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题名添加剂对铜电沉积及铜箔力学性能的影响
被引量：4
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作者
樊斌锋
王绪军
赵玉龙
王庆福
李谋翠
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机构
河南高精铜箔产业技术研究院有限公司
三门峡市乡村振兴科技服务中心
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出处
《有色金属科学与工程》
CAS
北大核心
2024年第5期740-749,共10页
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文摘
利用线性扫描伏安法及循环伏安剥离法研究了3-巯基-1-丙磺酸钠(MPS)、羟甲基纤维素、明胶及糖精钠对Cu电沉积的影响,并通过响应面法优化了添加剂对铜箔抗拉强度及延伸率影响的工艺条件。结果表明,羟甲基纤维素及明胶对铜电沉积具有抑制作用,且明胶的抑制作用优于羟甲基纤维素;MPS表现为促进作用,在浓度大于8 mg/L时,其促进作用不随浓度的改变而改变;糖精钠对铜电沉积无明显作用,与添加剂复配后,其促进或抑制效果介于单一添加剂之间。响应面结果表明,MPS、羟甲基纤维素及明胶浓度分别为4、8、6 mg/L时,铜箔的抗拉强度较优,且浓度为6、3、7 mg/L时延伸率最高。
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关键词
电解铜箔
电化学测试
有机添加剂
响应面
力学性能
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Keywords
electrolytic copper foil
electrochemical testing
organic additive
response surface
mechanical properties
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分类号
TQ153.1
[化学工程—电化学工业]
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题名含硫添加剂对8μm锂电铜箔性能的影响研究
被引量：3
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作者
李谋翠
樊斌锋
赵玉龙
王庆福
王绪军
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机构
河南高精铜箔产业技术研究院有限公司
三门峡市乡村振兴科技服务中心
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出处
《矿冶工程》
CAS
北大核心
2024年第2期188-191,共4页
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文摘
采用线性扫描伏安法和循环伏安剥离法研究了Cu^(2+)、H_(2)SO_(4)、Cl^(-)浓度分别为85 g/L、100 g/L、2 mg/L的电解液中添加光亮剂聚二硫二丙烷磺酸钠(SPS)和3-巯基-1-丙磺酸钠(MPS)对铜电沉积的影响,并研究了SPS和MPS对锂电铜箔抗拉强度、延伸率、光泽度及粗糙度的影响。结果表明,SPS和MPS对铜电沉积具有促进作用,且SPS的促进作用更强;SPS和MPS分别与胶原蛋白和羟乙基纤维素复配后,对铜电沉积的促进作用减弱;SPS更有利于提高铜箔抗拉强度,MPS更有利于提升铜箔延伸率;SPS浓度1.0 mg/L、MPS浓度1.5 mg/L时,铜箔毛面光泽度和粗糙度均较好,铜箔表面平整且致密。
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关键词
锂电铜箔
电解铜箔
含硫添加剂
胶原蛋白
光泽度
粗糙度
光亮剂
锂离子电池
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Keywords
copper foil of Li⁃ion battery
electrolytic copper foil
sulfur⁃containing additives
collagen
glossiness
roughness
brightening agents
lithium⁃ion battery
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分类号
TQ153.1
[化学工程—电化学工业]
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