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Synchrotron Radiation Lithography and MEMS Technique at NSRL 被引量:1
1
作者 LIU Gang, TIAN Yang chao (National Synchrotron Radiation Laboratory, University of Science and Technology of China, Hefei, 230029, China) 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 2001年第5期455-457,共3页
Two beamlines and stations for soft X-ray lithography and hard X-ray lithography at NSRL are presented. Synchrotron radiation lithography (SRL) and mask techniques are developed, and the micro-electro-mechanical syste... Two beamlines and stations for soft X-ray lithography and hard X-ray lithography at NSRL are presented. Synchrotron radiation lithography (SRL) and mask techniques are developed, and the micro-electro-mechanical systems (MEMS) techniques are also investigated at NSRL. In this paper, some results based on SRL and MEMS techniques are reported, and sub-micron and high aspect ratio microstructures are given. Some micro-devices, such as microreactors are fabricated at NSRL. 展开更多
关键词 synchrotron radiation lithography (srl) MEMS MICROREACTORS
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一种新的低成本微电子机械系统微针加工方法 被引量:3
2
作者 贾书海 李以贵 +1 位作者 朱军 孙潇 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期589-592,共4页
提出了一种新的空心微针阵列加工方法,利用三次同步辐射曝光和显影过程来加工微针.通过无掩膜曝光实现显影腐蚀的侧向扩展,从而获得微针的尖部形状;为克服因同步辐射光源的光束为近似椭圆高斯分布所造成的微针呈椭圆形及微针在各个方... 提出了一种新的空心微针阵列加工方法,利用三次同步辐射曝光和显影过程来加工微针.通过无掩膜曝光实现显影腐蚀的侧向扩展,从而获得微针的尖部形状;为克服因同步辐射光源的光束为近似椭圆高斯分布所造成的微针呈椭圆形及微针在各个方向上的强度不均匀问题,采用正交两次曝光方法来补偿同步辐射光源的光束分布不均匀性.这种方法工艺过程非常简单,并且无需任何特殊装置.文中所有实验是在日本立命馆大学的超导压缩存储环同步辐射光源AURORA的第13条线上完成的.实验结果表明,利用这种新方法可以非常方便地加工出高质量的空心微针,实现微针阵列的低成本、批量化制造. 展开更多
关键词 微电子机械系统 微针 同步辐射 光刻
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同步辐射光刻光束线的真空系统 被引量:3
3
作者 蒋迪奎 李贵和 +4 位作者 刘泽文 殷立新 钱石南 阚娅 吴冠原 《真空科学与技术》 CSCD 1994年第3期174-178,共5页
第一条同步辐射光刻光束线已在合肥国家同步辐射实验室建成,并刻出了线宽0.2μm的图形。真空系统是光束线的重要组成部分。该真空系统要使镜箱内的压力分别小于6.7×10-8Pa(镜箱内有SR)和2.6×10-7(镜箱内无SR),以免... 第一条同步辐射光刻光束线已在合肥国家同步辐射实验室建成,并刻出了线宽0.2μm的图形。真空系统是光束线的重要组成部分。该真空系统要使镜箱内的压力分别小于6.7×10-8Pa(镜箱内有SR)和2.6×10-7(镜箱内无SR),以免暴露于SR的光学镜面遭受碳污染。一个装有可移动样品架的曝光室坐落在超净室中。曝光室内的压力约为10-4Pa。一个多级差分抽气系统实现了镜箱到曝光室的真空过渡。具有较大截面的差分管必须是良好的光通路。给出了差分抽气系统的计算公式和实验结果。描述了真空联锁系统的组成部分和功能。该光束线的功能还需扩展和提高,真空系统也有值得探讨和改进的问题。 展开更多
关键词 同步辐射 光刻 差分抽分 真空系统
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同步辐射X射线光刻应用新领域──LIGA技术 被引量:5
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作者 田扬超 胡一贯 +1 位作者 刘泽文 阚娅 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第4期303-307,共5页
