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由pnp双极型晶体管和PMOS构成的CMOS负阻单元
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作者 陈乃金 郭维廉 +3 位作者 陈燕 王伟 张世林 毛陆虹 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2013年第2期158-161,198,共5页
使用pnp双极型晶体管和pMOS,按照正反馈产生负阻I-V特性的原理,采用CMOS工艺,设计研制成功CMOS负阻单元,并对它进行了实际的测试与验证,效果良好,而且可以用它作为基础性器件,构成与CMOS工艺相兼容的负阻型逻辑电路,比常规CMOS电路节省... 使用pnp双极型晶体管和pMOS,按照正反馈产生负阻I-V特性的原理,采用CMOS工艺,设计研制成功CMOS负阻单元,并对它进行了实际的测试与验证,效果良好,而且可以用它作为基础性器件,构成与CMOS工艺相兼容的负阻型逻辑电路,比常规CMOS电路节省大量器件。 展开更多
关键词 负阻单元 互补金属氧化物半导体 逻辑电路 双极晶体管 金属氧化物半导体场效应晶体管
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降低金属与n型Ge接触电阻方法的研究进展
2
作者 周志文 沈晓霞 李世国 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第1期10-15,31,共7页
Ge材料中n型杂质激活的电子浓度偏低,以及费米能级钉扎效应导致的金属与n型Ge接触电子势垒高度偏大,使金属与n型Ge接触电阻较大。基于Ge的材料特性,分析了缺陷对杂质浓度以及费米能级钉扎对电子势垒高度的影响;综述了提高Ge材料中n型掺... Ge材料中n型杂质激活的电子浓度偏低,以及费米能级钉扎效应导致的金属与n型Ge接触电子势垒高度偏大,使金属与n型Ge接触电阻较大。基于Ge的材料特性,分析了缺陷对杂质浓度以及费米能级钉扎对电子势垒高度的影响;综述了提高Ge材料中n型掺杂电子浓度的方法,如激光退火、磷和锑共掺、循环离子注入/退火、氟钝化等;讨论了降低金属与n型Ge接触电子势垒高度的途径,即插入薄的界面层形成金属-界面层-Ge接触。电子浓度的提高,以及电子势垒高度的降低,有效地减小了金属与n型Ge接触电阻。 展开更多
关键词 锗(Ge) n掺杂 金属-界面层-半导体接触 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET) 接触电阻
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电阻耦合型神经MOS晶体管及其差分四象限模拟乘法器
3
作者 王明宇 汤玉生 管慧 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2002年第2期158-163,共6页
电阻耦合型神经 MOS晶体管是在电容耦合 (浮栅 )型神经 MOS晶体管基础上提出来的 ,它克服了电容耦合型神经 MOS晶体管中由于电容耦合而产生的缺点。文中介绍了电阻耦合型神经 MOS晶体管的基本结构和特点 。
关键词 电阻耦合 神经MOS晶体管 差分四象限模拟乘法器 场效应 栅电压值 金属-氧化物-半导体晶体管
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高k金属栅NMOSFET器件阈值电压调控方法
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作者 刘城 王爱记 +2 位作者 刘自瑞 刘建强 毛海央 《微纳电子技术》 北大核心 2019年第1期13-19,25,共8页
实现对器件阈值电压的有效调控是高k金属栅(HKMG)技术面临的一项重要挑战。TiAl薄膜作为n型金属氧化物半导体场效应晶体管(NMOSFET)的功函数层被广泛地应用于HKMG结构中以实现对器件阈值电压的调控。实验采用射频(RF)-直流(DC)磁控溅射... 实现对器件阈值电压的有效调控是高k金属栅(HKMG)技术面临的一项重要挑战。TiAl薄膜作为n型金属氧化物半导体场效应晶体管(NMOSFET)的功函数层被广泛地应用于HKMG结构中以实现对器件阈值电压的调控。实验采用射频(RF)-直流(DC)磁控溅射的方式沉积TiAl薄膜,通过优化直流功率、射频功率和反应压强工艺参数,实现了对薄膜Ti/Al原子比率的调节,提高了Ti/Al原子比率分布均匀度。基于实验结果,采用后栅工艺流程制造HKMG NMOSFET,讨论不同的Ti/Al原子比率和TiAl层厚度对NMOSFET阈值电压的影响。Ti/Al原子比率增大10%,NMOSFET的阈值电压增加12.6%;TiAl层厚度增加2 nm,NMOSFET的阈值电压下降19.5%。这种方法已经被成功应用于HKMG器件的生产。 展开更多
关键词 高k金属栅(HKMG) 功函数层 磁控溅射 Ti/Al原子比率 阈值电压 n金属氧化物半导体场效应晶体管(nmosfet)
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安森美半导体推出能降低损耗的低压功率MOSFET新系列,以达到业界更高能效的需求
5
