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Surface Plasmon Interference Lithography Assisted by a Fabry-Perot Cavity Composed of Subwavelength Metal Grating and Thin Metal Film 被引量:1
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作者 梁慧敏 王景全 +1 位作者 王学 王桂梅 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2015年第10期51-54,共4页
A surface plasmon interference lithography assisted by a Fabry-Perot (F-P) cavity composed of subwavelength metal gratings and a thin metal fihn is proposed to fabricate high-quality nanopatterns. The calculated res... A surface plasmon interference lithography assisted by a Fabry-Perot (F-P) cavity composed of subwavelength metal gratings and a thin metal fihn is proposed to fabricate high-quality nanopatterns. The calculated results indicate that uniform straight interference fringes with high contrast and high electric-field intensity are formed in the resist under the F-P cavity. The analyses of spatial frequency spectra illuminate the physical mechanism of the formation for the interference fringes. The influence of the F-P cavity spacing is discussed in detail. Moreover, the error analyses reveal that all parameters except the metal grating period in this scheme can bear large tolerances for the device fabrication. 展开更多
关键词 Surface Plasmon Interference Lithography Assisted by a Fabry-Perot Cavity Composed of Subwavelength metal Grating and thin metal film
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Design of periodic metal-insulator-metal waveguide back structures for the enhancement of light absorption in thin-film solar cells 被引量:1
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作者 郑改革 蒋剑莉 +3 位作者 咸冯林 强海霞 武虹 李相银 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第9期192-197,共6页
To increase the absorption in a thin layer of absorbing material (amorphous silicon, a-Si), a light trapping design is presented. The designed structure incorporates periodic metal-insulator-metal waveguides to enha... To increase the absorption in a thin layer of absorbing material (amorphous silicon, a-Si), a light trapping design is presented. The designed structure incorporates periodic metal-insulator-metal waveguides to enhance the optical path length of light within the solar cells. The new design can result in broadband optical absorption enhancement not only for transverse magnetic (TM)-polarized light, but also for transverse electric (TE)-polarized light. No plasmonic modes can be excited in TE-polarization, but because of the coupling into the a-Si planar waveguide guiding modes and the diffraction of light by the bottom periodic structures into higher diffraction orders, the total absorption in the active region is also increased. The results from rigorous coupled wave analysis show that the overall optical absorption in the active layer can be greatly enhanced by up to 40%. The designed structures presented in this paper can be integrated with back contact technology to potentially produce high-efficiency thin-film solar cell devices. 展开更多