介绍了一种超微细加工新方法-LIGA技术,并就LIGA技术对掩模材料、光刻胶和光源的要求予以讨论,同时还介绍了国外在这方面的最新研究成果。LIGA技术是深度X射线刻蚀、电铸成型和塑料铸模等技术相结合的综合技术,是制造... 介绍了一种超微细加工新方法-LIGA技术,并就LIGA技术对掩模材料、光刻胶和光源的要求予以讨论,同时还介绍了国外在这方面的最新研究成果。LIGA技术是深度X射线刻蚀、电铸成型和塑料铸模等技术相结合的综合技术,是制造微型机械最有前途的方法。与传统半导体超微细加工方法相比,LIGA技术有以下优点:(1)用材广泛,可以是金属、陶瓷、聚合物及玻璃;(2)可加工任意复杂的图形结构;(3)可制造有较大高宽比的超微细元件;(4)加工精度高,可达亚微米;(5)可重复复制,工业上能批量生产,成本低。 展开更多
关键词 LIGA技术 X射线光刻 同步辐射 光刻
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同步辐射X射线光刻技术 被引量:3
5
作者 张东平 乐德芬 胡一贯 《应用光学》 CAS CSCD 2001年第4期40-44,48,共6页
同步辐射 X射线光刻 (SRXL)是本世纪超大规模集成电路 (VLSI)发展中最有希望的深亚微米图形加工技术 ,本文综述了 SRXL技术研究的现状及存在的问题 。
关键词 同步辐射 X射线 光刻技术 集成电路
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X射线干涉光刻光束线偏转镜系统的设计与测试 被引量:1
6
作者 龚学鹏 卢启鹏 彭忠琦 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第8期2142-2150,共9页
介绍了上海光源X射线干涉光刻(XIL)光束线的基本情况。为实现光束线的光束偏转和光路切换,完成了其偏转镜系统的研制。分析了偏转镜系统的功能,设计了偏转镜的调节机构、切换机构和冷却结构。论述了调节机构的关键运动,即镜箱外直线运... 介绍了上海光源X射线干涉光刻(XIL)光束线的基本情况。为实现光束线的光束偏转和光路切换,完成了其偏转镜系统的研制。分析了偏转镜系统的功能,设计了偏转镜的调节机构、切换机构和冷却结构。论述了调节机构的关键运动,即镜箱外直线运动转化为超高真空内旋转运动的实现过程;讨论了切换机构重复精度与承载能力之间的关系,并完成了精密丝杆的校核。采用镜子支撑方式和冷却方式集成的方案设计了冷却结构,并通过数值模拟分析了冷却结构和冷却效果。模拟结果表明镜子子午面形误差和弧矢面形误差分别约为6.5rad和7rad。应用激光干涉仪和光电自准直仪对调节机构和切换机构进行了测试,结果表明:调节机构的线性分辨力可达0.2μm,切换机构的重复精度满足设计要求。 展开更多
关键词 上海同步辐射光源 X射线干涉光刻 偏转镜 结构设计 精度测试
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X射线干涉光刻光束线关键光学元件热-结构耦合分析 被引量:1
7
作者 龚学鹏 卢启鹏 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第10期2347-2354,共8页
为了保证上海光源X射线干涉光刻光束线的稳定性,减小热变形对实验结果的影响,对X射线干涉光刻光束线的3个关键光学元件——偏转镜、聚焦镜和精密四刀狭缝进行热-结构耦合分析。首先,计算偏转镜、聚焦镜和精密四刀狭缝所承载的功率密度;... 为了保证上海光源X射线干涉光刻光束线的稳定性,减小热变形对实验结果的影响,对X射线干涉光刻光束线的3个关键光学元件——偏转镜、聚焦镜和精密四刀狭缝进行热-结构耦合分析。首先,计算偏转镜、聚焦镜和精密四刀狭缝所承载的功率密度;然后,建立其有限元模型;最后,获得光学元件的温度场和热变形的结果。结果表明,偏转镜和聚焦镜采用间接水冷方式可有效抑制热变形,冷却后的最大面形误差分别为7.2μrad和9.2μrad。精密四刀狭缝未冷却时,刀片组件温度介于271.56~273.27℃,刀口热变形为0.19 mm,直线导轨热变形为0.08 mm;经过铜辫子冷却后,刀片组件温度降至22.24~23.94℃,刀口热变形降至0.2μm,直线导轨热变形降至0.1μm;采用影像法和接触探头法测试后,刀口直线度、平行度和重复精度均满足技术要求。偏转镜、聚焦镜和精密四刀狭缝的热变形通过间接水冷和铜辫子的冷却方式可以得到很大程度的抑制,进而保证光斑质量。 展开更多
关键词 X射线干涉光刻 热分析 数值模拟 同步辐射
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同步辐射光源的发展和展望 被引量:1
8
作者 何多慧 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 1990年第4期387-400,共14页
本文综述世界各国同步辐射光源的发展现状,展望未来同步辐射光源的发展方向和所面临的挑战。文中有关部分简述了中国科技大学国家同步辐射实验室建造的我国第一台同步辐射光源的情况。
关键词 同步 辐射 光源 贮存环
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LIGA实验站的设计及应用
9
作者 田扬超 刘刚 +3 位作者 洪义麟 郭育华 熊瑛 阚娅 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2007年第4期387-391,共5页
介绍了国家同步辐射实验室二期建设的LIGA实验站,研究了同步辐射光发散角对深度同步辐射光刻精度的影响;对深度同步辐射光刻扫描台的精度提出了理论要求;报道了深度同步辐射光刻、电铸和塑铸的实验结果.