《电子设计工程》 2014年第11期133-133,共1页
推动高能效创新的安森美半导体(ONSemiconductor)推出新系列的6款N沟道金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET),它们经过设计及优化,提供领先业界能效,优于市场现有器件。
关键词 安森美半导体 功率MOSFET 金属氧化物半导体场效应晶体管 能效 新系 低损耗 低压 n沟道
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安森美半导体推出新的高密度沟槽MOSFET
6
《电子与电脑》 2009年第11期64-64,共1页
安森美半导体(ON Semiconductor)推出24款新的30伏(V)、N沟道沟槽(Trench)金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)。这些MOSFET采用DPAK、SO-8FL、8FL及SOIC-8封装.为计算机和游戏机应用中的同步降压转换器提供更高的开关性能。
关键词 MOSFET 安森美半导体 金属氧化物半导体场效应晶体管 沟槽 高密度 同步降压转换器 开关性能 n沟道
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GGNMOS叉指宽度与金属布线对ESD防护性能的影响 被引量:1
7
作者 梁海莲 董树荣 +2 位作者 顾晓峰 李明亮 韩雁 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2013年第2期194-198,共5页
栅接地NMOS(GGNMOS)器件具有与CMOS工艺兼容的制造优势,广泛用于静电放电(ESD)保护。鉴于目前GGNMOS的叉指宽度、叉指数及金属布线方式等外部因素对ESD鲁棒性的影响研究较少,设计了不同的实验对此开展对比分析。首先,基于0.5μm Bipolar... 栅接地NMOS(GGNMOS)器件具有与CMOS工艺兼容的制造优势,广泛用于静电放电(ESD)保护。鉴于目前GGNMOS的叉指宽度、叉指数及金属布线方式等外部因素对ESD鲁棒性的影响研究较少,设计了不同的实验对此开展对比分析。首先,基于0.5μm Bipolar-CMOS-DMOS(BCD)工艺设计并制备了一系列GGNMOS待测器件;其次,通过传输线脉冲测试,分析了叉指宽度与叉指数对GGNMOS器件ESD失效电流(It2)的影响,结果表明,在固定总宽度下适当减小叉指宽度有利于提高It2;最后,比较了平行式与交错式两种金属布线方案对It2的影响,结果表明,平行式金属布线下GGNMOS器件的ESD鲁棒性更好。 展开更多
关键词 栅接地n金属氧化物半导体场效应晶体管 静电放电 双极-互补金属氧化物半导体-双扩散金属氧化物半导体工艺 叉指 金属布线 失效电流
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热电子应力下nMOSFET中复合电流的退化特性研究
8
作者 陈海峰 《固体电子学研究与进展》 CSCD 北大核心 2017年第5期312-315,338,共5页
复合电流曲线面积S这一参数被引入来研究了热电子应力下n型金属氧化物半导体场效应晶体管(nMOSFET)中复合电流的退化特性。电子注入应力中,复合电流随着热电子应力后峰值变小并且曲线展宽。基于对S变化的分析,发现这种变化归因于热电子... 复合电流曲线面积S这一参数被引入来研究了热电子应力下n型金属氧化物半导体场效应晶体管(nMOSFET)中复合电流的退化特性。电子注入应力中,复合电流随着热电子应力后峰值变小并且曲线展宽。基于对S变化的分析,发现这种变化归因于热电子应力过程中,部分热电子占据了部分界面陷阱使得有效的界面态浓度Nit变小,同时另一部分注入进栅漏交叠区的氧化层中而使得有效的漏端电压UD增加。进一步发现,S的变化量△S与应力时间在双对数坐标下成线性关系:△S∝t^a,其中a=0.6。 展开更多
关键词 界面陷阱 复合电流 热电子应力 n金属氧化物半导体场效应晶体管
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耗尽型6H-SiC埋沟PMOSFET电流解析模型 被引量:1
9
作者 刘莉 杨银堂 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2006年第1期64-68,共5页
在考虑到杂质的不完全离化作用时,建立了SiC埋沟PMOSFET在发生表面多子耗尽时的电流解析模型。实验结果和模拟结果的一致性说明了此模型的准确性。在300~600K温度范围表面弱电场的条件下.由于杂质不完全离化作用得到充分体现.因此... 在考虑到杂质的不完全离化作用时,建立了SiC埋沟PMOSFET在发生表面多子耗尽时的电流解析模型。实验结果和模拟结果的一致性说明了此模型的准确性。在300~600K温度范围表面弱电场的条件下.由于杂质不完全离化作用得到充分体现.因此器件的工作状态有不同于常规模型下的特性;当温度升高时离化率的增大使得杂质的不完全离化作用得不到体现,所以文中模型的结果向常规模型的结果靠近.且都与实验结果接近。同时为了充分利用埋沟器件体内沟道的优势.对埋沟掺杂的浓度和深度也进行了合理的设计。 展开更多
关键词 碳化硅 埋沟P金属-氧化物-半导体场效应晶体管 不完全离化 表面耗尽