关键词 thin-film solar cells metal-insulator-metal waveguide enhanced optical absorption rig-orous coupled wave analysis
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Influence of Zr(50)Cu(50) thin film metallic glass as buffer layer on the structural and optoelectrical properties of AZO films
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作者 Bao-Qing Zhang Gao-Peng Liu +4 位作者 Hai-Tao Zong Li-Ge Fu Zhi-Fei Wei Xiao-Wei Yang Guo-Hua Cao 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第3期361-368,共8页
Aluminum-doped ZnO(AZO) thin films with thin film metallic glass of Zr(50)Cu(50) as buffer are prepared on glass substrates by the pulsed laser deposition. The influence of buffer thickness and substrate temperature o... Aluminum-doped ZnO(AZO) thin films with thin film metallic glass of Zr(50)Cu(50) as buffer are prepared on glass substrates by the pulsed laser deposition. The influence of buffer thickness and substrate temperature on structural, optical, and electrical properties of AZO thin film are investigated. Increasing the thickness of buffer layer and substrate temperature can both promote the transformation of AZO from amorphous to crystalline structure, while they show(100)and(002) unique preferential orientations, respectively. After inserting Zr(50)Cu(50) layer between the glass substrate and AZO film, the sheet resistance and visible transmittance decrease, but the infrared transmittance increases. With substrate temperature increasing from 25℃ to 520℃, the sheet resistance of AZO(100 nm)/Zr(50)Cu(50)(4 nm) film first increases and then decreases, and the infrared transmittance is improved. The AZO(100 nm)/Zr(50)Cu(50)(4 nm) film deposited at a substrate temperature of 360℃ exhibits a low sheet resistance of 26.7 ?/, high transmittance of 82.1% in the visible light region, 81.6% in near-infrared region, and low surface roughness of 0.85 nm, which are useful properties for their potential applications in tandem solar cell and infrared technology. 展开更多
关键词 aluminum-doped ZnO(AZO) Zr(50)Cu(50) thin film metalLIC glass optoelectrical properties morphology
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High-crystalline GaSb epitaxial films grown on GaAs(001) substrates by low-pressure metal–organic chemical vapor deposition
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作者 王连锴 刘仁俊 +4 位作者 吕游 杨皓宇 李国兴 张源涛 张宝林 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第1期114-118,共5页
