期刊文献+
共找到1,306篇文章
< 1 2 66 >
每页显示 20 50 100
STUDIES ON ION BEAM APPLICATION TO IMPROVE AQUATIC MACROPHYTE REMEDIATION CAPACITY IN EUTROPHIC WATERS
1
作者 LI Miao1, WU Yue-Jin 1, ZHANG Jun 1, YU Han-Qing 2, WU Xiao-Lei 3 and YU Zeng-Liang 1 (1. Key Laboratory of Ion Beam Bioengineering, Institute of Plasma Physics, the Chinese Academy of Sciences, Hefei, China 230031 2. School of Chemistry and Material Science, the University of Science and Technology of China, Hefei, China 230026 3. Department of Environmental Science and Engineering, Tsinghua University, Beijing, China 100084 ) 《水生生物学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第6期711-717,共7页
Using ion beam biotechnology in combination with soil-less plant cultivation on artificial substratum (floating beds), the experiments were conducted with Ipomoea aquatica Forsk. Plants were attached to floating-beds ... Using ion beam biotechnology in combination with soil-less plant cultivation on artificial substratum (floating beds), the experiments were conducted with Ipomoea aquatica Forsk. Plants were attached to floating-beds which were placed on the surface of artificially nutrient-enriched tank water, in order to study the purification and remediation efficiency of ion beam-treated I. aquatica cultivars. The results show that N + ion beams with 25keV energy and dosages of 0, 2.6, 3.9, 5.2, 6.5, 7.8, 9.1×10 13N +(ions)/cm 2 affected I. aquatica dry seeds differently, with the dose of 3.9×10 13N + (ions)/cm 2 improving effectively the performance as expressed by various biological indices. After ion beam application, I. aquatica cultivars grew well in nutrient-enriched water bodies, increasing the growth of leaves and stem, number of leaves, length and area of roots, plant height, and weight more remarkably than observed in the control. The net removing rates of TN, TP were as high as 75% and 82%, respectively. Especially under the dose of 3.9×10 13N +(ions)/cm 2, the net removing rates of TN, TP were highest, for 77% and 85%, respectively. It was proved that ion beam application improves phytoremediation and may be used to purify nutrient rich water bodies. 展开更多
关键词 ion beam treatment Aquatic macrophyte Ipomoea aquatica Forsk Nutrient-enriched waters Remediation capacity
