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An improved ASM-HEMT model for kink effect on GaN devices
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作者 WANG Shuai CHENG Ai-Qiang +3 位作者 GE Chen CHEN Dun-Jun LIU Jun DING Da-Zhi 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期520-525,共6页
With the analysis of experiment and theory on GaN HEMT devices under DC sweep,an improved model for kink effect based on advanced SPICE model for high electron mobility transistors(ASM-HEMT)is pro⁃posed,considering th... With the analysis of experiment and theory on GaN HEMT devices under DC sweep,an improved model for kink effect based on advanced SPICE model for high electron mobility transistors(ASM-HEMT)is pro⁃posed,considering the relationship between the drain/gate-source voltage and kink effect.The improved model can not only accurately describe the trend of the drain-source current with the current collapse and kink effect,but also precisely fit different values of drain-source voltages at which the kink effect occurs under different gatesource voltages.Furthermore,it well characterizes the DC characteristics of GaN devices in the full operating range,with the fitting error less than 3%.To further verify the accuracy and convergence of the improved model,a load-pull system is built in ADS.The simulated result shows that although both the original ASM-HEMT and the improved model predict the output power for the maximum power matching of GaN devices well,the im⁃proved model predicts the power-added efficiency for the maximum efficiency matching more accurately,with 4%improved. 展开更多
关键词 ASM-HEMT DC current collapse kink effect
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Observation of Doppler shift f_(D) modulated by the internal kink mode using conventional reflectometry in the EAST tokamak
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作者 李恭顺 张涛 +18 位作者 耿康宁 文斐 叶凯萱 徐立清 朱翔 张学习 钟富彬 周振 杨书琪 周子强 喻琳 兰婷 王守信 提昂 张寿彪 刘海庆 李国强 高翔 the EAST Team 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第3期1-9,共9页
In this paper we present a new experimental observation using a conventional reflectometry technique,poloidal correlation reflectometry(PCR),in the Experimental Advanced Superconducting Tokamak(EAST).The turbulence sp... In this paper we present a new experimental observation using a conventional reflectometry technique,poloidal correlation reflectometry(PCR),in the Experimental Advanced Superconducting Tokamak(EAST).The turbulence spectrum detected by the PCR system exhibits an asymmetry and induced Doppler shift f_(D)during the internal kink mode(IKM)rotation phase.This Doppler shift f_(D)is the target measurement of Doppler reflectometry,but captured by conventional reflectometry.Results show that the Doppler shift f_(D)is modulated by the periodic changes in the effective angle between the probing wave and cutoff layer normal,but not by plasma turbulence.The fishbone mode and saturated long-lived mode are typical IKMs,and this modulation phenomenon is observed in both cases.Moreover,the value of the Doppler shift f_(D)is positively correlated with the amplitude of the IKM,even when the latter is small.However,the positive and negative frequency components of the Doppler shift f_(D)can be asymmetric,which is related to the plasma configuration.A simulated analysis is performed by ray tracing to verify these observations.These results establish a clear link between f_(D)and IKM rotation,and are helpful for studying the characteristics of IKM and related physical phenomena. 展开更多
