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氢离子在含铍合金中的渗透
1
作者
刘翔
山口宪司
山胁道夫
《核科学与工程》
CSCD
北大核心
1993年第4期333-338,7,共6页
测量了氢离子束通过 Cu-1.85 wt%Be 薄膜的渗透率,样品的表面成分由在位的俄歇电子谱仪(AES)监测。表面分析表明在本实验条件下,样品表面形成了致密的氧化铍(BeO),深度分布证实其厚度约为4 nm。氧化铍在表面的覆盖来源于真空中残余氧气...
测量了氢离子束通过 Cu-1.85 wt%Be 薄膜的渗透率,样品的表面成分由在位的俄歇电子谱仪(AES)监测。表面分析表明在本实验条件下,样品表面形成了致密的氧化铍(BeO),深度分布证实其厚度约为4 nm。氧化铍在表面的覆盖来源于真空中残余氧气在样品表面的化学吸附,从而导致了铍的择优氧化。而这种表面偏析可能会对氢渗透起到表面势垒的作用。为此在573 K到873 K 的温度范围内,测量了能量为3 keV,束流强度为5.6×10^(13)H/cm^2·s 的氯离子束通过样品的渗透率。实验结果与纯铜和纯铍的渗透率相比较,并按照氧化铍的表面势垒作用对渗透行为的影响进行了讨论。
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关键词
氢渗透
表面势垒
化学吸附
氧化铍
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职称材料
题名
氢离子在含铍合金中的渗透
1
作者
刘翔
山口宪司
山胁道夫
机构
核
工
业西南物理
研究
院
东京大学原子力工学研究施设
出处
《核科学与工程》
CSCD
北大核心
1993年第4期333-338,7,共6页
文摘
测量了氢离子束通过 Cu-1.85 wt%Be 薄膜的渗透率,样品的表面成分由在位的俄歇电子谱仪(AES)监测。表面分析表明在本实验条件下,样品表面形成了致密的氧化铍(BeO),深度分布证实其厚度约为4 nm。氧化铍在表面的覆盖来源于真空中残余氧气在样品表面的化学吸附,从而导致了铍的择优氧化。而这种表面偏析可能会对氢渗透起到表面势垒的作用。为此在573 K到873 K 的温度范围内,测量了能量为3 keV,束流强度为5.6×10^(13)H/cm^2·s 的氯离子束通过样品的渗透率。实验结果与纯铜和纯铍的渗透率相比较,并按照氧化铍的表面势垒作用对渗透行为的影响进行了讨论。
关键词
氢渗透
表面势垒
化学吸附
氧化铍
Keywords
hydrogen permeation
chemisorption-induced segregation
surface barrier
分类号
TL621 [核科学技术—核技术及应用]
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作者
出处
发文年
被引量
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1
氢离子在含铍合金中的渗透
刘翔
山口宪司
山胁道夫
《核科学与工程》
CSCD
北大核心
1993
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