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Modeling and Optimal Design of Planar Linkage Mechanism of Coupled Joint Clearances for Manufacturing 被引量:3
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作者 Yang Bo Wang Xingdong +1 位作者 Kong Jianyi Zhang Hua 《Transactions of Nanjing University of Aeronautics and Astronautics》 EI CSCD 2018年第4期719-728,共10页
The uncertainty of the mechanism motion error is mostly caused by the manufacturing process,so the motion error cannot be effectively predicted at the design phase.The problems of manufacturing complexity and the rela... The uncertainty of the mechanism motion error is mostly caused by the manufacturing process,so the motion error cannot be effectively predicted at the design phase.The problems of manufacturing complexity and the relationship between design and manufacturing are analyzed,and the influence of dimensional tolerance and fit tolerance on the motion accuracy of the system is considered in the design process.Then based on the Monte Carlo simulation,an optimal design model of planar linkage mechanism is set up.A typical offset slider-crank mechanism is used as an illustrative example to carry out the optimal design.Compared with the result of typical robustness design,the similar variation characteristics of the mean value and the standard deviation can be found,so the proposed method is effective.The method is furthermore applied in the optimization of the schemes with different fit tolerances and the prediction of motion errors in the design phase is achieved.A set of quantitative evaluation system for mechanism optimal design is provided.Finally,a basic strategy is presented to balance the motion precision and manufacturing cost. 展开更多
关键词 MANUFACTURING planar linkage mechanism Monte Carlo simulation dimensional tolerance fit tolerance BALANCE
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Mechanism of amorphous Ge_2Sb_2Te_5 removal during chemical mechanical planarization in acidic H_2O_2 slurry
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作者 何敖东 宋志棠 +4 位作者 刘波 钟旻 王良咏 吕业刚 封松林 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第1期547-551,共5页