关键词 microwave reflectometry Doppler shift internal kink mode
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等离子体压强对Line-tied扭曲不稳定性增长率和本征函数的影响 被引量:9
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作者 代玉杰 刘金远 王学慧 《核聚变与等离子体物理》 CAS CSCD 北大核心 2010年第4期306-311,共6页
应用半解析方法,研究了直圆柱位形下等离子体压强P0分别为P0=0、P0=常数和P0=f(r)时Line-tied扭曲不稳定性的增长率和二维径向本征函数的演化规律。结果表明,P0=0和P0=常数时的轴向波数k的范围相同,但P0=常数时的增长率比P0=0时的小。P0... 应用半解析方法,研究了直圆柱位形下等离子体压强P0分别为P0=0、P0=常数和P0=f(r)时Line-tied扭曲不稳定性的增长率和二维径向本征函数的演化规律。结果表明,P0=0和P0=常数时的轴向波数k的范围相同,但P0=常数时的增长率比P0=0时的小。P0=f(r)时的轴向波数k的范围和增长率则都比P0=0时的大,同时磁流体的速度变化也较大。因此,P0=f(r)更接近实际的物理模型(例如日冕的喷射问题)。 展开更多
关键词 等离子体 压强 扭曲 不稳定性增长率 径向本征函数 KINK 常数 半解析方法 轴向 演化规律 物理模型 速度变化 波数 磁流体 圆柱 问题 位形 日冕 喷射 结果
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SOI-NMOS场效应晶体管的Kink特性分析 被引量:1
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作者 李秀琼 M.Tack +2 位作者 E.Simoen C.Claeys G.Declerck 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第2期50-56,共7页
本文研究了在室温(RT)、液氮温度(LN)和液氮温度(LHe)下的SOI-NMOS场效应晶体管的电流—电压特性。研究的器件制作在二氧化硅上的经激光退火后的多晶硅薄膜体上。结果表明室温下带有薄膜引出端的晶体管的I_D—V_D特性曲线的Kink形状和... 本文研究了在室温(RT)、液氮温度(LN)和液氮温度(LHe)下的SOI-NMOS场效应晶体管的电流—电压特性。研究的器件制作在二氧化硅上的经激光退火后的多晶硅薄膜体上。结果表明室温下带有薄膜引出端的晶体管的I_D—V_D特性曲线的Kink形状和液氦下观测到的N-MOS场效应晶体管的Kink形状很类似。实验还表明Kink大小是液氮下比室温下大、液氦下比液氮下的大。应用电容效应,低温下载流子“冻结”机制和不同偏压下载流子产生和复合的物理过程分析可以相应地解释不同温度下Kink效应。 展开更多
关键词 场效应 晶体管 Kink特性 SOI-NMOS
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一种能抑制HBT Kink效应的新型复合管
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作者 滑育楠 梁聪 +2 位作者 高怀 杨立武 李贯平 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第7期669-672,共4页
介绍了GaAs异质结双极型晶体管(HBT)的Kink效应及其对宽带匹配的影响,并根据负反馈原理,提出了一种新型的HBT复合管结构。通过对该结构进行小信号分析和计算机软件仿真,该复合晶体管在整个测试频段内输出阻抗接近于一个简单的RC串联电... 介绍了GaAs异质结双极型晶体管(HBT)的Kink效应及其对宽带匹配的影响,并根据负反馈原理,提出了一种新型的HBT复合管结构。通过对该结构进行小信号分析和计算机软件仿真,该复合晶体管在整个测试频段内输出阻抗接近于一个简单的RC串联电路,并且输出电阻在很宽的频率范围内保持稳定。采用2μm InGaP/GaAs HBT半导体工艺技术流片测试,结果表明,在0.1-20 GHz(接近该HBT的截止频率)的频率范围内所提出的新型HBT复合管抑制了Kink效应并与理论分析结果及计算机仿真结果相吻合。采用该复合管作为宽带放大器的有源器件可以在很大程度上简化匹配电路的设计并且不会显著增加芯片面积和功耗。 展开更多
关键词 宽带匹配 KINK效应 S参数 异质结双极晶体管
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0.8μm PD SOI MOS器件研究 被引量:1
6
作者 肖志强 洪根深 张波 《电子与封装》 2005年第6期35-39,共5页
本文重点介绍了0.8μm PD SOI MOS器件的结构、KINK效应、热载流子效应和自加热效应等,并对这些特性从物理机理上进行了简要的阐述。
关键词 PD SOI KINK效应 热载流子效应 自加热效应
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Anomalous Laterally Stressed Kinetically Trapped DNA Surface Conformations
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作者 Valery V.Prokhorov Nikolay A.Barinov +3 位作者 Kirill A.Prusakov Evgeniy V.Dubrovin Maxim D.Frank-Kamenetskii Dmitry V.Klinov 《Nano-Micro Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2021年第8期263-280,共18页
