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类金刚石薄膜的表面性能研究被引量：7: 1; 作者刘成龙杨大智 +1 位作者邓新绿齐民《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期720-726,共7页; 利用微波-ECR等离子体源全方位离子注入设备,采用PSII与PSII+PECVD工艺在医用316L不锈钢上制备碳改性薄膜.Raman光谱分析表明,薄膜为典型的类金刚石(DLC) 薄膜.静态接触角测量技术研究表明:在酸碱溶液中,DLC薄膜表面价键遭到破坏,稳定... 展开更多; 关键词 DLC薄膜表面能 316L不锈钢接触角; 在线阅读下载PDF 职称材料

类金刚石磁盘保护膜的性能、应用与制备被引量：4: 2; 作者丁万昱高鹏 +2 位作者邓新绿董闯徐军《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期41-46,49,共7页; 类金刚石膜在磁盘和读写磁头之上形成一层关键的保护膜。磁存储密度的飞速发展可以使存储密度上限达到 1万亿字节 /英寸2 。这要求读写磁头距离磁盘更近 ,即需要一层仅 1nm～ 2nm厚的类金刚石薄膜。四面体结构的非晶碳膜能够满足磁存储... 展开更多; 关键词非晶碳膜连续类金刚石膜原子类金刚石薄膜上限磁存储等离子体增强化学气相沉积超薄磁头; 在线阅读下载PDF 职称材料

N离子注入金刚石膜方法合成的CN_x膜的成键结构被引量：4: 3; 作者曹培江姜志刚 +6 位作者李俊杰金曾孙王欣郑伟涛牟宗信董闯李哲奎《吉林大学自然科学学报》 CAS CSCD 北大核心 2001年第2期49-52,共4页; 使用 N离子 (能量分别为 1 0 ke V,60 ke V)注入金刚石膜方法合成 CNx 膜 ,用 Raman光谱和 XPS光谱研究注入前后金刚石膜的成键结构 .结果表明 ,金刚石膜经 1 0 ke V N离子注入后 ,在 Raman光谱中出现一个较强的金刚石峰 (1 332 cm- 1)... 展开更多; 关键词 N离子注入金刚石膜成键结构氮化碳薄膜 RAMAN光谱 XPS光谱; 在线阅读下载PDF 职称材料

氩离子束溅射沉积PTFE高分子膜被引量：3: 4; 作者李有宏宫泽祥 +1 位作者龙振湖纪纯新《大连理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 1996年第3期279-282,共4页; 用氩离子束溅射聚四氟乙烯靶材，在黄铜上沉积聚四氟乙烯薄膜．用ＸＰＳ和ＩＲＳ分析方法确定了聚四氟乙烯高分子膜的存在，并依据沉积膜形成过程对沉积膜与靶材在ＩＲＳ谱图上的差异给予了解释．结果表明。; 关键词离子束溅射真空沉积薄膜聚四氟乙烯塑料; 在线阅读下载PDF 职称材料