In this paper, chemical mechanical planarization (CMP) of amorphous Ge2Sb2Te5 (a-GST) in acidic H2O2 slurry is investigated. It was found that the removal rate of a-GST is strongly dependent on H2O2 concentration ... In this paper, chemical mechanical planarization (CMP) of amorphous Ge2Sb2Te5 (a-GST) in acidic H2O2 slurry is investigated. It was found that the removal rate of a-GST is strongly dependent on H2O2 concentration and gradually increases with the increase in H2O2 concentration, but the static etch rate first increases and then slowly decreases with the increase in H2O2 concentration. To understand the chemical reaction behavior of H2O2 on the a-GST surface, the potentiodynamic polarization curve, surface morphology and cross-section of a-GST immersed in acidic slurry are measured and the results reveal that a-GST exhibits a from active to passive behavior for from low to high concentration of H2O2. Finally, a possible removal mechanism of a-GST in different concentrations of H2O2 in the acidic slurry is described. 展开更多
关键词 H2O2 chemical mechanical planarization Ge2Sb2Te5
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Dynamics of five-bar COBOT using differential mechanism
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作者 Li-xun Zhang Dun-min Lu +1 位作者 Lan Wang Jin-hua Shen and R. Bernhard 《Journal of Marine Science and Application》 2003年第2期72-75,共4页
COBOT is a new kind of collaborative robot , which can work with people in a shared space. In this paper a new kind of CVT using differential mechanism is introduced, which is major parts of five-bar COBOT and based t... COBOT is a new kind of collaborative robot , which can work with people in a shared space. In this paper a new kind of CVT using differential mechanism is introduced, which is major parts of five-bar COBOT and based the feature of nonhlonnmic constraint. The dynamic model of differential mechanism and five-bar architecture COBOT is founded. There are two kinds of coupled mode of two CVT:serial and parallel. In this paper, we present the dynamic model of serial and parallel COBOT take five-bar COBOT as research object. From the dynamic analysis foregoing, both serial and parallel COBOT model are have the feature of nonholonomic constraint. The ending track and moving state are controlled by the force of control motor and operator. The control motor can not control the movement and ending track of COBOT without the cooperation of operator. 展开更多
