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利用P-MBE在Si(111)衬底上生长氧化锌薄膜及其光学性质的研究
被引量:
1
1
作者
颜建锋
梁红伟
+5 位作者
吕有明
刘益春
李炳辉
申德振
张吉英
范希武
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第2期103-106,共4页
在Si( 111)衬底上利用等离子体辅助分子束外延 (P MBE)生长氧化锌 (ZnO)薄膜 ,研究了在不同衬底生长温度下 ( 35 0~ 75 0℃ )制备的ZnO薄膜的结构和光学性质 .随着衬底温度的升高 ,样品的X射线及光致发光的半高宽度都是先变小后变大 ,...
在Si( 111)衬底上利用等离子体辅助分子束外延 (P MBE)生长氧化锌 (ZnO)薄膜 ,研究了在不同衬底生长温度下 ( 35 0~ 75 0℃ )制备的ZnO薄膜的结构和光学性质 .随着衬底温度的升高 ,样品的X射线及光致发光的半高宽度都是先变小后变大 ,衬底温度为 5 5 0℃样品的结构及光学性质都比较好 ,这表明 5 5 0℃为在Si( 111)衬底上生长ZnO薄膜的最佳衬底温度 ;同时 ,我们还通过 5 5 0℃样品的变温光致发光谱 ( 81~ 30 0K)研究了ZnO薄膜室温紫外发光峰的来源 。
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关键词
氧化锌薄膜
等离子体辅助分子束外延法
光致发光
半导体材料
X射线衍射分析
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职称材料
离子注入及后退火方法制备SiO_2基质中镶嵌ZnO纳米粒子的结构和光学性质
被引量:
3
2
作者
刘玉学
刘益春
+3 位作者
申德振
钟国柱
范希武
孔祥贵
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期445-450,共6页
利用离子注入及后退火方法在光学纯的石英基片中注入 3× 10 17cm-2 剂量的Zn离子 ,然后在不同的退火条件下制备了高质量的镶嵌在SiO2 基质中的ZnO纳米粒子。X射线衍射光谱的实验结果表明 :在氧气气氛、70 0℃退火温度和 2小时退火...
利用离子注入及后退火方法在光学纯的石英基片中注入 3× 10 17cm-2 剂量的Zn离子 ,然后在不同的退火条件下制备了高质量的镶嵌在SiO2 基质中的ZnO纳米粒子。X射线衍射光谱的实验结果表明 :在氧气气氛、70 0℃退火温度和 2小时退火时间条件下 ,得到了 (0 0 2 )择优取向镶嵌在SiO2 基质中的ZnO纳米粒子 ;而在 70 0℃退火温度、N2 和O2 气氛下顺次退火 1小时 ,得到了比上述条件 (0 0 2 )择优取向更好的ZnO纳米粒子。室温下对用上述两种条件制备的镶嵌在SiO2 基质中的ZnO纳米粒子观察到了自由激子吸收峰。室温光致发光谱中观察到了ZnO纳米粒子位于 3 2 9eV处的强紫外发射 ,紫外发射强度与深能级发光强度之比为4 0 ,紫外发射峰的半高宽为 96meV ,晶体质量类似于分子束外延方法生长的ZnO。在低温 (77K)光致发光谱中 。
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关键词
后退火方法
制备
SiO2基质
结构
光学性质
离子注入
ZNO纳米粒子
光致发光
激子
氧化锌
二氧化硅基质
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职称材料
题名
利用P-MBE在Si(111)衬底上生长氧化锌薄膜及其光学性质的研究
被引量:
1
1
作者
颜建锋
梁红伟
吕有明
刘益春
李炳辉
申德振
张吉英
范希武
机构
东北师范大学物理系理论物理研究所
中国科学院长春光学精密机械与
物理
研究所
激发态
物理
重点实验室
出处
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第2期103-106,共4页
基金
国家"8 63"高技术 .新材料领域 (2 0 0 1AA3 1112 )
国家自然科学重点基金(60 3 3 60 2 0 )
+3 种基金
国家自然科学基金资助项目(60 1760 0 3
60 2 780 31
60 3 760 0 9)
中国科学院二期创新资助项目
文摘
在Si( 111)衬底上利用等离子体辅助分子束外延 (P MBE)生长氧化锌 (ZnO)薄膜 ,研究了在不同衬底生长温度下 ( 35 0~ 75 0℃ )制备的ZnO薄膜的结构和光学性质 .随着衬底温度的升高 ,样品的X射线及光致发光的半高宽度都是先变小后变大 ,衬底温度为 5 5 0℃样品的结构及光学性质都比较好 ,这表明 5 5 0℃为在Si( 111)衬底上生长ZnO薄膜的最佳衬底温度 ;同时 ,我们还通过 5 5 0℃样品的变温光致发光谱 ( 81~ 30 0K)研究了ZnO薄膜室温紫外发光峰的来源 。
关键词
氧化锌薄膜
等离子体辅助分子束外延法
光致发光
半导体材料
X射线衍射分析
Keywords
zinc oxide (ZnO)
plasma assisted molecular beam epitaxy
photoluminescence
adsorption
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
O484.41 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
离子注入及后退火方法制备SiO_2基质中镶嵌ZnO纳米粒子的结构和光学性质
被引量:
3
2
作者
刘玉学
刘益春
申德振
钟国柱
范希武
孔祥贵
机构
中国科学院激发态
物理
重点实验室
东北师范大学物理系理论物理研究所
出处
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期445-450,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目 (60 1760 0 3 )
文摘
利用离子注入及后退火方法在光学纯的石英基片中注入 3× 10 17cm-2 剂量的Zn离子 ,然后在不同的退火条件下制备了高质量的镶嵌在SiO2 基质中的ZnO纳米粒子。X射线衍射光谱的实验结果表明 :在氧气气氛、70 0℃退火温度和 2小时退火时间条件下 ,得到了 (0 0 2 )择优取向镶嵌在SiO2 基质中的ZnO纳米粒子 ;而在 70 0℃退火温度、N2 和O2 气氛下顺次退火 1小时 ,得到了比上述条件 (0 0 2 )择优取向更好的ZnO纳米粒子。室温下对用上述两种条件制备的镶嵌在SiO2 基质中的ZnO纳米粒子观察到了自由激子吸收峰。室温光致发光谱中观察到了ZnO纳米粒子位于 3 2 9eV处的强紫外发射 ,紫外发射强度与深能级发光强度之比为4 0 ,紫外发射峰的半高宽为 96meV ,晶体质量类似于分子束外延方法生长的ZnO。在低温 (77K)光致发光谱中 。
关键词
后退火方法
制备
SiO2基质
结构
光学性质
离子注入
ZNO纳米粒子
光致发光
激子
氧化锌
二氧化硅基质
Keywords
ion implantation
ZnO nanoparticles
thermal annealing
photoluminescence
exciton
分类号
TN304.21 [电子电信—物理电子学]
O472.3 [理学—半导体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
利用P-MBE在Si(111)衬底上生长氧化锌薄膜及其光学性质的研究
颜建锋
梁红伟
吕有明
刘益春
李炳辉
申德振
张吉英
范希武
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
1
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
离子注入及后退火方法制备SiO_2基质中镶嵌ZnO纳米粒子的结构和光学性质
刘玉学
刘益春
申德振
钟国柱
范希武
孔祥贵
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
3
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职称材料
已选择
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