期刊导航
期刊开放获取
上海教育软件发展有限公..
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
2
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
HfO_2薄膜的反应离子刻蚀特性研究
被引量：
2
1
作者
王旭迪
刘颖
+2 位作者
洪义麟
付绍军
徐向东
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期313-316,共4页
研究了HfO2 薄膜在CHF3 /Ar和SF6/Ar等气体中的反应离子刻蚀机理。结果表明刻蚀气体的组分和射频偏压对刻蚀速率有较大影响 ,而气体流量影响不大。CHF3 和SF6与HfO2 的反应产物具有较好的挥发性 ,Ar的引入不仅可以打破分子之间的键合促...
研究了HfO2 薄膜在CHF3 /Ar和SF6/Ar等气体中的反应离子刻蚀机理。结果表明刻蚀气体的组分和射频偏压对刻蚀速率有较大影响 ,而气体流量影响不大。CHF3 和SF6与HfO2 的反应产物具有较好的挥发性 ,Ar的引入不仅可以打破分子之间的键合促进刻蚀产物的形成 ,而且通过轰击加快产物从材料表面解吸 ,从而提高HfO2 刻蚀速率。AFM测量结果表明刻蚀降低了HfO2 表面粗糙度 ,显示刻蚀工艺对材料的低损伤。
展开更多
关键词
hfo2
反应离子刻蚀
刻蚀速率
刻蚀工艺
刻蚀气体
频偏
键合
薄膜
NO2
轰击
在线阅读
下载PDF
职称材料
纳米尺度HfO_2薄膜不同厚度对光学性质的影响
被引量：
1
2
作者
张寅辉
任玲玲
+1 位作者
高慧芳
刘小萍
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第3期375-382,共8页
Hf O_2薄膜厚度达到纳米级别时,其光学性质会发生变化。光谱椭偏仪能够同时得到纳米尺度薄膜的厚度和光学常数,但是由于测量参数的关联性,光学常数的结果不准确可靠。本文采用溯源至SI单位的掠入射X射线反射技术对纳米尺度Hf O_2薄膜厚...
Hf O_2薄膜厚度达到纳米级别时,其光学性质会发生变化。光谱椭偏仪能够同时得到纳米尺度薄膜的厚度和光学常数,但是由于测量参数的关联性,光学常数的结果不准确可靠。本文采用溯源至SI单位的掠入射X射线反射技术对纳米尺度Hf O_2薄膜厚度进行准确测量,再以该量值为准确薄膜厚度参考值。利用光谱椭偏仪测量Hf O_2膜厚和光学常数时,参考膜厚量值,从而得到对应相关膜厚的薄膜准确光学参数。研究了以Al2O_3作为薄膜缓冲层的名义值厚度分别为2,5,10 nm的超薄Hf O_2薄膜厚度对光学性质的影响。实验结果表明,随着Hf O_2薄膜厚度的增加,折射率也逐渐增大,在激光波长632.8 nm下其折射率分别为1.901,2.042,2.121,并且接近于体材料,而消光系数始终为0,表明纳米尺度Hf O_2薄膜在较宽的光谱范围内具有较好的增透作用,对光没有吸收。
展开更多
关键词
纳米尺度HfO
2薄膜
掠入射X射线反射技术
光谱椭偏
厚度和光学表征
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
HfO_2薄膜的反应离子刻蚀特性研究
被引量：
2
1
作者
王旭迪
刘颖
洪义麟
付绍军
徐向东
机构
中国科学技术大学国家同步辐射实验室
合肥工业大学机械与汽车工程学院合肥
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期313-316,共4页
基金
国家 8 63 80 4主题专项资助 (No .863 80 4 9 2 )
文摘
研究了HfO2 薄膜在CHF3 /Ar和SF6/Ar等气体中的反应离子刻蚀机理。结果表明刻蚀气体的组分和射频偏压对刻蚀速率有较大影响 ,而气体流量影响不大。CHF3 和SF6与HfO2 的反应产物具有较好的挥发性 ,Ar的引入不仅可以打破分子之间的键合促进刻蚀产物的形成 ,而且通过轰击加快产物从材料表面解吸 ,从而提高HfO2 刻蚀速率。AFM测量结果表明刻蚀降低了HfO2 表面粗糙度 ,显示刻蚀工艺对材料的低损伤。
关键词
hfo2
反应离子刻蚀
刻蚀速率
刻蚀工艺
刻蚀气体
频偏
键合
薄膜
NO2
轰击
Keywords
HfO 2
film
Reactive ion etching
Etch rate
分类号
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
TN305 [电子电信—物理电子学]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
纳米尺度HfO_2薄膜不同厚度对光学性质的影响
被引量：
1
2
作者
张寅辉
任玲玲
高慧芳
刘小萍
机构
中国计量科学研究院纳米新材料计量研究所
太原理工大学表面工程研究所
出处
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第3期375-382,共8页
基金
国家重点研发计划"国家质量基础的共性技术研究与应用"重点专项(2016YFF0204301)资助~~
文摘
Hf O_2薄膜厚度达到纳米级别时,其光学性质会发生变化。光谱椭偏仪能够同时得到纳米尺度薄膜的厚度和光学常数,但是由于测量参数的关联性,光学常数的结果不准确可靠。本文采用溯源至SI单位的掠入射X射线反射技术对纳米尺度Hf O_2薄膜厚度进行准确测量,再以该量值为准确薄膜厚度参考值。利用光谱椭偏仪测量Hf O_2膜厚和光学常数时,参考膜厚量值,从而得到对应相关膜厚的薄膜准确光学参数。研究了以Al2O_3作为薄膜缓冲层的名义值厚度分别为2,5,10 nm的超薄Hf O_2薄膜厚度对光学性质的影响。实验结果表明,随着Hf O_2薄膜厚度的增加,折射率也逐渐增大,在激光波长632.8 nm下其折射率分别为1.901,2.042,2.121,并且接近于体材料,而消光系数始终为0,表明纳米尺度Hf O_2薄膜在较宽的光谱范围内具有较好的增透作用,对光没有吸收。
关键词
纳米尺度HfO
2薄膜
掠入射X射线反射技术
光谱椭偏
厚度和光学表征
Keywords
nanoscale HfO 2
thin film
s
grazing incidence X-ray reflectivity
spectroscopic ellipsometry
characterization of thickness and optical properties
分类号
O434.19 [机械工程—光学工程]
TB39 [一般工业技术—材料科学与工程]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
HfO_2薄膜的反应离子刻蚀特性研究
王旭迪
刘颖
洪义麟
付绍军
徐向东
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
纳米尺度HfO_2薄膜不同厚度对光学性质的影响
张寅辉
任玲玲
高慧芳
刘小萍
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018
1
在线阅读
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部
