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氮化硅薄膜的快速热处理在太阳电池中的应用 被引量:3
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作者 李友杰 罗培青 +3 位作者 黄建华 王景霄 周之斌 崔容强 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期152-155,共4页
研究了低温等离子体增强化学气相沉积(PECVD)氮化硅(SiNx)薄膜的快速热处理,发现一种能使硅片少子寿命(τ)显著提高的快速热退火工艺并对其机理和应用方法进行初步讨论.硅片在700°C、1 s的快速热处理下,τ提高200%左右,用PC1D——... 研究了低温等离子体增强化学气相沉积(PECVD)氮化硅(SiNx)薄膜的快速热处理,发现一种能使硅片少子寿命(τ)显著提高的快速热退火工艺并对其机理和应用方法进行初步讨论.硅片在700°C、1 s的快速热处理下,τ提高200%左右,用PC1D——太阳电池模拟软件知其可带来0.54%的效率提高.同样的实验在已经扩磷的硅片上进行,少子寿命亦只提高55%.把上述研究和最新的激光烧穿接触工艺用于太阳电池,可使太阳电池效率有一定提高. 展开更多
关键词 氮化硅薄膜 快速热处理 激光烧穿接触 太阳电池
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