采用MBDM法获得高性能高分子膜的研究: 5; 作者任春生龙振湖 +2 位作者阎坤郭宝海纪宏学《大连理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 1996年第3期283-287,共5页; 采用多束动态混合法在３０４不锈钢样品表面成功地制备出ＰＴＦＥ（聚四氟乙烯）和ＰＥＥＫ（聚醚醚酮）混合的高性能高分子复合膜，其结合力约７０Ｎ，耐蚀能力提高２０倍，摩擦系数达到０．０７～０．１４。; 关键词离子束沉积薄膜 MBDM法高聚物塑料; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名类金刚石薄膜的表面性能研究被引量：7: 1; 作者刘成龙杨大智邓新绿齐民; 机构大连理工大学三束材料表面改性国家重点实验室大连理工大学材料系大连理工大学材料系; 出处《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期720-726,共7页; 基金国家自然科学基金(50081001)高等学校博士点基金(20010141003)国家高技术研究发展计划(863计划)(2002AA326010)大连理工大学三束材料表面改性国家重点实验室资助; 文摘利用微波-ECR等离子体源全方位离子注入设备,采用PSII与PSII+PECVD工艺在医用316L不锈钢上制备碳改性薄膜.Raman光谱分析表明,薄膜为典型的类金刚石(DLC) 薄膜.静态接触角测量技术研究表明:在酸碱溶液中,DLC薄膜表面价键遭到破坏,稳定性降低.不同工艺制备的DLC薄膜表面能在40mN/m左右,极性分量大于色散分量,呈现出疏水性质.DLC薄膜表面能高低取决于表面碳碳键与粗糙度的变化.; 关键词 DLC薄膜表面能 316L不锈钢接触角; Keywords DLC surface energy 316L stainless steel contact angle; 分类号 TG174 [金属学及工艺—金属表面处理] TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名类金刚石磁盘保护膜的性能、应用与制备被引量：4: 2; 作者丁万昱高鹏邓新绿董闯徐军; 机构三束材料表面改性国家重点实验室大连理工大学; 出处《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期41-46,49,共7页; 基金国家自然科学基金重大项目 (No 5 0 3 90 0 60 ); 文摘类金刚石膜在磁盘和读写磁头之上形成一层关键的保护膜。磁存储密度的飞速发展可以使存储密度上限达到 1万亿字节 /英寸2 。这要求读写磁头距离磁盘更近 ,即需要一层仅 1nm～ 2nm厚的类金刚石薄膜。四面体结构的非晶碳膜能够满足磁存储技术的要求 ,即形成原子尺度平滑、连续、致密 ,只有几个原子层厚的碳膜。磁过滤阴极弧方法、等离子体增强化学气相沉积方法可用来制备符合要求的超薄碳膜。; 关键词非晶碳膜连续类金刚石膜原子类金刚石薄膜上限磁存储等离子体增强化学气相沉积超薄磁头; Keywords Diamond-like carbon(DLC),Magnetic storage disk,FCVA,PECVD; 分类号 TB383 [一般工业技术—材料科学与工程] O484 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名N离子注入金刚石膜方法合成的CN_x膜的成键结构被引量：4: 3; 作者曹培江姜志刚李俊杰金曾孙王欣郑伟涛牟宗信董闯李哲奎; 机构吉林大学超硬材料国家重点实验室吉林大学材料科学系三束材料表面改性国家重点实验室延边大学理工学院物理系; 出处《吉林大学自然科学学报》 CAS CSCD 北大核心 2001年第2期49-52,共4页; 基金中国教育部优秀中青年项目吉林省科学技术委员会计划发展基金!项目 (批准号 :980 5 44); 文摘使用 N离子 (能量分别为 1 0 ke V,60 ke V)注入金刚石膜方法合成 CNx 膜 ,用 Raman光谱和 XPS光谱研究注入前后金刚石膜的成键结构 .结果表明 ,金刚石膜经 1 0 ke V N离子注入后 ,在 Raman光谱中出现一个较强的金刚石峰 (1 332 cm- 1)和一个弱的石墨峰 (G带 ,～ 1 550 cm- 1) .而 XPS N1s资料显示两个主峰分别位于～ 398.5e V和～ 40 0 .0 e V.金刚石膜经 60 ke V N离子注入后 ,N1s XPS光谱中的主峰位于～ 40 0 .0 e V;相应地 ,Raman光谱中的石墨峰变得较强 .通过比较 ,对注入样品的 XPS谱中 N1s的成键结构作如下归属 :～ 40 0 .0e V属于 sp2 C— N键 ;～ 398.5e V则属于 sp3C—N键 .; 关键词 N离子注入金刚石膜成键结构氮化碳薄膜 RAMAN光谱 XPS光谱; Keywords N-implantation diamond bonding structure; 分类号 TN304.18 [电子电信—物理电子学] TN305.3 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名氩离子束溅射沉积PTFE高分子膜被引量：3: 4; 作者李有宏宫泽祥龙振湖纪纯新; 机构三束材料表面改性国家重点实验室大连理工大学分部中国科学院大连化学物理研究所; 出处《大连理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 1996年第3期279-282,共4页; 文摘用氩离子束溅射聚四氟乙烯靶材，在黄铜上沉积聚四氟乙烯薄膜．用ＸＰＳ和ＩＲＳ分析方法确定了聚四氟乙烯高分子膜的存在，并依据沉积膜形成过程对沉积膜与靶材在ＩＲＳ谱图上的差异给予了解释．结果表明。; 关键词离子束溅射真空沉积薄膜聚四氟乙烯塑料; Keywords ion beams sputtering vacuum deposition thin films; 分类号 TQ325.407 [化学工程—合成树脂塑料工业]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名采用MBDM法获得高性能高分子膜的研究: 5; 作者任春生龙振湖阎坤郭宝海纪宏学; 机构三束材料表面改性国家重点实验室大连理工大学分部核工业总公司五二三厂; 出处《大连理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 1996年第3期283-287,共5页; 基金核工业总公司"八五"科技攻关资助项目; 文摘采用多束动态混合法在３０４不锈钢样品表面成功地制备出ＰＴＦＥ（聚四氟乙烯）和ＰＥＥＫ（聚醚醚酮）混合的高性能高分子复合膜，其结合力约７０Ｎ，耐蚀能力提高２０倍，摩擦系数达到０．０７～０．１４。; 关键词离子束沉积薄膜 MBDM法高聚物塑料; Keywords ion beam deposition high polymer thin films; 分类号 TQ320.721 [化学工程—合成树脂塑料工业]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	类金刚石薄膜的表面性能研究	刘成龙杨大智邓新绿齐民	《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心	2005	7	在线阅读下载PDF 职称材料
2	类金刚石磁盘保护膜的性能、应用与制备	丁万昱高鹏邓新绿董闯徐军	《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2005	4	在线阅读下载PDF 职称材料
3	N离子注入金刚石膜方法合成的CN_x膜的成键结构	曹培江姜志刚李俊杰金曾孙王欣郑伟涛牟宗信董闯李哲奎	《吉林大学自然科学学报》 CAS CSCD 北大核心	2001	4	在线阅读下载PDF 职称材料
4	氩离子束溅射沉积PTFE高分子膜	李有宏宫泽祥龙振湖纪纯新	《大连理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心	1996	3	在线阅读下载PDF 职称材料
5	采用MBDM法获得高性能高分子膜的研究	任春生龙振湖阎坤郭宝海纪宏学	《大连理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心	1996	0	在线阅读下载PDF 职称材料