Up to now,the DNA molecule adsorbed on a surface was believed to always preserve its native structure.This belief implies a negligible contribution of lateral surface forces during and after DNA adsorption although th... Up to now,the DNA molecule adsorbed on a surface was believed to always preserve its native structure.This belief implies a negligible contribution of lateral surface forces during and after DNA adsorption although their impact has never been elucidated.High-resolution atomic force microscopy was used to observe that stiff DNA molecules kinetically trapped on monomolecular films comprising one-dimensional periodically charged lamellar templates as a single layer or as a sublayer are oversaturated by sharp discontinuous kinks and can also be locally melted and supercoiled.We argue that kink/anti-kink pairs are induced by an overcritical lateral bending stress(>30 pNnm)inevitable for the highly anisotropic 1D-1D electrostatic interaction of DNA and underlying rows of positive surface charges.In addition,the unexpected kink-inducing mechanical instability in the shape of the template-directed DNA confined between the positively charged lamellar sides is observed indicating the strong impact of helicity.The previously reported anomalously low values of the persistence length of the surface-adsorbed DNA are explained by the impact of the surface-induced low-scale bending.The sites of the local melting and supercoiling are convincingly introduced as other lateral stress-induced structural DNA anomalies by establishing a link with DNA high-force mechanics.The results open up the study in the completely unexplored area of the principally anomalous kinetically trapped DNA surface conformations in which the DNA local mechanical response to the surface-induced spatially modulated lateral electrostatic stress is essentially nonlinear.The underlying rich and complex in-plane nonlinear physics acts at the nanoscale beyond the scope of applicability of the worm-like chain approximation. 展开更多
关键词 DNA surface conformations Kinetic trapping Lateral stress Periodically charged surface DNA kinks
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Kink效应对低温CMOS读出电路的影响 被引量:6
8
作者 刘文永 冯琪 丁瑞军 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2007年第B09期990-992,共3页
在深低温下(T<50K),CMOS器件会出现Kink效应,即I-V特性曲线会发生扭曲。当漏源电压较大时(Vds>4V),漏电流突然加大,电流曲线偏离正常的平方关系。本文通过实验表明,Kink效应对CMOS读出电路中的一些电路结构产生较严重的影响,Kink... 在深低温下(T<50K),CMOS器件会出现Kink效应,即I-V特性曲线会发生扭曲。当漏源电压较大时(Vds>4V),漏电流突然加大,电流曲线偏离正常的平方关系。本文通过实验表明,Kink效应对CMOS读出电路中的一些电路结构产生较严重的影响,Kink效应会导致源跟随器输出产生严重的非线性;对于共源放大器和两级运放,Kink效应会使其增益产生非线性。最后,针对影响低温读出电路性能的Kink效应进行分析和研究,提出在低温CMOS读出集成电路设计中如何解决这些问题的方案。 展开更多
关键词 KINK效应 CMOS读出电路 低温 非线性 宏模型
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5~12GHz新型复合管宽带功率放大器设计 被引量:2
9
作者 程华 严唯敏 +2 位作者 滑育楠 胡善文 高怀 《电子科技》 2010年第10期18-21,共4页
利用一种新型HBT复合晶体管结构设计了一款宽带功率放大器,有效抑制了HBT的大信号Kink效应。采用微波仿真软件AWR对电路结构进行了优化和仿真,结果显示,在5~12GHz频带内,复合晶体管结构的输出阻抗值更稳定,带宽得到有效扩展,最高增益达... 利用一种新型HBT复合晶体管结构设计了一款宽带功率放大器,有效抑制了HBT的大信号Kink效应。采用微波仿真软件AWR对电路结构进行了优化和仿真,结果显示,在5~12GHz频带内,复合晶体管结构的输出阻抗值更稳定,带宽得到有效扩展,最高增益达到11dB,带内波动<0.5dB,在9GHz工作频率时,其1dB压缩点处的输出功率为26dBm。 展开更多
关键词 宽带匹配 KINK效应 GAAS HBT 复合晶体管
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LDD工艺参数对多晶硅薄膜晶体管KINK效应的影响 被引量:1
10
作者 丁磊 许剑 +2 位作者 韩郑生 梅沁 钟传杰 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期173-177,共5页