关键词 COBOT five-bar differential mechanism CVT
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基于SolidWorks的平面连杆机构运动分析在课程教学的应用研究
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作者 石文可 张华 +3 位作者 张雅晶 陈丰 孙业荣 查文珂 《内燃机与配件》 2025年第3期152-154,共3页
平面连杆机构是《机械原理》教学中的重难点,对于学生构筑机械工程知识体系十分重要。通过SolidWorks建立平面连杆机构模型,设置构件驱动尺寸,用Motion组件进行运动分析,可以使抽象运动轨迹直观化,并可导出任意点运动特性参数,方便学生... 平面连杆机构是《机械原理》教学中的重难点,对于学生构筑机械工程知识体系十分重要。通过SolidWorks建立平面连杆机构模型,设置构件驱动尺寸,用Motion组件进行运动分析,可以使抽象运动轨迹直观化,并可导出任意点运动特性参数,方便学生更好地理解平面连杆机构的运动规律与特性,并根据结果数据进一步分析研究,有效培养学生自主学习以及实践应用能力,提升平面连杆机构课程教学效果,推动教学进程的优化改革建设。 展开更多
关键词 SOLIDWORKS 平面连杆机构 方案拟定 运动分析
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碳化硅衬底化学机械研磨机理
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作者 罗付 蔡长益 +1 位作者 潘宏明 詹阳 《电子工业专用设备》 2025年第1期21-27,共7页
化学机械平坦化(CMP)作为能够实现局部和全局平坦化的唯一方法,被广泛应用于碳化硅衬底加工中,其成本在碳化硅衬底加工中占30%~40%[1]。抛光液作为化学机械平坦化的主要耗材之一,不同抛光液的选取对平坦化的效果不同。为此针对不同磨料... 化学机械平坦化(CMP)作为能够实现局部和全局平坦化的唯一方法,被广泛应用于碳化硅衬底加工中,其成本在碳化硅衬底加工中占30%~40%[1]。抛光液作为化学机械平坦化的主要耗材之一,不同抛光液的选取对平坦化的效果不同。为此针对不同磨料的碳化硅衬底抛光液进行对比,对二氧化铈抛光液机理进行分析,并针对二氧化铈抛光液耗材搭配进行研究。最后根据二氧化铈抛光液的特性选用不同硬度的抛光垫以及不同下压力的修整器进行搭配测试,并计算单片作业成本以及WPH(每小时可完成的晶圆加工数量)等指标。 展开更多
关键词 碳化硅 化学机械平坦化 抛光液 抛光垫 修整器
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基于CATIA的平面机构自顶向下参数化设计
6
作者 谢迪武 《木工机床》 2024年第3期5-8,共4页
文章以缝纫机下针机构为例,介绍了在CATIA软件中实现平面机构自顶向下的参数化设计方法,为平面机构创新设计快速建模提供了一种快捷、实用的新思路。
关键词 自顶向下设计方法 平面机构 参数化建模
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pH调节剂在CMP工艺中的应用研究进展 被引量:1
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作者 董常鑫 牛新环 +4 位作者 刘江皓 占妮 邹毅达 何潮 李鑫杰 《半导体技术》 北大核心 2024年第1期30-38,共9页
pH调节剂在化学机械抛光(CMP)工艺中有重要应用,可以调节抛光液的pH值以确保抛光过程的化学反应在理想的pH值下进行,同时保持抛光化学环境的稳定等。对无机酸、有机酸、无机碱和有机碱四大类pH调节剂在合金、金属和金属化合物等材料的CM... pH调节剂在化学机械抛光(CMP)工艺中有重要应用,可以调节抛光液的pH值以确保抛光过程的化学反应在理想的pH值下进行,同时保持抛光化学环境的稳定等。对无机酸、有机酸、无机碱和有机碱四大类pH调节剂在合金、金属和金属化合物等材料的CMP中的应用及其作用机理进行综述。无机酸pH调节剂的主要作用机理是快速腐蚀材料表面,但其主要缺点是会将多余的金属离子引入抛光液中污染金属表面。有机酸pH调节剂的主要作用机理是螯合金属离子形成大分子络合物,但其主要缺点是稳定性差,难以保存。无机碱pH调节剂的主要作用机理是在基底表面生成一层软化层,使其在机械作用下更容易被去除,但其主要缺点是仍会引入金属离子污染材料表面。有机碱pH调节剂的主要作用机理是加速钝化膜的形成,但其主要缺点是制备困难、成本高。最后对pH调节剂在CMP中的应用前景进行了展望。 展开更多
关键词 PH调节剂 化学机械抛光(CMP) 抛光液 稳定性 平坦化
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机械原理虚拟仿真实验教学系统的设计与实现 被引量:2