Orthogonal experiments of Ga Sb films growth on Ga As(001) substrates have been designed and performed by using a low-pressure metal–organic chemical vapor deposition(LP-MOCVD) system. The crystallinities and mic... Orthogonal experiments of Ga Sb films growth on Ga As(001) substrates have been designed and performed by using a low-pressure metal–organic chemical vapor deposition(LP-MOCVD) system. The crystallinities and microstructures of the produced films were comparatively analyzed to achieve the optimum growth parameters. It was demonstrated that the optimized Ga Sb thin film has a narrow full width at half maximum(358 arc sec) of the(004) ω-rocking curve, and a smooth surface with a low root-mean-square roughness of about 6 nm, which is typical in the case of the heteroepitaxial single-crystal films. In addition, we studied the effects of layer thickness of Ga Sb thin film on the density of dislocations by Raman spectra. It is believed that our research can provide valuable information for the fabrication of high-crystalline Ga Sb films and can promote the integration probability of mid-infrared devices fabricated on mainstream performance electronic devices. 展开更多
关键词 crystal growth metal–organic chemical vapor deposition thin films
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高增益MO-TFT心率信号检测前置放大器研究
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作者 吴朝晖 陈家琳 +1 位作者 赵明剑 李斌 《华南理工大学学报(自然科学版)》 北大核心 2025年第3期80-87,共8页
金属氧化物薄膜晶体管(MO-TFT)可以用来实现检测心率信号的柔性可穿戴系统,但MO-TFT缺少高性能互补器件,导致实现的前置放大器增益较小,而且MO-TFT器件的性能较差,给后级模块的设计带来了困难。为提升前置放大器的增益,降低后级电路对... 金属氧化物薄膜晶体管(MO-TFT)可以用来实现检测心率信号的柔性可穿戴系统,但MO-TFT缺少高性能互补器件,导致实现的前置放大器增益较小,而且MO-TFT器件的性能较差,给后级模块的设计带来了困难。为提升前置放大器的增益,降低后级电路对器件性能的要求,该文提出了一种共源共栅电容自举结构前置放大器。该前置放大器主要由外部耦合偏置模块和核心放大器模块构成;核心放大器模块使用稳定性好、输出电压摆幅大和功耗低的电容自举技术,并结合了共源共栅结构,以提升电路的整体增益;外部耦合偏置模块使用功耗较低、输入阻抗较大和工作点设置简单的交流耦合外部偏置结构,以满足心率信号检测前置放大器的带通要求。采用10μm IZO-TFT工艺对所提出的前置放大器进行设计和流片测试,结果表明:在20 V电源电压条件下,该放大器的增益为35 dB,带宽为2 Hz~2 kHz,噪声均方根值为118.2μV,功耗为0.1 mW,实现的前置放大器满足心率信号检测要求;与现有的MO-TFT心率信号检测前置放大器相比,所设计的前置放大器增益提升了约10 dB,降低了后级模块对器件性能的要求,有利于实现模拟信号的数字化,保持信号的完整性。 展开更多
关键词 金属氧化物薄膜晶体管 心率信号检测 前置放大器 电容自举结构
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稀土掺杂金属氧化物薄膜晶体管研究进展
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作者 黄湘兰 彭俊彪 《发光学报》 北大核心 2025年第3期436-451,共16页
金属氧化物薄膜晶体管(Metal oxide thin film transistors,MOTFTs)因其具有较高的载流子迁移率和较好的电学稳定性,在大尺寸发光显示驱动背板应用方面极具潜力。此外,MOTFTs与非晶硅薄膜晶体管的制备工艺兼容,制造成本较低,具有较大市... 金属氧化物薄膜晶体管(Metal oxide thin film transistors,MOTFTs)因其具有较高的载流子迁移率和较好的电学稳定性,在大尺寸发光显示驱动背板应用方面极具潜力。此外,MOTFTs与非晶硅薄膜晶体管的制备工艺兼容,制造成本较低,具有较大市场竞争优势。然而,衡量MOTFTs性能的两个关键指标——迁移率和稳定性之间的矛盾限制了其高端显示应用。因此,开发高迁移率兼具高稳定性的MOTFTs成为研究热点和产业竞争焦点。大量研究表明,稀土掺杂氧化物有源半导体材料体系有望实现这一目标。本文重点综述兼具高迁移率和高稳定性的稀土掺杂氧化物材料设计及MOTFTs已达到的性能,探讨稀土掺杂金属氧化物薄膜晶体管(RE-MOTFTs)面临的挑战和发展潜力。 展开更多
关键词 金属氧化物薄膜晶体管 稀土元素 迁移率 稳定性
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Ultrafast laser dynamics of metal organic frameworks/TiO_2 nano-arrays hybrid composites for energy conversion applications 被引量:1
