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两步酸修饰的多晶硅绒面结构
被引量：
5
1
作者
林育琼
冯仕猛
+3 位作者
王坤霞
裴俊
刘绍军
刘峰
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第5期707-710,共4页
本文提出两步法制备多晶硅表面绒面技术,用两次化学腐蚀修饰多晶硅片的表面。实验中首先采用腐蚀液HF/NaNO2/H2O对多晶硅表面进行腐蚀,然后采用腐蚀液HF/HNO3/(NH4)2C2O4/H2O对其表面进一步修饰。通过多晶硅SEM表面形貌图分析,两步法修...
本文提出两步法制备多晶硅表面绒面技术,用两次化学腐蚀修饰多晶硅片的表面。实验中首先采用腐蚀液HF/NaNO2/H2O对多晶硅表面进行腐蚀,然后采用腐蚀液HF/HNO3/(NH4)2C2O4/H2O对其表面进一步修饰。通过多晶硅SEM表面形貌图分析,两步法修饰的多晶硅表面有形状如蚯蚓状的腐蚀坑,腐蚀坑的深度和分布密度相对较大。通过反射谱分析了多晶硅片表面陷光效果,并与用其它方法修饰的硅表面陷光效果进行了对比,与传统配方HF/HNO3/H2O获得的多晶硅表面相比,综合平均反射率下降了7%左右。这种方法获得的多晶硅表面能有效收集太阳光,有利于提高太阳能电池的转换效率。
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关键词
酸腐蚀法
表面结构
陷光效应
反射率
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职称材料
含氟表面活性剂对多晶硅绒面微结构的影响
被引量：
5
2
作者
林育琼
冯仕猛
+3 位作者
王坤霞
顾俊
刘少军
刘峰
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第4期502-505,共4页
在酸制绒液中加入含氟表面活性剂,对多晶硅片制绒。然后通过扫描电子显微镜观察多晶硅表面织构,并在此基础上分析含氟表面活性剂对腐蚀效果的影响。实验结果表明:虽然传统酸液对多晶硅制绒是各向同性的,但加入含氟表面活性剂后,酸腐蚀...
在酸制绒液中加入含氟表面活性剂,对多晶硅片制绒。然后通过扫描电子显微镜观察多晶硅表面织构,并在此基础上分析含氟表面活性剂对腐蚀效果的影响。实验结果表明:虽然传统酸液对多晶硅制绒是各向同性的,但加入含氟表面活性剂后,酸腐蚀出现各向异性腐蚀特性;由此制备的多晶硅片反射率从25.7%下降到了23.9%,表面出现变形的金字塔、三角形等,且不同晶面的金字塔和三角形的大小和倾斜角度不同。最后根据杨氏理论,从界面张力的角度解释了含氟表面活性剂对制绒的影响机理。
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关键词
氟表面活性剂
多晶硅片
绒面
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职称材料
题名
两步酸修饰的多晶硅绒面结构
被引量：
5
1
作者
林育琼
冯仕猛
王坤霞
裴俊
刘绍军
刘峰
机构
上海
交通大学物理系
上海
神舟新能源发展有限公司
上海交大林洋太阳能光伏研发中心
出处
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第5期707-710,共4页
基金
上海航天基金资助项目(GC072003)
文摘
本文提出两步法制备多晶硅表面绒面技术,用两次化学腐蚀修饰多晶硅片的表面。实验中首先采用腐蚀液HF/NaNO2/H2O对多晶硅表面进行腐蚀,然后采用腐蚀液HF/HNO3/(NH4)2C2O4/H2O对其表面进一步修饰。通过多晶硅SEM表面形貌图分析,两步法修饰的多晶硅表面有形状如蚯蚓状的腐蚀坑,腐蚀坑的深度和分布密度相对较大。通过反射谱分析了多晶硅片表面陷光效果,并与用其它方法修饰的硅表面陷光效果进行了对比,与传统配方HF/HNO3/H2O获得的多晶硅表面相比,综合平均反射率下降了7%左右。这种方法获得的多晶硅表面能有效收集太阳光,有利于提高太阳能电池的转换效率。
关键词
酸腐蚀法
表面结构
陷光效应
反射率
Keywords
acid etch
textured surface
light trapping
reflectance
分类号
TM914.41 [电气工程—电力电子与电力传动]
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职称材料
题名
含氟表面活性剂对多晶硅绒面微结构的影响
被引量：
5
2
作者
林育琼
冯仕猛
王坤霞
顾俊
刘少军
刘峰
机构
上海
交通大学物理系
上海
神舟新能源发展有限公司
上海交大林洋太阳能光伏研发中心
出处
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第4期502-505,共4页
基金
上海航天基金资助项目(GC072003)
文摘
在酸制绒液中加入含氟表面活性剂,对多晶硅片制绒。然后通过扫描电子显微镜观察多晶硅表面织构,并在此基础上分析含氟表面活性剂对腐蚀效果的影响。实验结果表明:虽然传统酸液对多晶硅制绒是各向同性的,但加入含氟表面活性剂后,酸腐蚀出现各向异性腐蚀特性;由此制备的多晶硅片反射率从25.7%下降到了23.9%,表面出现变形的金字塔、三角形等,且不同晶面的金字塔和三角形的大小和倾斜角度不同。最后根据杨氏理论,从界面张力的角度解释了含氟表面活性剂对制绒的影响机理。
关键词
氟表面活性剂
多晶硅片
绒面
Keywords
fluorinated surfactant
mc-Si wafers
textured surfaces
分类号
TM914.4 [电气工程—电力电子与电力传动]
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作者
出处
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1
两步酸修饰的多晶硅绒面结构
林育琼
冯仕猛
王坤霞
裴俊
刘绍军
刘峰
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2011
5
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职称材料
2
含氟表面活性剂对多晶硅绒面微结构的影响
林育琼
冯仕猛
王坤霞
顾俊
刘少军
刘峰
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2011
5
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