8
作者 刘瑞歌 郑琪 《滨州学院学报》 2024年第2期69-73,共5页
针对“机械原理”课程实践性强的特点,设计开发了一款虚拟仿真实验教学系统,该系统包括平面机构认知、平面连杆机构、凸轮机构、齿轮传动、动平衡原理5个模块。该系统实现了机械零部件的三维动画展示、各类机构的运动仿真模拟、实验设... 针对“机械原理”课程实践性强的特点,设计开发了一款虚拟仿真实验教学系统,该系统包括平面机构认知、平面连杆机构、凸轮机构、齿轮传动、动平衡原理5个模块。该系统实现了机械零部件的三维动画展示、各类机构的运动仿真模拟、实验设备的虚拟拆卸安装、实验装置各参数的虚拟测试等功能,该系统交互性、趣味性强,有助于提高学生的学习积极性和主动性。 展开更多
关键词 虚拟仿真 机械原理 实验系统 平面连杆机构 UNITY3D
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平面五杆机构运动学和动力学特性分析 被引量:43
9
作者 于红英 唐德威 王建宇 《哈尔滨工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期940-943,共4页
对平面五杆机构的运动学特性和动力学特性进行分析.推导了五杆机构的运动学正解和运动学逆解方程.借助Kane动力学分析方程,对五杆机构进行了动力学分析,分析结果表明惯性力对机构的影响很大.
关键词 平面五杆机构 运动学 动力学
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不同粒径硅溶胶磨料对Cu CMP的综合影响 被引量:6
10
作者 闫辰奇 刘玉岭 +5 位作者 张金 张文霞 王辰伟 何平 潘国峰 牛新环 《微纳电子技术》 北大核心 2017年第1期58-64,共7页
结合实验数据详细地分析了基于不同粒径硅溶胶磨料的抛光液对铜化学机械平坦化(CMP)性能的表征。研究表明,磨料粒径是决定CMP效率和最终晶圆表面平坦化质量的重要因素。分析了化学机械抛光过程中的机械作用及质量传递作用。通过在铜光... 结合实验数据详细地分析了基于不同粒径硅溶胶磨料的抛光液对铜化学机械平坦化(CMP)性能的表征。研究表明,磨料粒径是决定CMP效率和最终晶圆表面平坦化质量的重要因素。分析了化学机械抛光过程中的机械作用及质量传递作用。通过在铜光片及图形片上进行实验验证,结果表明,在低磨料质量分数条件下,当磨料粒径为60 nm时,可获得最优的平坦化效果,铜膜抛光速率可达623 nm/min,抛光后晶圆片内非均匀性和碟形坑高低差分别降为3.8%和75.1 nm,表面粗糙度为0.324 nm。在此基础上,为进一步建立磨料颗粒的微观动力学模型提出了一些理论基础上的建议。 展开更多
关键词 化学机械平坦化(CMP) 磨料粒径 机械作用 质量传递 平坦化性能
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大直径硅晶片化学机械抛光及其终点检测技术的研究与应用 被引量:10
11
作者 罗余庆 康仁科 +1 位作者 郭东明 金洙吉 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第6期24-29,37,共7页
化学机械抛光是硅片全局平坦化的核心技术,然而在实用阶段上,这项技术还受限于一些制造系统整合上的问题,其中有效的终点检测系统是影响抛光成效的重要关键。若未能有效地监测抛光运作,便无法避免硅片产生抛光过度或不足的缺陷。本文在... 化学机械抛光是硅片全局平坦化的核心技术,然而在实用阶段上,这项技术还受限于一些制造系统整合上的问题,其中有效的终点检测系统是影响抛光成效的重要关键。若未能有效地监测抛光运作,便无法避免硅片产生抛光过度或不足的缺陷。本文在介绍CMP机制与应用的基础上,系统分析了CMP终点检测技术的研究现状及存在的问题。 展开更多
关键词 大直径硅晶片 化学机械抛光 终点检测 平坦化
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固体表面高精密平面化技术研究进展 被引量:9
12
作者 刘玉岭 牛新环 +1 位作者 檀柏梅 肖文明 《河北工业大学学报》 CAS 北大核心 2009年第2期1-8,共8页
随着国内外市场的极大需求及激烈竞争,固体表面高精密加工质量要求日益提高.化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,简称CMP)技术几乎是迄今唯一的可以提供全局平面化的表面精加工技术,可广泛用于集成电路芯片、计算机硬磁盘、微... 随着国内外市场的极大需求及激烈竞争,固体表面高精密加工质量要求日益提高.化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,简称CMP)技术几乎是迄今唯一的可以提供全局平面化的表面精加工技术,可广泛用于集成电路芯片、计算机硬磁盘、微型机械系统(MEMS)、宝石类衬底、金属材料、光学玻璃等表面的平整化.该文综述了在微电子制造过程中CMP技术的重要性及该技术的机理和研究现状,指出了CMP技术在目前发展过程中存在的亟待解决的技术和理论问题,并对其发展方向进行了展望. 展开更多