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一种新型低压功率MOSFET结构分析 被引量:6
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作者 姚丰 何杞鑫 方邵华 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第11期53-56,共4页
介绍了一种新型的低压功率MOSFET结构——Trench MOSFET。将其与常规VDMOS通过在 结构参数、电性能参数上的比较和分析,最终肯定了Trench MOSFET结构的优点。
关键词 垂直双扩散金属氧化物半导体 沟槽金属氧化物半导体场效应晶体管 器件仿真 导通电阻
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Halo注入角度对热载流子效应的影响及优化 被引量:2
11
作者 王兵冰 汪洋 +1 位作者 黄如 张兴 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期130-133,共4页
通过模拟和实验研究了不同的halo注入角度的NMOSFET,研究发现halo的注入角度越大,热载流子效应的退化越严重。考虑到由于热载流子的注入造成栅氧化层损伤,使器件可靠性变差,halo注入时应该采用小的倾角注入。
关键词 HALO 热载流子效应 短沟效应 漏感应势垒降低效应 n金属-氧化物-半导体场效应晶体管
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采用T型栅结构的高性能Ga2O3 MOSFET
12
作者 马灵 吕元杰 +2 位作者 刘宏宇 蔡树军 冯志红 《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第6期444-448,共5页
基于n型β-Ga2O3制备了具有T型栅结构的高性能Ga2O3金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)。采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法在Fe掺杂的半绝缘β-Ga2O3衬底上同质外延生长200 nm厚的Si掺杂n型β-Ga2O3沟道层,掺杂浓度为5×10^17 ... 基于n型β-Ga2O3制备了具有T型栅结构的高性能Ga2O3金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)。采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法在Fe掺杂的半绝缘β-Ga2O3衬底上同质外延生长200 nm厚的Si掺杂n型β-Ga2O3沟道层,掺杂浓度为5×10^17 cm^-3。器件采用栅长为1μm的T型栅结构,栅源间距为2μm,栅漏间距为18μm;采用原子层沉积(ALD)法生长的高介电常数氧化铪(HfO2)作为栅介质。研制的器件漏源饱和电流密度达到115.8 mA/mm,比导通电阻为52.82 mΩ·cm^2。T型栅结构有效抑制了Ga2O3沟道中的峰值电场强度,提升了器件的耐压特性;而高介电常数的HfO2介质有效降低了器件的漏电流,器件的击穿电压达到1953 V,开关比高达109,器件功率品质因子为77.2 MV/cm^2。 展开更多
关键词 氧化镓(Ga2O3) 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET) T 击穿电压 功率品质因子
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Effects of total dose irradiation on the threshold voltage of H-gate SOI NMOS devices 被引量:4
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作者 Qian-Qiong Wang Hong-Xia Liu +3 位作者 Shu-Peng Chen Shu-Long Wang Chen-Xi Fei Dong-Dong Zhao 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 2016年第5期193-199,共7页
This work researched the impact of total dose irradiation on the threshold voltage of N-type metal oxide semiconductor field effect transistors(nMOSFETs) in silicon-on-insulator(SOI) technology.Using the subthreshold ... This work researched the impact of total dose irradiation on the threshold voltage of N-type metal oxide semiconductor field effect transistors(nMOSFETs) in silicon-on-insulator(SOI) technology.Using