关键词 同步辐射 LIGA 深度光刻
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北京同步辐射装置X光光刻束线监测系统
10
作者 崔明启 刘丽冰 +5 位作者 徐文轩 唐鄂生 吴坚武 王培玮 尹福廷 陈光辉 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 1992年第6期337-343,共7页
本文介绍了安装在北京同步辐射装置(BSRF)3B1束线上的自制同步辐射光束在线监测系统,对光束垂直位置、光斑均匀性及光刻曝光量(同步光积分光强)实现了在线监控,给出了实时在线测试结果。
关键词 同步辐射 光刻 X辐射 监测
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X射线镂空硅掩模在同步辐射X射线深层光刻中的应用
11
作者 孙宝银 陈梦真 +1 位作者 朱樟震 伊福廷 《真空科学与技术》 CSCD 1995年第3期176-178,共3页
阐述了X射线镂空硅掩模的研制及其在同步辐射深层光刻中的应用。在北京同步辐射国家实验室X射线光刻装置上,采用本文研制的X射线镂空硅掩模获得胶厚为30~40μm、侧壁很陡、边缘很直的X射线深层光刻胶图形。
关键词 镂空硅掩模 X射线 深层光刻 同步辐射
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同步辐射激发直接干化学刻蚀
12
作者 韩正甫 张新夷 《物理学进展》 CSCD 北大核心 2000年第1期22-34,共13页
同步辐射激发直接光化学刻蚀是近年来发展的一项新技术 ,它不需要常规光刻中的光刻胶工艺 ,用表面光化学反应直接将图形写到半导体材料的表面上。由于所用的同步辐射在真空紫外 (VUV)波段 ,理论上的分辨率可以达到电子学的量子极限 ,且... 同步辐射激发直接光化学刻蚀是近年来发展的一项新技术 ,它不需要常规光刻中的光刻胶工艺 ,用表面光化学反应直接将图形写到半导体材料的表面上。由于所用的同步辐射在真空紫外 (VUV)波段 ,理论上的分辨率可以达到电子学的量子极限 ,且没有常规工艺中的表面损伤和化学污染 ,是一种非常具有应用潜力的技术。本文的最后部份重点讨论了与上述技术密切相关的VUV和软X射线激发的表面光化学反应机理。 展开更多
关键词 光刻 同步辐射 直接刻蚀 光化学反应
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上海第三代同步辐射装置及其在光刻和LIGA中的应用
13
作者 谢常青 叶甜春 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2000年第1期11-13,共3页
对即将动工的上海第三代同步辐射装置(SSRF)及其主要参数作了介绍。叙述了目前同步辐射x射线光刻和LIGA的一些技术进展情况。
关键词 同步辐射光源 X射线光刻 LIGA
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同步辐射光刻技术
14
作者 胡一贯 《量子电子学》 CSCD 1991年第3期291-297,共7页
同步辐射光刻有希望代替传统光刻技术,用于0.25μm以下图形的超精细加工。本文叙述了它的原理、相关技术的开发现状和工艺应用。
关键词 同步辐射 光刻 集成电路 微细加工
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X射线衍射光学部件的制备及其光学性能表征 被引量:10
15
作者 陈宜方 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第11期2779-2795,共17页
综述了国内外在纳米加工X射线衍射光学透镜方面的研究现状和最新进展。介绍了作者团队过去三年在这方面做的工作。针对衍射透镜关键技术,研发了具有大高宽比形貌的电子束光刻基础工艺;结合金电镀,提出了纳米尺度波带片的制造技术,并将... 综述了国内外在纳米加工X射线衍射光学透镜方面的研究现状和最新进展。介绍了作者团队过去三年在这方面做的工作。针对衍射透镜关键技术,研发了具有大高宽比形貌的电子束光刻基础工艺;结合金电镀,提出了纳米尺度波带片的制造技术,并将该工艺成功扩展于分辨率板(Siemens star)和集成光栅型会聚透镜的研制。运用蒙特卡罗模拟和显影动力学,探索了电子束光刻技术所能够实现的最大高宽比以及造成这种限制的物理根源;成功研制了50~100nm的波带片透镜(其中,100nm波带片高宽比为16∶1)、50~300nm的分辨率测试板(其中,300nm测试板高宽比为10∶1)和200nm的会聚透镜(高宽比为10∶1)。对所研制的光学部件在同步辐射光源进行了实验表征。结果表明,100nm波带片聚焦斑尺寸为234nm,测试板和会聚透镜的光学特性与国外同样光学部件到达同等水平;会聚透镜辐照的均匀性为99%。最后,总结了近几年我国X射线衍射透镜的发展进度,指出了衍射光学部件光学性能发展的最大瓶颈是分辨率与衍射效率相互制约,提出了提高光学部件衍射效率的具体途径,给出了我国X射线衍射透镜技术的未来发展路线图。 展开更多
关键词 X射线衍射光学部件 波带片 电子束光刻 纳米加工 会聚透镜 分辨率板 同步辐射光源
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