关键词 固体表面 精密加工 化学机械抛光 平整化 微电子 抛光液
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平面连杆机构的杆组法运动分析及仿真 被引量:11
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作者 师忠秀 綦明正 程强 《青岛大学学报(工程技术版)》 CAS 2003年第4期22-26,共5页
为避免整体分析法复杂的建模和运算,将平面连杆机构视为由若干个基本杆组依次连接到原动件和机架上而构成。应用矩阵法对常见的基本杆组进行数学建模,在可视化语言VisualBasic6.0环境下建立相应的杆组位移、速度、加速度分析模块,开发... 为避免整体分析法复杂的建模和运算,将平面连杆机构视为由若干个基本杆组依次连接到原动件和机架上而构成。应用矩阵法对常见的基本杆组进行数学建模,在可视化语言VisualBasic6.0环境下建立相应的杆组位移、速度、加速度分析模块,开发了平面连杆机构运动分析的计算机辅助分析与仿真系统,实现了机构运动分析数值计算、机构运动线图自动绘制和机构运动动态仿真等计算机辅助可视化运动分析,并具有较强的通用性。最后以一平面四杆机构为例,介绍了该系统的使用方法。 展开更多
关键词 平面连杆机构 杆组法 运动分析 矩阵法 计算机辅助设计
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柠檬酸盐体系铜电沉积及其在微机电系统中的应用 被引量:7
14
作者 吴伟刚 杨防祖 +2 位作者 骆明辉 田中群 周绍民 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2010年第10期2625-2632,共8页
研究并讨论了在新型柠檬酸盐体系铜电沉积工艺中电镀工艺参数对镀层形貌和颗粒尺寸的影响;利用X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)表征了镀层的结构和组分存在状态;并将柠檬酸盐体系电沉积铜应用于微机电系统(MEMS)加工工艺.结果表明... 研究并讨论了在新型柠檬酸盐体系铜电沉积工艺中电镀工艺参数对镀层形貌和颗粒尺寸的影响;利用X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)表征了镀层的结构和组分存在状态;并将柠檬酸盐体系电沉积铜应用于微机电系统(MEMS)加工工艺.结果表明:在6 g.L-1 Cu2+,pH=7.0-8.5,1-2 A.dm-2,45℃,搅拌条件下可得到结晶细小,表面平整的致密铜镀层;镀层为面心立方多晶结构的单质铜,不含其他杂质.利用MEMS工艺成功制得平面电感,其有效的最大品质因数(Q)为12.75,达到了设计要求. 展开更多
关键词 电沉积 柠檬酸盐 镀层表征 平面电感 微机电系统
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基于网格变形技术的全附体潜艇操纵性计算 被引量:9
15
作者 孙铭泽 王永生 +1 位作者 张志宏 戴余良 《武汉理工大学学报(交通科学与工程版)》 2013年第2期420-424,共5页
通过求解瞬态雷诺时均方程和网格变形方程,实现了全附体潜艇平面运动机构试验(PMM)的虚拟仿真,得到潜艇模型所受的水动力分量随时间的变化曲线,依据线性理论求取水动力系数,并与试验值以及直线拖曳试验或回转试验的数值计算结果进行对比... 通过求解瞬态雷诺时均方程和网格变形方程,实现了全附体潜艇平面运动机构试验(PMM)的虚拟仿真,得到潜艇模型所受的水动力分量随时间的变化曲线,依据线性理论求取水动力系数,并与试验值以及直线拖曳试验或回转试验的数值计算结果进行对比.结果显示:PMM数值试验所求得的水动力系数与试验值吻合良好,其中,惯性类系数求解精度较高,除个别系数外,误差都在8%以内.而粘性类系数求解精度不如直线拖曳试验(ORT)或回转试验(RAT)计算精度高,个别系数的计算误差超过了30%.但从数值试验的整体效果来看,PMM数值试验计算精度达到了工程应用的要求. 展开更多
关键词 网格变形 潜艇操纵性 水动力系数 平面运动机构
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圆钢管空间相贯节点的实验研究 被引量:75
16
作者 陈以一 陈扬骥 +2 位作者 詹琛 林颍如 董明 《土木工程学报》 EI CSCD 北大核心 2003年第8期24-30,共7页
针对圆钢管空间相贯节点,进行了三种类型大尺寸足尺试件的试验。具体介绍了试件和加载方案的设计,提供了主要试验结果,并根据变形极限概念,提出了确定试件极限承载力的方法。对试件的破坏机理进行了分析,指出节点区焊缝刚度过大延性不... 针对圆钢管空间相贯节点,进行了三种类型大尺寸足尺试件的试验。具体介绍了试件和加载方案的设计,提供了主要试验结果,并根据变形极限概念,提出了确定试件极限承载力的方法。对试件的破坏机理进行了分析,指出节点区焊缝刚度过大延性不足的特征,可能阻碍钢管节点管壁极限强度的充分发挥。根据试验结果,对空间相贯节点强度计算公式作了初步探讨。 展开更多