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作者 Fatma M.Ismail Daniel O'Neil +1 位作者 Tareq Youssef Souad A.Elfeky 《Journal of Energy Chemistry》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第2期88-94,共7页
Herein,we report the victorious synthesis of metal-organic frameworks(MOFs) on TiO_2 nanotubes(NTs)using a layer-by-layer(LbL) approach.Highly crystalline and homogenous thin films of MOFs were grown and characterized... Herein,we report the victorious synthesis of metal-organic frameworks(MOFs) on TiO_2 nanotubes(NTs)using a layer-by-layer(LbL) approach.Highly crystalline and homogenous thin films of MOFs were grown and characterized using XRD,SEM,FT-IR and UV/Vis spectroscopy.Moreover,the utilization of the MOF films as sensitizers was probed in bespoke Graetzel type liquid junction solar cells.The constructed cell performance revealed an I_(sc) of 1.16 mA cm^(–2),Vocof 0.63 V,FF of 0.33,and E_(ff) of 0.42%.Further,pumpprobe transient laser spectroscopy was performed to investigate the energy and charge transfer dynamics of the MOFs/TiO_2 NTs interface.The results indicated 86% injection efficiency.The ultrafast pump-probe spectroscopy allows the investigation of this process and the differences between MOFs.It also showed that the relaxation of the MOF chromophores is in competition with electron injection in the Ti O2 motif.Thus this study provides a new insight into electron transfer from photoexcited metal-organic frameworks(MOFs) into titanium dioxide. 展开更多
关键词 ULTRAFAST laser dynamics metal-ORGANIC frameworks TiO2 nano-arrays Energy CONVERSION thin film
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高精度薄厚膜异构HTCC基板制备工艺 被引量:1
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作者 张鹤 杨鑫 +2 位作者 谢岳 杨振涛 刘林杰 《微纳电子技术》 CAS 2024年第7期150-155,共6页
针对高温共烧陶瓷(HTCC)基板高平整度、高密度封装需求,提出了一种高精度薄厚膜异构HTCC基板的制备方法,并对其关键工艺进行研究。结合陶瓷基板精密研磨工艺与薄膜制备工艺,该方法在大幅降低原有HTCC基板的平面度、粗糙度的同时,实现HTC... 针对高温共烧陶瓷(HTCC)基板高平整度、高密度封装需求,提出了一种高精度薄厚膜异构HTCC基板的制备方法,并对其关键工艺进行研究。结合陶瓷基板精密研磨工艺与薄膜制备工艺,该方法在大幅降低原有HTCC基板的平面度、粗糙度的同时,实现HTCC表面精密布线。测量结果表明,薄厚膜HTCC基板的平面度低至15μm,表面布线最小线宽低至10μm,与传统陶瓷基板平面度(30μm)与最小线宽(50μm)相比均有较大改善。在此基础上,研究了不同种子层厚度对薄厚膜异构HTCC基板结合力的影响。结果表明当钛钨层厚度为150 nm时,薄膜层和陶瓷基板结合力高达9.27 gf(1 gf=0.0098 N)。 展开更多
关键词 多层共烧陶瓷 薄膜金属化 封装基板 异构集成 键合强度
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高迁移率金属氧化物半导体薄膜晶体管的研究进展 被引量:2
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作者 李强 葛春桥 +4 位作者 陈露 钟威平 梁齐莹 柳春锡 丁金铎 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期447-465,共19页
基于金属氧化物半导体(MOS)的薄膜晶体管(TFT)由于较高的场效应迁移率(μFE)、极低的关断漏电流和大面积电性均匀等特点,已成为助推平板显示或柔性显示产业发展的一项关键技术。经过30余年的研究,非晶铟镓锌氧化物(a-IGZO)率先替代非晶... 基于金属氧化物半导体(MOS)的薄膜晶体管(TFT)由于较高的场效应迁移率(μFE)、极低的关断漏电流和大面积电性均匀等特点,已成为助推平板显示或柔性显示产业发展的一项关键技术。经过30余年的研究,非晶铟镓锌氧化物(a-IGZO)率先替代非晶硅(a-Si)在TFT中得到推广应用。然而,为了同时满足显示产业对更高生产效益、更佳显示性能(如高分辨率、高刷新率等)和更低功耗等多元升级要求,需要迁移率更高的MOS TFTs技术。本文从固体物理学的角度,系统综述了MOS TFTs通过多元MOS材料实现高迁移率特性的研究进展,并讨论了迁移率与器件稳定性之间的关系。最后,总结展望了MOS TFTs的现状和发展趋势。 展开更多
