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含氟紫外纳米压印光刻胶的研制
被引量：
5
1
作者
赵彬
周伟民
+5 位作者
张静
刘彦伯
王金合
张燕萍
施利毅
张剑平
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2012年第7期471-477,共7页
从主体树脂性质、光引发剂的选择、助剂的选择、溶剂的设计等多个方面论述了含氟纳米压印光刻胶的研制工艺。在纯有机材料为主体的光刻胶中引入了全氟丙烯酸酯助剂,解释了含氟助剂在光刻胶中的作用。使用接触角法评估了全氟丙烯酸酯对...
从主体树脂性质、光引发剂的选择、助剂的选择、溶剂的设计等多个方面论述了含氟纳米压印光刻胶的研制工艺。在纯有机材料为主体的光刻胶中引入了全氟丙烯酸酯助剂,解释了含氟助剂在光刻胶中的作用。使用接触角法评估了全氟丙烯酸酯对光刻胶表面性质的影响,并通过接触角数据预测了光刻胶的脱模能力。通过旋涂、压印、刻蚀等实验验证了光刻胶的性能,并通过实验数据筛选出了最佳配方。研制出的光刻胶样品图形保真度高、分辨率好,对底材有良好的黏附力,且具有良好的脱模能力。
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关键词
紫外纳米压印
光刻胶
含氟助剂
接触角
脱模
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职称材料
纳米压印光刻胶
被引量：
2
2
作者
赵彬
张静
+5 位作者
周伟民
王金合
刘彦伯
张燕萍
施利毅
张剑平
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2011年第9期606-612,共7页
光刻胶是纳米压印的关键材料,其性能将影响压印图形复制精度、图形缺陷率和图形向底材转移时刻蚀选择性。提出了成膜性能、硬度黏度、固化速度、界面性质和抗刻蚀能力等压印光刻胶的性能指标。并根据工艺特点和材料成分对光刻胶分类,介...
光刻胶是纳米压印的关键材料,其性能将影响压印图形复制精度、图形缺陷率和图形向底材转移时刻蚀选择性。提出了成膜性能、硬度黏度、固化速度、界面性质和抗刻蚀能力等压印光刻胶的性能指标。并根据工艺特点和材料成分对光刻胶分类,介绍了热压印光刻胶、紫外压印光刻胶、步进压印式光刻胶和滚动压印式光刻胶的特点以及碳氧类纯有机材料、有机氟材料、有机硅材料做压印光刻胶的优缺点。列举了热压印、紫外压印、步进压印工艺中具有代表性的光刻胶实例,详细分析了其配方中各组分的比例和作用。介绍了可降解光刻胶的原理。展望了压印光刻胶的发展趋势。
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关键词
纳米压印(NIL)
热压印光刻胶
紫外压印光刻胶
氟聚合物
有机硅聚合物
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职称材料
题名
含氟紫外纳米压印光刻胶的研制
被引量：
5
1
作者
赵彬
周伟民
张静
刘彦伯
王金合
张燕萍
施利毅
张剑平
机构
上海
大学理学院化学系
上海市纳米科技与产业发展促进中心纳米核心技术实验室
出处
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2012年第7期471-477,共7页
基金
上海市科委纳米专项基金资助项目(1052nm07500)
文摘
从主体树脂性质、光引发剂的选择、助剂的选择、溶剂的设计等多个方面论述了含氟纳米压印光刻胶的研制工艺。在纯有机材料为主体的光刻胶中引入了全氟丙烯酸酯助剂,解释了含氟助剂在光刻胶中的作用。使用接触角法评估了全氟丙烯酸酯对光刻胶表面性质的影响,并通过接触角数据预测了光刻胶的脱模能力。通过旋涂、压印、刻蚀等实验验证了光刻胶的性能,并通过实验数据筛选出了最佳配方。研制出的光刻胶样品图形保真度高、分辨率好,对底材有良好的黏附力,且具有良好的脱模能力。
关键词
紫外纳米压印
光刻胶
含氟助剂
接触角
脱模
Keywords
UV-nanoimprint lithography
resist
fluorine-contained additive
contact angle
demolding
分类号
TQ577.35 [化学工程—精细化工]
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职称材料
题名
纳米压印光刻胶
被引量：
2
2
作者
赵彬
张静
周伟民
王金合
刘彦伯
张燕萍
施利毅
张剑平
机构
上海
大学理学院化学系
上海市纳米科技与产业发展促进中心纳米核心技术实验室
出处
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2011年第9期606-612,共7页
基金
上海市科委纳米专项基金(1052nm07500)
文摘
光刻胶是纳米压印的关键材料,其性能将影响压印图形复制精度、图形缺陷率和图形向底材转移时刻蚀选择性。提出了成膜性能、硬度黏度、固化速度、界面性质和抗刻蚀能力等压印光刻胶的性能指标。并根据工艺特点和材料成分对光刻胶分类,介绍了热压印光刻胶、紫外压印光刻胶、步进压印式光刻胶和滚动压印式光刻胶的特点以及碳氧类纯有机材料、有机氟材料、有机硅材料做压印光刻胶的优缺点。列举了热压印、紫外压印、步进压印工艺中具有代表性的光刻胶实例,详细分析了其配方中各组分的比例和作用。介绍了可降解光刻胶的原理。展望了压印光刻胶的发展趋势。
关键词
纳米压印(NIL)
热压印光刻胶
紫外压印光刻胶
氟聚合物
有机硅聚合物
Keywords
nanoimprint lithography（NIL）
hot embossing resist
UV-nanoimprint resist
fluoropolymer
organosilicon polymer
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
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被引量
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1
含氟紫外纳米压印光刻胶的研制
赵彬
周伟民
张静
刘彦伯
王金合
张燕萍
施利毅
张剑平
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2012
5
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职称材料
2
纳米压印光刻胶
赵彬
张静
周伟民
王金合
刘彦伯
张燕萍
施利毅
张剑平
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2011
2
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职称材料
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