在线阅读 下载PDF
High temperature cyclic oxidation behavior of Y_2O_3-ZrO_2 thermal barrier coatings irradiated by high-intensity pulsed ion beam
2
作者 王一奇 雷明凯 +1 位作者 AFSAR A M SONG J I 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS 2009年第1期13-17,共5页
The high-temperature oxidation resistance behavior of 7% (mass fraction) Y203-ZrO2 thermal barrier coatings (TBCs) irradiated by high-intensity pulsed ion beam (HIPIB) was investigated under the cyclic oxidation... The high-temperature oxidation resistance behavior of 7% (mass fraction) Y203-ZrO2 thermal barrier coatings (TBCs) irradiated by high-intensity pulsed ion beam (HIPIB) was investigated under the cyclic oxidation condition of 1 050 ℃ and 1 h. The columnar grains in the TBCs disappear after the HIPIB irradiation at ion current densities of 100-200 A/cm^2 and the irradiated surface becomes smooth and densified after remelting and ablation due to the HIPIB irradiation. The thermally grown oxide (TGO) layer thickness of the irradiated TBCs is smaller than that of the original TBCs. After 15 cycles, the mass gains of the original TBCs and those irradiated by ion current densities of 100 and 200 A/cm^2 due to the oxidation are found to be 0.8-0.9, 0.6-0.7, and 0.3-0.4 mg/cm^2, respectively. The inward diffusion of oxygen through the irradiated TBCs is significantly impeded by the densified top layer formed due to irradiation, which is the main reason for the improved overall oxidation resistance of the irradiated TBCs. 展开更多
关键词 Y2O3 ZRO2 thermal barrier coating high-intensity pulsed ion beam electron beam physical vapor deposition oxidation resistance cyclic oxidation
在线阅读 下载PDF
离子束加工镍单晶原子级去除行为与表面损伤机制研究
3
作者 李晓静 王泽骜 +2 位作者 秦胜建 高永亮 王林 《表面技术》 北大核心 2025年第22期129-140,共12页
目的模拟氩(Ar)离子束溅射单晶镍(Ni)的行为,分析其原子级结构演变规律,揭示金属Ni的去除机制及表面与亚表面损伤机制。方法采用分子动力学(MD)方法,模拟不同溅射能量(600 eV、1000 eV和1400 eV)、剂量(1.5625×10^(13)ions/cm^(2)... 目的模拟氩(Ar)离子束溅射单晶镍(Ni)的行为,分析其原子级结构演变规律,揭示金属Ni的去除机制及表面与亚表面损伤机制。方法采用分子动力学(MD)方法,模拟不同溅射能量(600 eV、1000 eV和1400 eV)、剂量(1.5625×10^(13)ions/cm^(2)和3.1250×10^(13)ions/cm^(2))及入射角度(30°、45°、60°、75°和90°)下,Ar离子束溅射单晶金属Ni(001)表面过程。基于原子级微结构表征,系统分析溅射能量、剂量及角度对Ni(001)表面损伤形貌、应变分布以及溅射产额的影响规律,阐明其表面损伤机制和原子去除机制。