能,为去除抛光亚表面损伤以提升光学元件使用性能,需要对其进行准确检测和表征。首先,采用恒定化学蚀刻速率法和二次离子质谱法分别检测水解层深度和抛光杂质的嵌入深度。然后,使用原子力显微镜检测亚表面塑性划痕的几何尺寸。通过分析表面粗糙度沿深度的演变规律,研究浅表面流动层、水解层和亚表面塑性划痕间的依存关系。最后,建立抛光亚表面损伤模型,并在此基础上探讨抛光材料去除机理。研究表明:水解层内包括浅表面流动层、塑性划痕和抛光过程嵌入的抛光杂质;石英玻璃水解层深度介于76和105nm之间;抛光过程是水解反应、机械去除和塑性流动共同作用的结果。 展开更多
关键词 亚表面损伤 抛光 水解层 材料去除机理
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激光热处理对类金刚石薄膜结构的影响 被引量:5
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作者 车晓舟 陈莲华 +1 位作者 马洪涛 刘凡新 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期76-79,共4页
用真空阴极过滤电弧法沉积了厚度为2 nm的类金刚石(DLC)薄膜,研究了激光加热退火时薄膜结构和表面粗糙度的变化,分析了激光加热功率对薄膜结构的影响。结果表明,当激光功率小于200 mW时,DLC薄膜的结构基本保持不变;激光功率增大到300 mW... 用真空阴极过滤电弧法沉积了厚度为2 nm的类金刚石(DLC)薄膜,研究了激光加热退火时薄膜结构和表面粗糙度的变化,分析了激光加热功率对薄膜结构的影响。结果表明,当激光功率小于200 mW时,DLC薄膜的结构基本保持不变;激光功率增大到300 mW,薄膜中少量的sp3键转变为sp2键,但薄膜的表面形貌基本保持不变。随着激光功率增大到400mW,薄膜中sp3键向sp2键的转变量增大;当激光功率达到500 mW时,薄膜中大量的sp3键转变为sp2键,sp2六原子环含量迅速增大,薄膜表面粗糙度开始明显增大,出现凹凸不平的表面形貌。 展开更多
关键词 真空阴极过滤电弧 类金刚石薄膜 退火 激光功率 结构
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锂离子电池微孔隔膜的形态表征 被引量:2
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作者 胡利芬 彭坚 +1 位作者 陈学文 刘华文 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2015年第10期46-47,54,共3页
就当前锂离子电池研究中的热点问题——隔膜材料,探讨了微孔隔膜的制备方法,对干法和湿法的原理、工艺及所制得的隔膜性能上的区别进行了简单阐述。重点介绍了不同微孔隔膜的显微形态特征,特别提出了FIB聚焦离子束显微镜观察横断面的方... 就当前锂离子电池研究中的热点问题——隔膜材料,探讨了微孔隔膜的制备方法,对干法和湿法的原理、工艺及所制得的隔膜性能上的区别进行了简单阐述。重点介绍了不同微孔隔膜的显微形态特征,特别提出了FIB聚焦离子束显微镜观察横断面的方法,从隔膜表面和横断面两方面反映出不同制备工艺隔膜的差异。 展开更多
关键词 锂电池 微孔隔膜 材料 制备 形态 表征 聚焦离子束显微镜
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自动磁头振动清洗机的研制
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作者 朱垂岱 《机床与液压》 北大核心 2021年第18期111-114,共4页
根据磁头生产工艺要求,经过切削工序后的产品Slider需进行清洗,以保证清洁度。研制七臂七缸自动磁头振动清洗机,主要由上料位、冲洗位、振动刷洗位、海绵擦洗位、烘干系统、水路系统、七机械臂组合机构、框架等部分组成。介绍该设备的... 根据磁头生产工艺要求,经过切削工序后的产品Slider需进行清洗,以保证清洁度。研制七臂七缸自动磁头振动清洗机,主要由上料位、冲洗位、振动刷洗位、海绵擦洗位、烘干系统、水路系统、七机械臂组合机构、框架等部分组成。介绍该设备的清洗对象和清洗方法,研究清洗时间、清洗液浓度、毛刷压入量等清洗参数对产品清洁度和掉料率的影响。设备投入使用后,运行稳定、可靠,产品清洗效果满足生产要求。 展开更多
关键词 磁头 自动清洗机 振动清洗 清洗参数
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