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MOCVD法制备的p-ZnO/n-SiC异质结器件及其电致发光性能 被引量:2
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作者 史志锋 伍斌 +7 位作者 蔡旭浦 张金香 王辉 王瑾 夏晓川 董鑫 张宝林 杜国同 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期514-518,共5页
采用光辅助金属有机化学汽相沉积(PA-MOCVD)法在n-SiC(6H)衬底上制备出As掺杂的p型ZnO薄膜,并制备出相应的p-ZnO∶As/n-SiC异质结器件。X射线衍射(XRD)和光致发光(PL)测试表明,ZnO薄膜具有较好的结构和光学特性。电流-电压(I-V)测试结... 采用光辅助金属有机化学汽相沉积(PA-MOCVD)法在n-SiC(6H)衬底上制备出As掺杂的p型ZnO薄膜,并制备出相应的p-ZnO∶As/n-SiC异质结器件。X射线衍射(XRD)和光致发光(PL)测试表明,ZnO薄膜具有较好的结构和光学特性。电流-电压(I-V)测试结果表明,该型异质结器件具有良好的整流特性,开启电压为5.0 V,反向击穿电压约为-13 V。正向偏压下,器件的电致发光(EL)谱表现出两个分别位于紫外和可见光区域的发光峰,通过和ZnO、SiC的PL谱对照,证实异质结器件的发光峰来源于ZnO侧的辐射复合。 展开更多
关键词 As掺杂 p-zno/n-sic 电致发光 金属有机化学汽相沉积
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准三维纳米结构p-ZnO:Fe/n-GaN基自驱动紫外光电探测器
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作者 李海霞 王宇 +3 位作者 林威威 刘冰怡 张中原 刘阳 《武汉工程大学学报》 CAS 2021年第3期277-282,共6页
采用化学气相沉积(CVD)法成功制备了p-ZnO:Fe/n-GaN准三维纳米结构,并基于p-ZnO:Fe/n-GaN异质结制备了高性能的自驱动紫外光电探测器。微结构研究结果表明:Fe元素成功掺入ZnO纳米结构,使其转化为p型半导体。室温光致发光谱紫外光发射峰... 采用化学气相沉积(CVD)法成功制备了p-ZnO:Fe/n-GaN准三维纳米结构,并基于p-ZnO:Fe/n-GaN异质结制备了高性能的自驱动紫外光电探测器。微结构研究结果表明:Fe元素成功掺入ZnO纳米结构,使其转化为p型半导体。室温光致发光谱紫外光发射峰红移,表明p-ZnO:Fe纳米结构中形成了浅受主能级缺陷。由于p-n结的光伏效应,紫外光电探测器展示出自驱动响应特性。ZnO的p型掺杂造成的电荷传输距离缩短及其独特的准三维纳米结构,使得探测器展示出高的开关比和快速响应特性。在零偏压和-1 V偏压下,紫外光电探测器的电流开关比分别为58.3和92.0,上升和回复时间均小于10 ms。该高性能紫外光电探测器的成功研制可为纳米级光电开关的制备提供理论思路和技术指导。 展开更多
关键词 准三维纳米结构p-zno:Fe/n-GaN p-n异质结 紫外光电探测器 上升时间 回复时间
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注入剂量对离子注入法制备Al-N共掺杂P型ZnO的影响
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作者 杜记龙 江美福 +1 位作者 张树宇 王培君 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期42-45,16,共5页
采用射频磁控共溅射的方法制备出ZnO∶Al薄膜,以NO和O2为源气体(O2/O2+NO=75%)、等离子体浸没离子注入(PIII)方法在不同的工艺条件下得到了不同N+注入剂量的ZnO∶Al∶N薄膜,并在N2氛围下对样品进行了850℃退火处理。通过XRD图谱、霍尔效... 采用射频磁控共溅射的方法制备出ZnO∶Al薄膜,以NO和O2为源气体(O2/O2+NO=75%)、等离子体浸没离子注入(PIII)方法在不同的工艺条件下得到了不同N+注入剂量的ZnO∶Al∶N薄膜,并在N2氛围下对样品进行了850℃退火处理。通过XRD图谱、霍尔效应(Hall)测试结果、光致发光光谱(PL)、紫外-可见光透射光谱等对样品的结构和性能进行了分析,着重研究了N+注入剂量对ZnO∶Al∶N薄膜性质的影响。结果表明,注入剂量控制在1015cm-2量级时,N可以通过占据O空位和替换O原子形成NO并与Al和Zn成键,对于ZnO薄膜实现p型反转是很关键的。实现p型反转的ZnO∶Al∶N薄膜载流子浓度可达2.16×1016cm-3,电阻率为8.90Ω.cm,霍耳迁移率为32.4cm2/V.s。 展开更多
关键词 等离子体浸没离子注入 磁控溅射 共掺杂 p-zno
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Ni/Au与N掺杂p型ZnO的欧姆接触 被引量:5
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作者 王新 吕有明 +6 位作者 申德振 张振中 李炳辉 姚斌 张吉英 赵东旭 范希武 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期426-428,共3页
研究了Au,In,N i/Au三种不同金属膜与N掺杂p型ZnO的接触特性,发现N i/Au双层膜更适合作为其欧姆电极材料,并比较了不同气氛和不同温度退火对N i/Au电极的影响。发现在O2中退火电极性能发生蜕变,而在N2中退火性能得到改善。指出即使在N2... 研究了Au,In,N i/Au三种不同金属膜与N掺杂p型ZnO的接触特性,发现N i/Au双层膜更适合作为其欧姆电极材料,并比较了不同气氛和不同温度退火对N i/Au电极的影响。发现在O2中退火电极性能发生蜕变,而在N2中退火性能得到改善。指出即使在N2中退火,退火温度的选择也是至关重要的,本实验在400℃,氮气气氛下退火150 s,得到了较好的欧姆接触特性。 展开更多
关键词 p-zno NI/AU 欧姆接触 退火
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The p-type ZnO thin films obtained by a reversed substitution doping method of thermal oxidation of Zn_3N_2 precursors
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作者 李炳生 肖芝燕 +1 位作者 马剑刚 刘益春 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第11期1-14,共14页
P-type ZnO is crucial for the realization of ZnO-based homojunction ultraviolet optoelectronic devices. The problem associated with the preparation of stable p-type ZnO with high hole density still hinders device appl... P-type ZnO is crucial for the realization of ZnO-based homojunction ultraviolet optoelectronic devices. The problem associated with the preparation of stable p-type ZnO with high hole density still hinders device applications. In this paper,we introduce an alternative route to stabilizing N in the oxidation process, the thermal stability of p-ZnO is significantly improved. Finally, we discuss the limitations of the alternative doping method and provide some prospective outlook of the method. 展开更多
关键词 wide band gap semiconductor p-zno Zn3N2 thermal oxidation
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