the subthreshold separation technology,the factor causing the threshold voltage shift was divided into two parts:trapped oxide charges and interface states,the effects of which are presented under irradiation.Furthermore,by analyzing the data,the threshold voltage shows a negative shift at first and then turns to positive shift when irradiation dose is lower.Additionally,the influence of the dose rate effects on threshold voltage is discussed.The research results show that the threshold voltage shift is more significant in low dose rate conditions,even for a low dose of100 krad(Si).The degeneration value of threshold voltage is 23.4%and 58.0%for the front-gate and the back-gate at the low dose rate,respectively. 展开更多
关键词 阈值电压漂移 总剂量辐照 nMOS器件 SOI 金属氧化物半导体场效应晶体管 H 低剂量率 分离技术
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瑞萨电子新型智慧型功率装置锁定汽车应用
14
《中国集成电路》 2012年第5期61-61,共1页
瑞萨电子发表包括皿PD166023等十四款新型智慧型功率装置,专为汽车应用所设计,可用于驱动外部灯光如头灯与雾灯,以及座椅加热器与马达。IPD为整合于单一封装或单一晶片的功率IC装置,功率半导体开关(功率金属氧化物半导体场效应晶... 瑞萨电子发表包括皿PD166023等十四款新型智慧型功率装置,专为汽车应用所设计,可用于驱动外部灯光如头灯与雾灯,以及座椅加热器与马达。IPD为整合于单一封装或单一晶片的功率IC装置,功率半导体开关(功率金属氧化物半导体场效应晶体管及控制电路可作为微控制器的介面,并提供保护功能与自我诊断。瑞萨已多年大量生产适用于汽车车身应用的IPD,此新款IPD产品为延伸现有的产品系列,并提高性能等级以因应强大的市场需求。 展开更多
关键词 功率IC 汽车应用 智慧 金属氧化物半导体场效应晶体管 装置 电子 锁定 半导体开关
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NP74N04YUG、NP75N04YUG、NP75P03YDG等7款:功率MOSFET
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《世界电子元器件》 2010年第8期44-44,共1页
瑞萨电子推出包括NP74N04YUG、NP75N04YUG和NP75P03YDG等在内的7款功率MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)产品。
关键词 功率MOSFET 金属氧化物半导体场效应晶体管 nP74n04YUG nP75n04YUG nP75P03YDG
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水平结构氢终端金刚石MOSFET的研究进展
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作者 尹灿 邢艳辉 +4 位作者 张璇 张丽 于国浩 张学敏 张宝顺 《固体电子学研究与进展》 CAS 2024年第3期185-195,共11页
氢等离子体处理后的金刚石表面具有导电性,室温下二维空穴气(Two-dimensional hole gas,2DHG)面密度可达1013 cm-2,因此利用氢终端金刚石制备的场效应晶体管成为研究重点。本文基于金刚石优异的物理性质,介绍了两种氢终端金刚石2DHG的... 氢等离子体处理后的金刚石表面具有导电性,室温下二维空穴气(Two-dimensional hole gas,2DHG)面密度可达1013 cm-2,因此利用氢终端金刚石制备的场效应晶体管成为研究重点。本文基于金刚石优异的物理性质,介绍了两种氢终端金刚石2DHG的形成机理,以耗尽型氢终端金刚石MOSFET为例提出稳定2DHG及提高器件性能的方法,总结增强型氢终端金刚石MOSFET的三种实现方法,并综述氢终端金刚石功率器件研究现状、面临的问题以及对未来发展的展望。 展开更多
关键词 氢终端金刚石 二维空穴气 金属氧化物半导体场效应晶体管 耗尽 增强 金属氧化物
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1700V碳化硅MOSFET设计 被引量:4
17
