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溅射工艺时间对不同靶材溅射速率的影响
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作者 付学成 徐锦滨 +2 位作者 乌李瑛 付刘成 王英 《实验室研究与探索》 CAS 北大核心 2024年第9期37-40,共4页
为了研究溅射工艺时间对不同靶材溅射速率的影响,以铜、铝、二氧化硅、氧化锌4种靶材为研究对象,获得不同溅射工艺时间下沉积薄膜厚度。根据靶材的导热情况和溅射时腔内的温度变化建立数学模型,采用Matlab软件模拟出靶材表面温度随溅射... 为了研究溅射工艺时间对不同靶材溅射速率的影响,以铜、铝、二氧化硅、氧化锌4种靶材为研究对象,获得不同溅射工艺时间下沉积薄膜厚度。根据靶材的导热情况和溅射时腔内的温度变化建立数学模型,采用Matlab软件模拟出靶材表面温度随溅射工艺时间的变化。结果表明,随着溅射工艺时间的延长,铜、铝等金属靶材的溅射速率几乎没有改变,而氧化锌和二氧化硅等靶材出现“溅射失重”现象,原因可能与靶材的导热性能和键能有关。 展开更多
关键词 磁控溅射 溅射速率 溅射失重 溅射工艺时间
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聚焦离子束工艺参数对单像素线刻蚀的影响 被引量:2
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作者 李美霞 施展 +2 位作者 陆熠磊 王英 杨明来 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第9期818-824,共7页
单像素线刻蚀是制备微纳米器件中的基本单元及加工其他复杂结构的基础,对聚焦离子束(FIB)加工具有重要的意义。通过改变离子束流的大小、驻留时间、扫描步长百分比及离子剂量等参数,对硅表面进行单像素线刻蚀的研究。结果表明,在聚焦离... 单像素线刻蚀是制备微纳米器件中的基本单元及加工其他复杂结构的基础,对聚焦离子束(FIB)加工具有重要的意义。通过改变离子束流的大小、驻留时间、扫描步长百分比及离子剂量等参数,对硅表面进行单像素线刻蚀的研究。结果表明,在聚焦离子束加工中,离子剂量与刻蚀线条宽度和深度之间呈正相关,与宽深比之间呈负相关;离子束流大小的变化对刻蚀深度影响不明显,但刻蚀宽度和宽深比随离子束流的增大而增大。此外,随着离子束流驻留时间增加,刻蚀宽度增大而深度减小;随着扫描步长百分比的增大,刻蚀深度增大,刻蚀宽度减小,分析结果表明这些变化与加工过程中再沉积作用有关。本研究成果为后续复杂图形的精密加工提供了重要参考依据。 展开更多
关键词 聚焦离子束(FIB)刻蚀 加工参数 刻蚀形貌 单像素线 再沉积 宽深比
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基于双目视觉的FIB-SEM双束系统图像三维重建研究 被引量:2
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作者 端方 张海刚 +5 位作者 孙巍 朱建鹏 王贤浩 邱婷婷 王英 杨明来 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2024年第6期711-723,共13页
由FIB与SEM结合而成的双束系统拥有高精度微纳加工能力的同时也具有超高空间分辨率成像功能。在微纳尺度下使用双目立体视觉进行三维重建对指导微纳材料加工等具有重要意义。本文提出了一种基于双目视觉的FIB-SEM双束系统图像三维重建方... 由FIB与SEM结合而成的双束系统拥有高精度微纳加工能力的同时也具有超高空间分辨率成像功能。在微纳尺度下使用双目立体视觉进行三维重建对指导微纳材料加工等具有重要意义。本文提出了一种基于双目视觉的FIB-SEM双束系统图像三维重建方案:利用双目视觉结合图像处理技术测量出样品表面的深度信息。实验结果表明,该方法显著提高了微纳样品表面深度信息的精准度,为SEM图像三维构建提供了新的思路和方法,为FIB-SEM系统的精细加工提供了有力的保障。 展开更多
关键词 FIB-SEM双束系统 三维重建 双目立体视觉 数字图像处理
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改进分水岭算法的扫描电镜图像标定
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作者 朱建鹏 王英 +3 位作者 孙巍 端方 王贤浩 杨明来 《实验室研究与探索》 CAS 北大核心 2024年第8期24-28,共5页
针对不同探测器模式下扫描电镜图像特征复杂且易受阴影干扰的问题,提出了基于改进分水岭算法的扫描电镜图像标定方法。首先,通过自适应滤波、梯度变换等预处理流程减少噪声影响,同时保留真实信息;然后,针对分水岭标记存在的阴影干扰问题... 针对不同探测器模式下扫描电镜图像特征复杂且易受阴影干扰的问题,提出了基于改进分水岭算法的扫描电镜图像标定方法。首先,通过自适应滤波、梯度变换等预处理流程减少噪声影响,同时保留真实信息;然后,针对分水岭标记存在的阴影干扰问题,采用自适应改进方法,使得标记的获取更具普适性,可适用于不同的探测器模式。棋盘格样品测试结果表明,该方法在InLens和SE2探测器模式下表现良好,并在综合评价指标上明显优于其他标定方法。将标定结果按照参考标尺与人工测量数据进行对比,两者相对误差在7%以内。 展开更多
关键词 分水岭变换 扫描电镜 微观分析 图像处理
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聚焦离子束对铌酸锂表面加工的形貌控制研究 被引量:4
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作者 瞿敏妮 沈贇靓 +3 位作者 乌李瑛 田苗 王英 程秀兰 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2020年第2期189-195,共7页
聚焦离子束是一种高精度、无掩膜的先进微纳加工手段。本文以铌酸锂晶体为研究对象,利用聚焦离子束/电子束双束系统对铌酸锂表面进行图形刻蚀,研究了离子束重复次数/驻留时间、扫描方式、扫描步长及束流大小等刻蚀参数对图形加工造成的... 聚焦离子束是一种高精度、无掩膜的先进微纳加工手段。本文以铌酸锂晶体为研究对象,利用聚焦离子束/电子束双束系统对铌酸锂表面进行图形刻蚀,研究了离子束重复次数/驻留时间、扫描方式、扫描步长及束流大小等刻蚀参数对图形加工造成的影响。结合利用扫描电子成像和原子力显微镜三维形貌测量,对不同参数下的刻蚀形貌进行观察分析。该研究为实现基于铌酸锂材料的超低损耗光存储、光传导器件提供了重要的工艺参考依据。 展开更多
关键词 聚焦离子束 原子力显微镜 铌酸锂 表面形貌
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基于FIB辐照加工制备三维结构的动态过程 被引量:2
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作者 沈贇靓 瞿敏妮 +1 位作者 王英 付学成 《实验室研究与探索》 CAS 北大核心 2020年第2期44-47,共4页
基于FIB直写及辐照技术加工制备了金膜的三维立体结构,并测量了薄膜结构形变量随辐照时间的变化,分析了其动态变化过程及机理。结果表明,金膜在离子束辐照下,金原子和镓离子相互作用,在金膜内部产生空位及位错,从而引起薄膜应力,经过一... 基于FIB直写及辐照技术加工制备了金膜的三维立体结构,并测量了薄膜结构形变量随辐照时间的变化,分析了其动态变化过程及机理。结果表明,金膜在离子束辐照下,金原子和镓离子相互作用,在金膜内部产生空位及位错,从而引起薄膜应力,经过一定的弛豫时间,应力发生释放,随后三维结构的形变量随着镓离子辐照剂量的增加缓慢变化。 展开更多
关键词 三维微纳结构 聚焦离子束 辐照 动态分析 金膜
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