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半导体硅上激光诱导化学沉积镍薄膜
被引量：
2
1
作者
刘冰
龚正烈
+3 位作者
姚素薇
郭鹤桐
袁华堂
张允什
《应用化学》
CAS
CSCD
北大核心
1999年第1期80-82,共3页
由于激光具有高能量密度、高单色性以及良好的相干性，在表面处理技术中的应用越来越广泛．在金属、半导体和高聚物基体上，从水溶液进行激光诱导的化学沉积引起了人们的极大注意，这种工艺在微电子电路及器件上有广泛的应用前景．与传...
由于激光具有高能量密度、高单色性以及良好的相干性，在表面处理技术中的应用越来越广泛．在金属、半导体和高聚物基体上，从水溶液进行激光诱导的化学沉积引起了人们的极大注意，这种工艺在微电子电路及器件上有广泛的应用前景．与传统的化学镀相比，它具有明显的优越性...
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关键词
激光诱导
化学沉积
半导体硅
镍薄膜
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职称材料
题名
半导体硅上激光诱导化学沉积镍薄膜
被引量：
2
1
作者
刘冰
龚正烈
姚素薇
郭鹤桐
袁华堂
张允什
机构
南开大学新能源材料化学研究所
郑州煤炭管理干部学院
天津大学化工学院
出处
《应用化学》
CAS
CSCD
北大核心
1999年第1期80-82,共3页
基金
国家自然科学基金
文摘
由于激光具有高能量密度、高单色性以及良好的相干性，在表面处理技术中的应用越来越广泛．在金属、半导体和高聚物基体上，从水溶液进行激光诱导的化学沉积引起了人们的极大注意，这种工艺在微电子电路及器件上有广泛的应用前景．与传统的化学镀相比，它具有明显的优越性...
关键词
激光诱导
化学沉积
半导体硅
镍薄膜
Keywords
laser induced electroless deposition
,
nickel
,
semiconductor silicon
分类号
TN305.2 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
半导体硅上激光诱导化学沉积镍薄膜
刘冰
龚正烈
姚素薇
郭鹤桐
袁华堂
张允什
《应用化学》
CAS
CSCD
北大核心
1999
2
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