利用Tsuprem4和Medici软件,研究了多晶硅薄膜晶体管的LDD掺杂参数,如掺杂剂量、离子注入能量对KINK效应的影响,得到了它们之间的关系。计算结果表明,随着LDD掺杂剂量的变化,KINK效应对器件的影响是非线性的且存在一个最小值,在掺杂为2&#... 利用Tsuprem4和Medici软件,研究了多晶硅薄膜晶体管的LDD掺杂参数,如掺杂剂量、离子注入能量对KINK效应的影响,得到了它们之间的关系。计算结果表明,随着LDD掺杂剂量的变化,KINK效应对器件的影响是非线性的且存在一个最小值,在掺杂为2×1012cm-2时达到最小。而LDD掺杂能量对KINK效应的影响是线性的,即随着离子注入能量的增加,KINK效应的影响变小。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 KINK效应 MEDICI Tsuprem4
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动态应力对AlGaN/GaN HEMT性能的影响 被引量:1
11
作者 刘琨 朱慧 +3 位作者 冯士维 石磊 张亚民 郭春生 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第8期626-630,共5页
AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)器件在实际应用过程中经常受到由于振动、热胀冷缩等原因引起的动态应力。为了研究动态应力对器件性能带来的影响,利用自主设计的应力机械装置对AlGaN/GaN HEMT芯片持续施加峰值大小为150 MPa,频率为3... AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)器件在实际应用过程中经常受到由于振动、热胀冷缩等原因引起的动态应力。为了研究动态应力对器件性能带来的影响,利用自主设计的应力机械装置对AlGaN/GaN HEMT芯片持续施加峰值大小为150 MPa,频率为3 Hz的交变应力。施加应力过程中,每隔一定的应力周期对器件进行电学特性测量,得到了不同应力周期下的输出特性曲线和转移特性曲线。研究分析了随着应力周期的增加输出电流和跨导的变化,研究结果表明,器件的输出电流和跨导随着施加动态应力周期的增加而减小。随着动态应力的加载,器件将产生缺陷,是器件发生退化的原因。 展开更多
关键词 AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT) 交变应力 电学特性 KINK效应 缺陷
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多晶硅薄膜晶体管kink效应的建模 被引量:1
12
作者 陈婷 李斌 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 2008年第6期222-224,228,共4页
从kink效应产生的物理机理出发,介绍了目前国内外研究多晶硅薄膜晶体管kink电流所采用的两种主要方法.一种是基于面电荷的方法,另一种是基于求雪崩倍增因子的方法.kink效应具体表现为器件在饱和区跨导和漏电流的显著增加.在数字电路中,k... 从kink效应产生的物理机理出发,介绍了目前国内外研究多晶硅薄膜晶体管kink电流所采用的两种主要方法.一种是基于面电荷的方法,另一种是基于求雪崩倍增因子的方法.kink效应具体表现为器件在饱和区跨导和漏电流的显著增加.在数字电路中,kink效应会引起功耗的增加和开关特性的退化;而在模拟电路中,kink效应将降低最大增益和共模抑制比.因此,多晶硅薄膜晶体管kink效应的研究对液晶显示的发展具有重大意义. 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 KINK效应 面电荷 倍增因子
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多晶硅薄膜晶体管Kink效应研究与建模
13
作者 陈荣盛 郑学仁 +3 位作者 邓婉玲 姚若河 吴朝晖 吴为敬 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第3期231-234,共4页
多晶硅薄膜晶体管(P-Si TFTs)技术在SOP(system on panel)显示应用中发挥着越来越重要的作用。随着尺寸的不断缩小,P-Si TFT的Kink效应越来越明显,对有源液晶显示矩阵和驱动电路的性能影响很大。对发生Kink效应的物理机制、二维数值仿... 多晶硅薄膜晶体管(P-Si TFTs)技术在SOP(system on panel)显示应用中发挥着越来越重要的作用。随着尺寸的不断缩小,P-Si TFT的Kink效应越来越明显,对有源液晶显示矩阵和驱动电路的性能影响很大。对发生Kink效应的物理机制、二维数值仿真及其一维解析模型进行了分析,讨论了晶粒边界、沟道长度与Kink效应的关系,提出建立适合电路仿真的一维解析模型的关键与展望。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 KINK 效应 建模
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对异型硅岛实现的厚膜全耗尽SOI MOSFET的模拟研究
14
作者 杨胜齐 何进 +1 位作者 黄如 张兴 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第11期1605-1608,共4页
本文提出了用异型硅岛实现的厚膜全耗尽 (FD)SOIMOSFET的新结构 ,并分析了其性能与结构参数的关系 .通过在厚膜SOIMOSFET靠近背栅的界面形成一个相反掺杂的硅岛 ,从而使得厚膜SOIMOSFET变成全耗尽器件 .二维模拟显示 ,通过对异型硅岛的... 本文提出了用异型硅岛实现的厚膜全耗尽 (FD)SOIMOSFET的新结构 ,并分析了其性能与结构参数的关系 .通过在厚膜SOIMOSFET靠近背栅的界面形成一个相反掺杂的硅岛 ,从而使得厚膜SOIMOSFET变成全耗尽器件 .二维模拟显示 ,通过对异型硅岛的宽度、厚度、掺杂浓度以及在沟道中位置的分析与设计 ,厚膜SOIMOSFET不仅实现了全耗尽 ,从而克服了其固有的Kink效应 ,而且驱动电流也大大增加 ,器件速度明显提高 ,同时短沟性能也得到改善 .模拟结果证明 :优化的异型硅岛应该位于硅膜的底部中央处 ,整个宽度约为沟道长度的五分之三 ,厚度大约等于硅膜厚度的一半 ,掺杂浓度只要高出硅膜的掺杂浓度即可 .重要的是 ,异型硅岛的设计允许其厚度、宽度、掺杂浓度以及位置的较大波动 .可以看出 。 展开更多
关键词 异型硅岛 厚膜全耗尽SOI KINK效应 集成电路 厚膜器件
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Effect of the Plasma Pressure on Magnetohydrodynamic Kink Instability in a Cylindrical Geometry 被引量:10
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作者 代玉杰 刘金远 王学慧 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第3期269-273,共5页