结果Ar离子束溅射在Ni(001)面溅射核心区域形成凹坑与表面原子堆积,并在亚表面诱发非晶原子团簇及{111}面层错等损伤结构;伴随结构缺陷的产生,核心溅射区域产生应变集中。凹坑面积、表面堆积原子数、非晶团簇原子比例、层错原子比例、亚表面损伤深度和应变均随溅射能量和剂量的增加而增大;其中60°入射角下产生的表面及亚表面损伤最为显著。溅射产额亦随溅射能量和剂量的增加而升高;30°入射角下因独特的“铲削效应”,溅射产额达到最高;应变集中和层错在后续温度平衡过程中逐渐消失。结论离子束加工条件(能量、剂量、角度)对单晶Ni表面及亚表面损伤具有显著影响。损伤程度随溅射能量和离子剂量的增加而加剧;60°入射角时损伤最显著,而30°入射角下原子去除效率最高。本研究为实验优化离子束加工工艺提供了理论依据。 展开更多
关键词 离子束加工 单晶 表面损伤 溅射产额 分子动力学
在线阅读 下载PDF
离子束抛光对单晶硅表面质量影响的分子动力学模拟研究
4
作者 赵仕燕 郭海林 +6 位作者 黄思玲 张旭 夏超翔 王大森 聂凤明 裴宁 李晓静 《原子与分子物理学报》 CAS 北大核心 2025年第6期113-121,共9页
离子束抛光作为一种超精密加工技术,被应用于材料表面抛光的精抛阶段,而其原子量级的去除效果使得它的加工过程与加工效果难以直接观察,因此为了能够从微观尺度研究离子束抛光的加工效果以及加工参数对材料表面粗糙度与表面损伤的影响,... 离子束抛光作为一种超精密加工技术,被应用于材料表面抛光的精抛阶段,而其原子量级的去除效果使得它的加工过程与加工效果难以直接观察,因此为了能够从微观尺度研究离子束抛光的加工效果以及加工参数对材料表面粗糙度与表面损伤的影响,提出使用分子动力学模拟的方法研究离子束抛光过程,通过对氩离子轰击单晶硅的仿真模拟,分析加工参数对单晶硅表面粗糙度与晶格损伤的影响规律,指导实际的加工工艺设计.研究发现,在不同加工角度下,离子剂量对于表面粗糙度的影响规律不同,低角度(0°~40°)低剂量以及高角度(>50°)高剂量的加工有助于达到较低的表面粗糙度;随着加工角度的增加,离子束对晶体表面造成的损伤逐渐减少,当加工角度大于40°时能够大幅度减少晶格损伤.模拟结果显示在实际的离子束抛光过程中,为了得到高质量的表面,应该采取高角度高剂量的加工方式以达到既降低材料表面粗糙度又减小对材料表面晶格产生损伤的目的. 展开更多
关键词 离子束抛光 表面质量 分子动力学 单晶硅 加工角度
在线阅读 下载PDF
负氦离子束产生技术研究
5
作者 陈浩南 崔保群 +9 位作者 唐兵 陈立华 马瑞刚 马鹰俊 马燮 张一帆 赵建革 王云峰 杨超 于荣凯 《原子能科学技术》 北大核心 2025年第1期205-212,共8页
串列加速器可产生MeV级的正离子束,其中He离子束可用于离子束分析、离子注入等实验研究和工业应用,是串列加速器不可或缺的一种离子束流。串列加速器要求负离子注入,负氦离子束是串列加速器产生MeV级He离子束的关键。由于基态He原子电... 串列加速器可产生MeV级的正离子束,其中He离子束可用于离子束分析、离子注入等实验研究和工业应用,是串列加速器不可或缺的一种离子束流。串列加速器要求负离子注入,负氦离子束是串列加速器产生MeV级He离子束的关键。由于基态He原子电子亲合能小于0,无法直接在离子源中产生和引出He-离子束,只能通过连续两次的电荷交换产生,所以He^(-)离子束被认为是最难产生的负离子束之一。针对串列加速器He^(-)离子的注入需求,研究设计了一款负氦离子源,使用多峰会切场离子源电离产生He^(+)离子,注入电荷交换器中,通过电荷交换产生He^(-)离子束。模拟了多峰会切场离子源的磁场位形和粒子轨迹,验证了多峰场构型对电子约束的作用,能维持离子源稳定放电。设计了电荷交换器结构,考虑了热平衡状态时的温度分布,确保了金属Cs作为电荷交换介质的长期稳定运行。基于中国原子能科学研究院1.7 MV串列加速器低能束流线平台开展了产生负氦离子束的实验,优化了离子束的聚焦传输参数,测量了电荷交换器工作温度和He^(+)离子注入能量对He^(-)离子产率的影响。实验中测得最大He^(-)离子产率为1.76%±0.03%,调节离子源放电参数得到了最大1.5μA的He^(-)离子束流,基本满足串列加速器的注入需求。后续进一步改进离子源,增强放电强度,提高引出He^(+)离子流强,有望进一步提升He^(-)离子流强。该研究为国产负氦离子源的发展提供了重要技术支持,对实现串列加速器技术的自主可控具有重要意义。 展开更多
关键词 负氦离子束 离子源 电荷交换 负氦离子产率
在线阅读 下载PDF
基于M1TDS靶向筛选技术的重离子束诱变定向改良杂交水稻卓两优1126性状的研究
6
作者 韶也 胡远艺 +16 位作者 彭彦 毛毕刚 刘慧敏 唐婵娟 雷斌 唐丽 余丽霞 李文建 罗武中 罗治斌 袁远涛 李曜魁 张丹 周利斌 柏连阳 唐文帮 赵炳然 《中国水稻科学》 北大核心 2025年第5期624-634,共11页