关键词 金属氧化物半导体 薄膜晶体管 场效应迁移率 偏压稳定性
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一种32MHz低温漂高精度张弛型振荡器的设计
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作者 梁国辉 《集成电路应用》 2024年第6期6-7,共2页
阐述基于0.18μmCMOS工艺设计的一种低温漂张弛型振荡器。该张弛型振荡器在使用平均周期反馈控制的基础上采用金属薄膜电阻和金属-绝缘体-金属电容作为振荡单元,可以实现温度从-40~125℃变化时1%的频率漂移。
关键词 张弛型振荡器 高精度 低温漂 金属薄膜电阻
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颗粒硅带多晶硅薄膜太阳电池的研制 被引量:7
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作者 梁宗存 许颖 +3 位作者 公延宁 沈辉 李仲明 李戬洪 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期45-48,共4页
以工业硅粉为原料制备出颗粒硅带 (SSP) ,对颗粒硅带表面形态进行分析。以SSP为衬底 ,采用快速热化学气相沉积 (RTCVD)法生长多晶硅薄膜 ,并以此制作出效率为 2 93%的颗粒硅带多晶硅薄膜太阳电池 ,这在国内属首先。并报道了对以SSP为... 以工业硅粉为原料制备出颗粒硅带 (SSP) ,对颗粒硅带表面形态进行分析。以SSP为衬底 ,采用快速热化学气相沉积 (RTCVD)法生长多晶硅薄膜 ,并以此制作出效率为 2 93%的颗粒硅带多晶硅薄膜太阳电池 ,这在国内属首先。并报道了对以SSP为衬底的多晶硅薄膜太阳电池的初步研究结果 ,同时讨论了该类电源的结构。 展开更多
关键词 颗粒硅带 快速热化学气相沉积 RTCVD 多晶硅薄膜太阳电池 SSP 电源结构 工艺 改进措施
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薄金属膜光学常数的椭偏法测定 被引量:3
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作者 薛建华 韩丹 +1 位作者 杨秀文 魏江南 《河北科技大学学报》 CAS 2003年第2期77-80,共4页
依据椭偏测光法的原理,采用内外反射法测量透明基底上薄金属膜的光学常数的厚度,并在计算机上利用单纯形法计算得到薄金属膜的折射率、消光系数和几何厚度,并对数据进行了系统误差的修正。
关键词 薄金属膜 光学常数 椭偏测光法 单纯形法 内外反射法 折射率 消光系数 几何厚度
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柔版印刷金属网栅光电性能研究 被引量:3
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作者 李修 王瑜 +3 位作者 徐艳芳 冉军 莫黎昕 李路海 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第12期3295-3299,共5页
为满足日渐增加的电磁屏蔽要求,设计了一种透明基材上柔版印刷电磁屏蔽用金属网栅,研究了影响金属网栅透光率与电磁屏蔽特性的主要因素。首先从理论分析入手,计算并分析金属网栅结构参数(线宽、周期、占空比)等对透明导电金属网栅... 为满足日渐增加的电磁屏蔽要求,设计了一种透明基材上柔版印刷电磁屏蔽用金属网栅,研究了影响金属网栅透光率与电磁屏蔽特性的主要因素。首先从理论分析入手,计算并分析金属网栅结构参数(线宽、周期、占空比)等对透明导电金属网栅透光率及电磁屏蔽效能的影响;接下来利用柔版印刷方式制备周期为300、400μm线宽为20、30、40μm的金属网栅,测试了在7、10、13 GHz3个频点处电磁屏蔽效能以及300~1000 nm波段的紫外-可见透过率。测试与分析结果表明:金属网栅在紫外-可见光波段透过率在70%~80%之间,且随周期/线宽增大而分别增大/减小,电磁屏蔽效能最高达到了15 dB以上。结果显示,网栅的光电特性是矛盾的,线宽与周期越小电磁屏蔽效果越好。 展开更多
关键词 薄膜 金属网栅 电磁屏蔽 透明导电膜
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二氧化钒薄膜表面起泡的起因和防止 被引量:3
14
作者 尹大川 许念坎 +2 位作者 张晶宇 刘正堂 郑修麟 《西北工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第4期639-643,共5页
对新型的二氧化钒薄膜制备技术即无机溶胶-凝胶法,在制膜过程中其膜面容易起泡这个问题进行了研究,发现制备过程中脱水和晶化过程是起泡的主因。经采用300℃以上的慢速升温烘干处理工艺,避免了在后序真空处理过程中发生脱水和晶... 对新型的二氧化钒薄膜制备技术即无机溶胶-凝胶法,在制膜过程中其膜面容易起泡这个问题进行了研究,发现制备过程中脱水和晶化过程是起泡的主因。经采用300℃以上的慢速升温烘干处理工艺,避免了在后序真空处理过程中发生脱水和晶化过程,解决了二氧化钒薄膜表面起泡的难题,获得了表面状态很好的二氧化钒薄膜。 展开更多
关键词 二氧化钒 薄膜 制备 溶胶-凝胶法 表面起泡
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磁控溅射工艺参数对涤纶机织物基纳米金属薄膜抗静电性能的影响 被引量:8
15
作者 袁小红 魏取福 +1 位作者 陈东生 徐文正 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2014年第6期848-852,共5页
