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基于有限状态机模型的光刻版图自动布局系统 被引量:6
1
作者 粟鹏义 陈开盛 曹庄琪 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2003年第10期24-26,共3页
采用有限状态机模型设计了集成电路光刻版上各个图形布局的自动系统。将布局的各个阶段定义为不同的状态,布局规则定义为触发条件,组成一个有限状态机。基于此模型的计算机自动布局系统能自动完成图形在光刻版上的布局,充分利用硅圆片... 采用有限状态机模型设计了集成电路光刻版上各个图形布局的自动系统。将布局的各个阶段定义为不同的状态,布局规则定义为触发条件,组成一个有限状态机。基于此模型的计算机自动布局系统能自动完成图形在光刻版上的布局,充分利用硅圆片面积并给出布局报告。 展开更多
关键词 有限状态机 光刻版 电子设计自动化 集成电路 自动布局系统
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光刻版数据处理中的工艺涨缩问题 被引量:5
2
作者 粟鹏义 陈开盛 曹庄琪 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2003年第7期20-22,37,共4页
介绍了集成电路行业中在光刻版数据处理时的工艺涨缩问题,分别讨论了正涨缩和负涨缩问题,涨缩与反转处理的次序问题,尤其对位于版图边沿图形的涨缩进行了详细的讨论,并且提出了一种电子设计自动化软件的解决方案和实际结果。
关键词 光刻版 电子设计自动化 集成电路 数据处理 工艺涨缩 图形涨缩
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光刻技术在微细加工中的应用 被引量:7
3
作者 刘建海 陈开盛 曹庄琪 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第8期37-39,48,共4页
介绍光刻技术中的曝光设备与技术、光刻工艺及工艺控制在集成电路微细加工中的应用。
关键词 光刻 深亚微米 曝光分辨率 微细加工 微电子
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63.5mmX127mm英寸UT 1X光刻版的设计及制造 被引量:1
4
作者 粟鹏义 陈开盛 曹庄琪 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第6期30-32,35,共4页
提出一种新的UT1X光刻版规格63.5mm×127mm,与原来的76.2mm×127mm的UT1X光刻版适用于同一种UltraTech步进光刻机。相应的光刻版数据处理以及夹具进行了调整。新规格的光刻版将127mm×127mm的基材的产出提高了一倍,加快了... 提出一种新的UT1X光刻版规格63.5mm×127mm,与原来的76.2mm×127mm的UT1X光刻版适用于同一种UltraTech步进光刻机。相应的光刻版数据处理以及夹具进行了调整。新规格的光刻版将127mm×127mm的基材的产出提高了一倍,加快了光刻版的生产速度,同时减少了废弃物的产生,有利于降低成本和环境保护。 展开更多
关键词 光刻版 UltraTech 数据处理 UT1X
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