采用磁控溅射工艺,以Fe3O4磁性导体作为基底材料在其表面制得Nd Co Cr合金薄膜,分析了加入不同比例Co的情况下制得的Nd-Co非晶薄膜垂直磁各向异性(PMA)性能及其磁畴特征,同时对退火态薄膜组织相成分和磁性进行研究。结果表明:本实验制...采用磁控溅射工艺,以Fe3O4磁性导体作为基底材料在其表面制得Nd Co Cr合金薄膜,分析了加入不同比例Co的情况下制得的Nd-Co非晶薄膜垂直磁各向异性(PMA)性能及其磁畴特征,同时对退火态薄膜组织相成分和磁性进行研究。结果表明:本实验制得了具有非晶形态的薄膜结构,当薄膜内的Co含量增加后,形成了强度更高的Fe3O4衍射峰。当Co含量逐渐增大后,Ms发生了不断增强。初始薄膜Keff表现为随Co含量增大而提高。Co含量为4%试样MFM图像上形成了明暗相间条纹。通过MFM方法测试得到的Δ■r曲线表现为与Ku曲线形状具有明显相似性,都在Co含量为6%位置处达到最大值。各退火态试样中都形成了Nd4Co3、Nd2Co17、Nd Co Cr2。当薄膜内析出NdCoCr5与Nd2Co7纳米晶后,获得了更大矫顽力,当Co含量大于4%时,退火态薄膜形成了较低的矫顽力。展开更多
文摘采用磁控溅射工艺,以Fe3O4磁性导体作为基底材料在其表面制得Nd Co Cr合金薄膜,分析了加入不同比例Co的情况下制得的Nd-Co非晶薄膜垂直磁各向异性(PMA)性能及其磁畴特征,同时对退火态薄膜组织相成分和磁性进行研究。结果表明:本实验制得了具有非晶形态的薄膜结构,当薄膜内的Co含量增加后,形成了强度更高的Fe3O4衍射峰。当Co含量逐渐增大后,Ms发生了不断增强。初始薄膜Keff表现为随Co含量增大而提高。Co含量为4%试样MFM图像上形成了明暗相间条纹。通过MFM方法测试得到的Δ■r曲线表现为与Ku曲线形状具有明显相似性,都在Co含量为6%位置处达到最大值。各退火态试样中都形成了Nd4Co3、Nd2Co17、Nd Co Cr2。当薄膜内析出NdCoCr5与Nd2Co7纳米晶后,获得了更大矫顽力,当Co含量大于4%时,退火态薄膜形成了较低的矫顽力。