关键词 钢管结构 空间相贯节点 足尺试验 破坏机理 极限承载力
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平面连杆机构的提升形态及稳定性分析 被引量:5
17
作者 蒋本卫 邓华 伍晓顺 《土木工程学报》 EI CSCD 北大核心 2010年第1期13-21,共9页
将"机构法"施工的柱面网壳简化为平面连杆机构,分析体系在提升过程中的运动形态。以吊索长度作为运动驱动的控制参数,将体系的提升过程看作为由一系列随控制参数变化的平衡构型组成。采用动力松弛法求解各吊索长度离散点所对... 将"机构法"施工的柱面网壳简化为平面连杆机构,分析体系在提升过程中的运动形态。以吊索长度作为运动驱动的控制参数,将体系的提升过程看作为由一系列随控制参数变化的平衡构型组成。采用动力松弛法求解各吊索长度离散点所对应的连杆机构平衡构型,从而实现提升过程的模拟。根据系统切线刚度矩阵的正定性条件,通过跟踪切线刚度矩阵最小特征值的变化来分析运动形态的稳定性。通过一个柱面网壳算例,考察了文中形态分析方法的计算精度和收敛性,分析了不同分段、不同吊索布置情况下体系的提升形态特征,并对影响运动形态稳定性的因素进行了讨论。 展开更多
关键词 平面连杆 机构 运动形态 施工分析 稳定性
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一类二阶非完整平面欠驱动机械系统位姿控制 被引量:26
18
作者 熊培银 赖旭芝 吴敏 《东南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期690-695,共6页
针对第2关节为被动的平面五连杆欠驱动机械系统,提出一种基于模型降阶的末端位姿控制策略.首先,建立系统数学模型,通过维持第1杆初始状态,将系统降阶为一阶非完整系统;其次,通过分阶段控制驱动杆角度,将系统降阶为3个具有完整约束的两... 针对第2关节为被动的平面五连杆欠驱动机械系统,提出一种基于模型降阶的末端位姿控制策略.首先,建立系统数学模型,通过维持第1杆初始状态,将系统降阶为一阶非完整系统;其次,通过分阶段控制驱动杆角度,将系统降阶为3个具有完整约束的两连杆子系统,并基于各子系统积分特性获得驱动杆与欠驱动杆之间的角度约束关系;然后,根据角度约束关系,利用粒子群优化算法计算系统末端位姿对应的各连杆角度;最后,基于李雅普诺夫函数分阶段设计系统控制律,实现系统从初始位姿到目标位姿的控制.仿真结果验证了所提控制策略的有效性. 展开更多
关键词 平面欠驱动机械系统 模型降阶 位姿控制 粒子群优化算法
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平面凸轮机构设计CAD系统开发 被引量:3
19
作者 王霜 殷国富 +1 位作者 罗中先 王应国 《煤矿机械》 北大核心 2006年第6期999-1000,共2页
用DELPHI 7.0开发了平面凸轮机构设计CAD系统(PCMCAD),数据库由Access 2000构建,以ADO方式进行数据读写。实现了对滚子和平底2类从动件的直动和摆动2种从动件运动方式,共4类平面凸轮机构的设计、运动分析与仿真。
关键词 凸轮 平面凸轮机构 CAD
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基于Arrhenius方程研究活性剂对铜CMP粗糙度的影响 被引量:6
20
作者 栾晓东 牛新环 +4 位作者 刘玉岭 闫辰奇 赵亚东 王仲杰 王辰伟 《微纳电子技术》 北大核心 2016年第12期822-827,共6页
选用非离子表面活性剂脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO),通过自制的碱性铜抛光液,在E460E机台上研究不同体积分数活性剂对铜化学机械抛光(CMP)效果的影响。利用原子力显微镜(AFM)观察抛光后铜表面粗糙度,采用接触角测试仪测试不同的抛光液在铜表... 选用非离子表面活性剂脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO),通过自制的碱性铜抛光液,在E460E机台上研究不同体积分数活性剂对铜化学机械抛光(CMP)效果的影响。利用原子力显微镜(AFM)观察抛光后铜表面粗糙度,采用接触角测试仪测试不同的抛光液在铜表面的接触角。结果表明:铜抛光速率随着活性剂体积分数的增加呈缓慢降低趋势,加入活性剂可显著降低抛光后铜表面粗糙度。当加入体积分数3.0%的活性剂时,铜抛光速率从678.096 nm/min降低到625.638 nm/min,同时铜表面粗糙度从10.52 nm降低到1.784 nm,接触角从28.33°降低到12.25°。活性剂分子优先吸附在抛光后铜表面形成一层分子膜,表面粗糙度降低的根本原因是该分子膜增加了化学反应的活化能以及提高了抛光液的润湿性。基于Arrhenius方程,从活化能和温度两个参数阐述活性剂降低铜表面粗糙度的机制。 展开更多
关键词 化学机械抛光(CMP) 非离子活性剂 表面粗糙度 活化能 接触角
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