在室温条件下采用磁控溅射技术在涤纶机织物表面沉积金属薄膜,利用扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观察纳米金属薄膜的表面形貌,通过分别改变磁控溅射工艺参数溅射时间、溅射功率和气体压强,研究其对试样抗静电性能的影响。实验结果表... 在室温条件下采用磁控溅射技术在涤纶机织物表面沉积金属薄膜,利用扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观察纳米金属薄膜的表面形貌,通过分别改变磁控溅射工艺参数溅射时间、溅射功率和气体压强,研究其对试样抗静电性能的影响。实验结果表明,溅射时间和溅射功率对镀金属薄膜试样的抗静电性能均影响较大,而气体压强影响相对较小。溅射时间40min、溅射功率120W、气体压强1.6Pa工艺条件下,镀Cu膜试样的抗静电性能最好;溅射时间40min、溅射功率120W、气体压强1Pa或1.6Pa工艺条件下,镀Ag膜试样的抗静电性能最好,而且镀Ag比镀Cu薄膜试样的抗静电性能更优异。 展开更多
关键词 磁控溅射 涤纶机织物 纳米金属薄膜 抗静电性能
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大型天文望远镜反射涂层的特性 被引量:2
16
作者 王晋峰 王长军 +1 位作者 熊胜明 张云洞 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2003年第1期70-72,共3页
用于天文望远镜的银增强大型反射镜,具有良好的光学特性。但银反射镜存在与玻璃基板 附着差,容易受大气污染物侵蚀的弱点。研制铜基银增强型反射镜,由于铜和银膜间的相互作用,克服了上述缺点,取得了较好的效果。
关键词 天文望远镜 反射涂层 反射膜 金属薄膜 铝膜 银膜
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椭偏技术的原理及其在功能薄膜表征中的应用 被引量:9
17
作者 孙顺明 张良莹 姚熹 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 1998年第3期209-213,共5页
随着计算机技术的不断发展,已有一百多年历史的椭偏技术的研究重点已从该技术本身转移到了它在材料分析中的新用途。通过介绍椭偏技术的测量原理,给出了椭偏仪在材料表征中的应用范围和局限。研究表明,结合其他分析工具并建立精细的... 随着计算机技术的不断发展,已有一百多年历史的椭偏技术的研究重点已从该技术本身转移到了它在材料分析中的新用途。通过介绍椭偏技术的测量原理,给出了椭偏仪在材料表征中的应用范围和局限。研究表明,结合其他分析工具并建立精细的椭偏模型,可变入射角光谱椭偏仪(VASE)能定量测量各种功能金属氧化物薄膜的厚度、光学常数和气孔率。VASE将在功能金属氧化物外延薄膜的生长控制和性能优化等方面发挥积极的作用。 展开更多
关键词 VASE 椭偏技术 表征 金属氧化物 薄膜 功能薄膜
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二氧化钒薄膜在激光防护上的应用研究 被引量:30
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作者 宁永刚 孙晓泉 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2005年第5期530-534,共5页
战场上激光武器的不断发展对激光防护提出了更高的要求。由于VO2薄膜的相变温度接近室温,具有良好的光电性能,成为相变材料中最有希望用于红外探测器的激光防护材料。介绍了VO2薄膜的光电特性,并探讨了其在激光防护应用方面的相关问题... 战场上激光武器的不断发展对激光防护提出了更高的要求。由于VO2薄膜的相变温度接近室温,具有良好的光电性能,成为相变材料中最有希望用于红外探测器的激光防护材料。介绍了VO2薄膜的光电特性,并探讨了其在激光防护应用方面的相关问题以及发展前景。 展开更多
关键词 VO2薄膜 金属-半导体相变 激光防护 制备工艺
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用金属诱导准分子激光晶化法制备多晶硅薄膜 被引量:4
19
作者 廖燕平 邵喜斌 +4 位作者 吴渊 骆文生 付国柱 荆海 马凯 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期128-132,共5页
提出了一种新的晶化方法———金属诱导准分子激光晶化法(MI ELA)。该方法在制备多晶硅(p Si)薄膜中包括两个步骤:第一步是用镍金属诱导方法(MIC)通过热退火形成NiSi2;第二步是再通过准分子激光退火方法(ELA)晶化形成p Si。通过用XRD、R... 提出了一种新的晶化方法———金属诱导准分子激光晶化法(MI ELA)。该方法在制备多晶硅(p Si)薄膜中包括两个步骤:第一步是用镍金属诱导方法(MIC)通过热退火形成NiSi2;第二步是再通过准分子激光退火方法(ELA)晶化形成p Si。通过用XRD、Raman与SEM测试,研究了p Si的结晶性和表面形貌特征。研究发现,MI ELA方法制备的p Si与传统的ELA方法和MIC方法相比在形貌上不一样,而且从XRD的特征峰强度可以看出在结晶度上有进一步提高。这个结果源于用MIC方法形成的且与c Si晶格匹配的NiSi2在ELA中起到晶核的作用。这种晶化方法说明,在ELA中,晶粒生长不再仅仅依赖于熔融非晶硅和氧化物表面上残存的随机的固体a Si作为成核媒介。这种方法不但可以提供晶粒稳定生长条件,而且也可能使获得更大晶粒粒度的激光晶化能量展宽。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜 金属诱导-准分子激光晶化 NiSi2
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激光辐照薄膜镜面产生损伤现象的研究 被引量:6
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作者 赖祖武 谈效华 +1 位作者 赖宗力 向伟 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 1992年第2期255-259,共5页
描述了薄膜镜面因激光辐照产生的波纹现象,对产生机理进行了分析,提出热导波模型。热导波模型比通常的光学模型能更好的解释波纹现象。
关键词 激光辐照损伤 铜薄膜镜面 损伤机理
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