作者 黄润华 陶永洪 +6 位作者 柏松 陈刚 汪玲 刘奥 卫能 李赟 赵志飞 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2014年第6期510-513,共4页
设计了一种击穿电压大于1 700V的SiC MOSFET器件。采用有限元仿真的方法对器件的外延掺杂浓度及厚度、有源区结构以及终端保护效率进行了优化。器件采用14μm厚、掺杂浓度为5×1015cm-3的N型低掺杂区。终端保护结构采用保护环结构... 设计了一种击穿电压大于1 700V的SiC MOSFET器件。采用有限元仿真的方法对器件的外延掺杂浓度及厚度、有源区结构以及终端保护效率进行了优化。器件采用14μm厚、掺杂浓度为5×1015cm-3的N型低掺杂区。终端保护结构采用保护环结构。栅压20V、漏压2V时,导通电流大于1A,击穿电压高于1 800V。 展开更多
关键词 4H碳化硅 金属氧化物半导体场效应晶体管 终端保护 界面态
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应变SiGe沟道PMOSFET亚阈值特性模拟 被引量:2
18
作者 屠荆 杨荣 +1 位作者 罗晋生 张瑞智 《电子器件》 EI CAS 2005年第3期516-519,523,共5页
通过简化的模型,对应变SiGe沟道PMOSFET及SiPMOSFET的亚阈值特性作出了简单的理论分析,然后用二维模拟器Medici进行了模拟和对比;研究了截止电流和亚阈值斜率随SiGePMOSFET垂直结构参数的变化关系。模拟结果同理论分析符合一致,表明应变... 通过简化的模型,对应变SiGe沟道PMOSFET及SiPMOSFET的亚阈值特性作出了简单的理论分析,然后用二维模拟器Medici进行了模拟和对比;研究了截止电流和亚阈值斜率随SiGePMOSFET垂直结构参数的变化关系。模拟结果同理论分析符合一致,表明应变SiGe沟道PMOSFET的亚阈值特性比SiPMOSFET更差,并且对垂直结构参数敏感,在器件设计时值得关注。 展开更多
关键词 应变锗硅 P金属-氧化物-半导体场效应晶体管 亚阈值特性 模拟
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杂质浓度对槽栅PMOSFET抗热载流子特性的影响 被引量:2
19
作者 任红霞 荆明娥 郝跃 《固体电子学研究与进展》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期174-180,共7页
基于流体动力学能量输运模型 ,利用二维仿真软件 Medici研究了深亚微米槽栅 PMOS器件衬底和沟道掺杂浓度对器件抗热载流子特性的影响 ,并从器件内部物理机理上对研究结果进行了解释。研究发现 ,随着沟道杂质浓度的提高 ,器件的抗热载流... 基于流体动力学能量输运模型 ,利用二维仿真软件 Medici研究了深亚微米槽栅 PMOS器件衬底和沟道掺杂浓度对器件抗热载流子特性的影响 ,并从器件内部物理机理上对研究结果进行了解释。研究发现 ,随着沟道杂质浓度的提高 ,器件的抗热载流子能力增强 ;而随着衬底掺杂浓度的提高 ,器件的抗热载流子性能降低。这主要是因为这些结构参数影响了电场在槽栅 MOS器件内的分布和拐角效应 。 展开更多
关键词 杂质浓度 槽栅PMOSFET 抗热载流子 深亚微米 P槽栅金属氧化物半导体场效应晶体管 拐角效应
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基于SiC和Si器件的燃料电池汽车DC-DC变换器的性能 被引量:3
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作者 周晓敏 马后成 高大威 《汽车安全与节能学报》 CAS CSCD 2017年第1期79-86,共8页
为实现燃料电池汽车输出电压、功率的调节与控制,采用了一种交错式双Boost电路的大功率直流-直流(DC-DC)变换器,其中应用了Si和SiC功率器件。基于电路损耗计算和效率仿真手段,对比分析了全SiC[金属-氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)器... 为实现燃料电池汽车输出电压、功率的调节与控制,采用了一种交错式双Boost电路的大功率直流-直流(DC-DC)变换器,其中应用了Si和SiC功率器件。基于电路损耗计算和效率仿真手段,对比分析了全SiC[金属-氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)器件、SiC二极管]、SiC MOSFET和Si二极管的混合器件和全硅Si[绝缘栅双极型晶体管(IGBT)器件、Si二极管]的变换器在电路损耗。结果表明:Si IGBT的开通和关断损耗约是SiC MOSFET的3倍和10倍,在不同工况下,全SiC变换器的转换效率比全Si变换器高1%~3.1%。因而,SiC功率器件在大功率DC-DC变换器的应用中,能够提高功率密度、可靠性和动力系统工作效率。 展开更多
关键词 燃料电池汽车 直流-直流(DC-DC)变换器 交错式双Boost电路 SiC金属-氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET) Si绝缘栅双极晶体管(IGBT) 电路损耗
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