期刊导航
期刊开放获取
上海教育软件发展有限公..
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
4
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
基于有限状态机模型的光刻版图自动布局系统
被引量:
6
1
作者
粟鹏义
陈开盛
曹庄琪
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第10期24-26,共3页
采用有限状态机模型设计了集成电路光刻版上各个图形布局的自动系统。将布局的各个阶段定义为不同的状态,布局规则定义为触发条件,组成一个有限状态机。基于此模型的计算机自动布局系统能自动完成图形在光刻版上的布局,充分利用硅圆片...
采用有限状态机模型设计了集成电路光刻版上各个图形布局的自动系统。将布局的各个阶段定义为不同的状态,布局规则定义为触发条件,组成一个有限状态机。基于此模型的计算机自动布局系统能自动完成图形在光刻版上的布局,充分利用硅圆片面积并给出布局报告。
展开更多
关键词
有限状态机
光刻版
电子设计自动化
集成电路
自动布局系统
在线阅读
下载PDF
职称材料
光刻版数据处理中的工艺涨缩问题
被引量:
5
2
作者
粟鹏义
陈开盛
曹庄琪
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第7期20-22,37,共4页
介绍了集成电路行业中在光刻版数据处理时的工艺涨缩问题,分别讨论了正涨缩和负涨缩问题,涨缩与反转处理的次序问题,尤其对位于版图边沿图形的涨缩进行了详细的讨论,并且提出了一种电子设计自动化软件的解决方案和实际结果。
关键词
光刻版
电子设计自动化
集成电路
数据处理
工艺涨缩
图形涨缩
在线阅读
下载PDF
职称材料
光刻技术在微细加工中的应用
被引量:
7
3
作者
刘建海
陈开盛
曹庄琪
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2001年第8期37-39,48,共4页
介绍光刻技术中的曝光设备与技术、光刻工艺及工艺控制在集成电路微细加工中的应用。
关键词
光刻
深亚微米
曝光分辨率
微细加工
微电子
在线阅读
下载PDF
职称材料
63.5mmX127mm英寸UT 1X光刻版的设计及制造
被引量:
1
4
作者
粟鹏义
陈开盛
曹庄琪
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第6期30-32,35,共4页
提出一种新的UT1X光刻版规格63.5mm×127mm,与原来的76.2mm×127mm的UT1X光刻版适用于同一种UltraTech步进光刻机。相应的光刻版数据处理以及夹具进行了调整。新规格的光刻版将127mm×127mm的基材的产出提高了一倍,加快了...
提出一种新的UT1X光刻版规格63.5mm×127mm,与原来的76.2mm×127mm的UT1X光刻版适用于同一种UltraTech步进光刻机。相应的光刻版数据处理以及夹具进行了调整。新规格的光刻版将127mm×127mm的基材的产出提高了一倍,加快了光刻版的生产速度,同时减少了废弃物的产生,有利于降低成本和环境保护。
展开更多
关键词
光刻版
UltraTech
数据处理
UT1X
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
基于有限状态机模型的光刻版图自动布局系统
被引量:
6
1
作者
粟鹏义
陈开盛
曹庄琪
机构
上海
交通大学
上海光刻电子科技有限公司
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第10期24-26,共3页
文摘
采用有限状态机模型设计了集成电路光刻版上各个图形布局的自动系统。将布局的各个阶段定义为不同的状态,布局规则定义为触发条件,组成一个有限状态机。基于此模型的计算机自动布局系统能自动完成图形在光刻版上的布局,充分利用硅圆片面积并给出布局报告。
关键词
有限状态机
光刻版
电子设计自动化
集成电路
自动布局系统
Keywords
finite state machine(FSM)
Photomask
EDA
IC
分类号
TN402 [电子电信—微电子学与固体电子学]
TN702 [电子电信—电路与系统]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
光刻版数据处理中的工艺涨缩问题
被引量:
5
2
作者
粟鹏义
陈开盛
曹庄琪
机构
上海
交通大学
上海光刻电子科技有限公司
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第7期20-22,37,共4页
文摘
介绍了集成电路行业中在光刻版数据处理时的工艺涨缩问题,分别讨论了正涨缩和负涨缩问题,涨缩与反转处理的次序问题,尤其对位于版图边沿图形的涨缩进行了详细的讨论,并且提出了一种电子设计自动化软件的解决方案和实际结果。
关键词
光刻版
电子设计自动化
集成电路
数据处理
工艺涨缩
图形涨缩
Keywords
photomask
lithography
EDA
IC
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
光刻技术在微细加工中的应用
被引量:
7
3
作者
刘建海
陈开盛
曹庄琪
机构
上海
先进半导体制造
有限公司
上海光刻电子科技有限公司
上海
交通大学
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2001年第8期37-39,48,共4页
文摘
介绍光刻技术中的曝光设备与技术、光刻工艺及工艺控制在集成电路微细加工中的应用。
关键词
光刻
深亚微米
曝光分辨率
微细加工
微电子
Keywords
optical lithography
deep submicron
exposure resolution ratio
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
63.5mmX127mm英寸UT 1X光刻版的设计及制造
被引量:
1
4
作者
粟鹏义
陈开盛
曹庄琪
机构
上海光刻电子科技有限公司
上海
交通大学
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第6期30-32,35,共4页
文摘
提出一种新的UT1X光刻版规格63.5mm×127mm,与原来的76.2mm×127mm的UT1X光刻版适用于同一种UltraTech步进光刻机。相应的光刻版数据处理以及夹具进行了调整。新规格的光刻版将127mm×127mm的基材的产出提高了一倍,加快了光刻版的生产速度,同时减少了废弃物的产生,有利于降低成本和环境保护。
关键词
光刻版
UltraTech
数据处理
UT1X
Keywords
UltraTech
data handling
photomask
lithography
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于有限状态机模型的光刻版图自动布局系统
粟鹏义
陈开盛
曹庄琪
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2003
6
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
光刻版数据处理中的工艺涨缩问题
粟鹏义
陈开盛
曹庄琪
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2003
5
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
光刻技术在微细加工中的应用
刘建海
陈开盛
曹庄琪
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2001
7
在线阅读
下载PDF
职称材料
4
63.5mmX127mm英寸UT 1X光刻版的设计及制造
粟鹏义
陈开盛
曹庄琪
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004
1
在线阅读
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部