A semi-analytical method is introduced to study kink instability in cylindrical plasma with line-tied boundary conditions. The method is based on an expansion for magnetohydrodynamics (MHD) equations in one-dimensio... A semi-analytical method is introduced to study kink instability in cylindrical plasma with line-tied boundary conditions. The method is based on an expansion for magnetohydrodynamics (MHD) equations in one-dimensional (1D) radial eigenvalue problems by using Fourier transforms. The MHD equations then become an ordinary differential equation. This method is applicable to both ideal and non-ideal MHD problem. The effect of plasma pressure (P0) on kink instability is studied in a cylindrical geometry. Complex discrete spectra are pre- sented. Two-dimensional (2D) eigenfunctions with the line-tied boundary conditions are obtained. The growth rate and radial eigenfunctions are different in the two cases of P0 = 0 and P0 ≠ 0, which indicate that the effect of plasma pressure can not be ignored if it is large enough. This method allows us to understand the role of individual radial eigenfunctions, and is also computationally efficient compared to direct solutions of the MHD equations by the finite difference method. 展开更多
关键词 plasma pressure Fourier transforms MHD kink instability
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SOI/MOSFET Kink效应的模拟和分析
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作者 王晓晖 汤庭鳌 +2 位作者 郑大卫 黄宜平 C.A.Pazde Araujo 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1993年第3期228-232,共5页
非全耗尽SOI/MOS晶体管由于存在“Kink效应”而限制了它的应用范围。本文考虑了沟道夹断区的碰撞电离和横向寄生晶体管效应,对浮置衬底SOI/nMOS晶体管的电流—电压特性曲线进行了理论计算,讨论了Kink效应的产生机理。计算结果与实验符... 非全耗尽SOI/MOS晶体管由于存在“Kink效应”而限制了它的应用范围。本文考虑了沟道夹断区的碰撞电离和横向寄生晶体管效应,对浮置衬底SOI/nMOS晶体管的电流—电压特性曲线进行了理论计算,讨论了Kink效应的产生机理。计算结果与实验符合甚好。对器件参数的分析可以定性地指导抑制Kink效应的器件优化设计。 展开更多
关键词 SOI结构 MOS场效应管 KINK效应
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部分耗尽型SOI CMOS模拟电路设计研究
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作者 尹雪松 姜凡 刘忠立 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第4期54-57,共4页
介绍了部分耗尽型 SOI MOS 器件浮体状态下的 Kink 效应及对模拟电路的影响。阐述了 4 种常用体接触方式及其他消除部分耗尽型 SOI MOS 器件 Kink 效应的工艺方法,同时给出了部分耗尽型 SOIM O S F E T 工作在浮体状态下时模拟电路... 介绍了部分耗尽型 SOI MOS 器件浮体状态下的 Kink 效应及对模拟电路的影响。阐述了 4 种常用体接触方式及其他消除部分耗尽型 SOI MOS 器件 Kink 效应的工艺方法,同时给出了部分耗尽型 SOIM O S F E T 工作在浮体状态下时模拟电路的设计方法。 展开更多
关键词 部分耗尽型SOI 模拟电路 KINK效应 体接触 共源共栅
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SOI器件的kink效应研究
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作者 王青松 彭宏伟 +3 位作者 黄天 杨正东 朱少立 徐大为 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2022年第3期225-229,共5页
研究了SOI器件中的kink效应,主要包括不同器件类型、不同体接触结构、沟道长度以及栅氧厚度对kink效应的影响。研究发现NMOS器件由于能够产生较多的电子空穴对,在输出特性曲线中呈现明显的kink效应,而PMOS器件由于空穴的电离率较低,碰... 研究了SOI器件中的kink效应,主要包括不同器件类型、不同体接触结构、沟道长度以及栅氧厚度对kink效应的影响。研究发现NMOS器件由于能够产生较多的电子空穴对,在输出特性曲线中呈现明显的kink效应,而PMOS器件由于空穴的电离率较低,碰撞电离产生的电子-空穴对远低于NMOS器件,它的kink效应不明显。对源体短接、H型栅和T型栅三种不同结构的NMOS器件进行研究,发现T型栅器件kink效应最明显。比较了不同沟道长度对kink效应的影响,发现沟道越短,kink效应越明显。比较了栅氧厚度对kink效应的影响,发现随着栅氧厚度减小,kink效应越明显,这主要是由于隧穿电流引起的。 展开更多
关键词 SOI器件 KINK效应 I-V特性
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Three-Dimensional Simulation of Plasma Deformation During Contact Opening in a Circuit Breaker,Including the Analysis of Kink Instability and Sausage Instability 被引量:3
