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NiTi形状记忆合金薄膜的残余应力
被引量：
8
1
作者
吴廷斌
漆璿
+4 位作者
王文杰
董荆山
江伯鸿
王莉
蔡炳初
《上海交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第3期436-439,共4页
采用 X射线掠射法和轮廓法 ,测量了单晶 Si基板上用磁控溅射法制备的 Ni Ti形状记忆合金薄膜的残余应力 ,分析了其与薄膜厚度以及晶化处理温度等工艺条件的关系 .结果表明 :该薄膜中的残余应力主要来源于薄膜同基板材料的膨胀系数和晶...
采用 X射线掠射法和轮廓法 ,测量了单晶 Si基板上用磁控溅射法制备的 Ni Ti形状记忆合金薄膜的残余应力 ,分析了其与薄膜厚度以及晶化处理温度等工艺条件的关系 .结果表明 :该薄膜中的残余应力主要来源于薄膜同基板材料的膨胀系数和晶格参数不匹配 ;薄膜厚度越大 ,残余应力越小 ;晶化处理温度对因热胀系数差异带来的热拉应力因马氏体相变而致的相变压应力均有不同程度的影响 .
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关键词
形状记忆合金
薄膜
残余应力
镍
钛
膨胀系数
晶格参数
晶化处理
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职称材料
题名
NiTi形状记忆合金薄膜的残余应力
被引量：
8
1
作者
吴廷斌
漆璿
王文杰
董荆山
江伯鸿
王莉
蔡炳初
机构
上海交通大学
国家教育部
高温材料及高温测试重点
实验室
上海交通大学国家教育部薄膜与微细加工技术开放实验室
出处
《上海交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第3期436-439,共4页
基金
国家教育部薄膜与微细加工技术开放实验室资助
文摘
采用 X射线掠射法和轮廓法 ,测量了单晶 Si基板上用磁控溅射法制备的 Ni Ti形状记忆合金薄膜的残余应力 ,分析了其与薄膜厚度以及晶化处理温度等工艺条件的关系 .结果表明 :该薄膜中的残余应力主要来源于薄膜同基板材料的膨胀系数和晶格参数不匹配 ;薄膜厚度越大 ,残余应力越小 ;晶化处理温度对因热胀系数差异带来的热拉应力因马氏体相变而致的相变压应力均有不同程度的影响 .
关键词
形状记忆合金
薄膜
残余应力
镍
钛
膨胀系数
晶格参数
晶化处理
Keywords
Magnetron sputtering
Nickel alloys
Residual stresses
Thin films
Titanium alloys
分类号
TG484.2 [金属学及工艺—焊接]
TG139.6 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
NiTi形状记忆合金薄膜的残余应力
吴廷斌
漆璿
王文杰
董荆山
江伯鸿
王莉
蔡炳初
《上海交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001
8
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