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作者 Vahid ABBASI Ahmad GHOLAMI Kaveh NIAYESH 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第11期996-1001,共6页
A three-dimensional (3-D) transient model has been developed to investigate plasma deformation driven by a magnetic field and its influence on arc stability in a circuit breaker. The 3-D distribution of electric cur... A three-dimensional (3-D) transient model has been developed to investigate plasma deformation driven by a magnetic field and its influence on arc stability in a circuit breaker. The 3-D distribution of electric current density is obtained from a current continuity equation along with the generalized Ohm's law; while the magnetic field induced by the current flowing through the arc column is calculated by the magnetic vector potential equation. When gas interacts with an arc column, fundamental factors, such as Ampere's law, Ohm's law, the turbulence model, transport equations of mass, momentum and energy of plasma flow, have to be coupled for aria- lyzing the phenomenon. The coupled interactions between arc and plasma flow are described in the fl'amework of time-dependent magnetohydrodynamic (MHD) equations in conjunction with a K-~ turbulence model. Simulations have been focused on sausage and kink instabilities in plasma (these phenomena are related tO pinch effects and electromagnetic fields). The 3-D sjm- ulation reveals the relation between plasma deformation and instability phenomena, which affect arc stability during circuit breaker operation. Plasma deformation is the consequence of coupled interactions between the electromagnetic force and plasma flow described in simulations. 展开更多
关键词 magnetohydrodynamic (MHD) plasma deformation electromagnetic force kink instability sausage instability
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An improved EEHEMT model for kink effect on AlGaN/GaN HEMT 被引量:2
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作者 曹梦逸 卢阳 +5 位作者 魏家行 陈永和 李卫军 郑佳欣 马晓华 郝跃 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第8期452-456,共5页
In this paper, a new current expression based on both the direct currect (DC) characteristics of the A1GaN/GaN high election mobility transistor (HEMT) and the hyperbolic tangent function tanh is proposed, by whic... In this paper, a new current expression based on both the direct currect (DC) characteristics of the A1GaN/GaN high election mobility transistor (HEMT) and the hyperbolic tangent function tanh is proposed, by which we can describe the kink effect of the A1GaN/GaN HEMT well. Then, an improved EEHEMT model including the proposed current expression is presented. The simulated and measured results of Ⅰ-Ⅴ, S-parameter, and radio frequency (RF) large-signal characteristics are compared for a self-developed on-wafer A1GaN/GaN HEMT with ten gate fingers each being 0.4-μm long and 125-p-m wide (Such an A1GaN/GaN HEMT is denoted as A1GaN/GaN HEMT (10 × 125 μm)). The improved large signal model simulates the Ⅰ-Ⅴ characteristic much more accurately than the original one, and its transconductance and RF characteristics are also in excellent agreement with the measured data. 展开更多
关键词 A1GaN/GaN HEMT kink effect tanh EEHEMT model
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