【目的】以两系杂交水稻卓两优1126为“底盘品种”,快速创制具有镉低积累、香味、耐储藏、耐淹、低升糖指数等性状的改良品种。【方法】12C6+碳离子束诱变卓两优1126亲本卓234S和湘农恢1126,利用M1TDS技术从诱变M1群体中鉴定OsNRAMP5、O... 【目的】以两系杂交水稻卓两优1126为“底盘品种”,快速创制具有镉低积累、香味、耐储藏、耐淹、低升糖指数等性状的改良品种。【方法】12C6+碳离子束诱变卓两优1126亲本卓234S和湘农恢1126,利用M1TDS技术从诱变M1群体中鉴定OsNRAMP5、OsBADH2、OsLOX3、OsPAO5、OsSSIIIa和OsBEIIb基因嵌合突变株,通过KASP分型从诱变M2群体中鉴定分离目标基因纯合(杂合)突变株,利用OsNRAMP5突变亲本配制OsNRAMP5突变组合。【结果】从重离子束诱变M1群体中鉴定到13株为5个目标基因突变的嵌合突变株,其中7个M2株系中鉴定到目标基因的纯合或杂合突变;OsNRAMP5纯合突变株镉含量较原始亲本显著降低,OsBADH2纯合突变株香味特征化合物2-乙酰基吡咯啉(2-AP)含量较原始亲本显著上升;OsNRAMP5基因突变亲本配制的组合,在镉污染土(土壤有效镉含量0.677 mg/kg,pH 5.6)盆栽种植,其籽粒镉含量为0.05 mg/kg,而原始组合为0.91 mg/kg。【结论】利用“重离子束诱变+M1TDS技术”实现了卓两优1126镉低积累等性状的快速改良,为生物传统诱变育种进化到定向诱变育种提拱了成功案例和共性技术参考。 展开更多
关键词 水稻 重离子束诱变育种 镉低积累 香味
在线阅读 下载PDF
原位TEM双离子束辐照钨的位错环演化研究
7
作者 马鹏飞 刘艳 +5 位作者 曹留烜 张亚培 李修锐 田文喜 秋穗正 苏光辉 《原子能科学技术》 北大核心 2025年第4期874-883,共10页
钨由于在高温下具有优良的抗辐照性能而被认为可应用于聚变堆中面向等离子体材料(PFM,plasma-facing material)。聚变堆中产生大量热负荷和中子以及氢氦气体原子使钨的应用面临苛刻的环境考验。为了进一步探究钨应用于PFM时辐照损伤剂... 钨由于在高温下具有优良的抗辐照性能而被认为可应用于聚变堆中面向等离子体材料(PFM,plasma-facing material)。聚变堆中产生大量热负荷和中子以及氢氦气体原子使钨的应用面临苛刻的环境考验。为了进一步探究钨应用于PFM时辐照损伤剂量对其辐照性能的影响机制,本文采用Kr^(+)&He^(+)双离子束以不同的辐照损伤剂量对钨进行辐照。通过原位TEM观察辐照损伤剂量对<100>和1/2<111>位错环的演化现象影响,并对其演化进行量化分析。结果表明,辐照损伤剂量的增加导致1/2<111>位错环生成与长大以及<100>位错环消失。Kr^(+)&He^(+)双离子束辐照下,<100>位错环的增殖与湮灭对钨的机械性能产生重大影响。本文深化了对钨的辐照损伤研究,为钨在聚变堆中的应用提供基础。 展开更多
关键词 面向等离子体材料 双离子束辐照 原位TEM 位错环
在线阅读 下载PDF
用于星载甲烷成像光谱仪的高衍射效率棱镜光栅(封面文章·特邀)
8
作者 刘全 周能华 +4 位作者 王可欣 陈志伟 杨子江 潘俏 陈新华 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第5期1-7,共7页
棱镜光栅是星载甲烷成像光谱仪的重要分光元件,与传统光栅不同的是,棱镜光栅的槽形是将光栅浸没于高折射率介质中,由于光栅槽形嵌入在高折射率介质中,使得光栅的角色散和分辨率都提高了n倍,其中n是高折射率介质的折射率。相比于传统光栅... 棱镜光栅是星载甲烷成像光谱仪的重要分光元件,与传统光栅不同的是,棱镜光栅的槽形是将光栅浸没于高折射率介质中,由于光栅槽形嵌入在高折射率介质中,使得光栅的角色散和分辨率都提高了n倍,其中n是高折射率介质的折射率。相比于传统光栅,棱镜光栅在同样的光谱分辨率下可以减小光栅的尺寸,实现更加紧凑的光机结构。因此研制棱镜光栅具有重要的意义。针对甲烷的2.3μm波段,分析了棱镜光栅的衍射特性,为了进一步提高系统的结构紧凑性,在石英棱镜光栅中引入高折射率材料TiO_(2)介质膜,对于矩形槽形,占空比在0.3~0.45范围内,TiO_(2)膜层厚度在165~170 nm之间,槽深在800~950 nm之间时,光栅的衍射效率高于70%,TiO_(2)膜层厚度为165 nm,槽深在870~930 nm之间时,衍射效率高于80%。采用全息光刻-离子束刻蚀结合原子层沉积技术,制作了周期为1020 nm、光栅有效面积大于110×275 mm的棱镜光栅。实验测量中,为了消除光源波动的影响,采用了双光路测试法进行衍射效率测量,在2.275~2.325μm波段,一级衍射效率大于70%。 展开更多
关键词 棱镜光栅 全息光刻 离子束刻蚀 衍射效率
在线阅读 下载PDF
纳秒激光复合离子束刻蚀技术的CVD金刚石抛光研究
9
作者 冯昱森 赵智炎 +3 位作者 于颜豪 徐颖 徐地华 李爱武 《激光杂志》 北大核心 2025年第1期214-221,共8页
高表面平整度的CVD金刚石在微刀具、光学窗口、半导体等领域具有非常广阔的应用前景。然而,由于CVD金刚石具有的高硬度、高耐磨性和化学惰性等特性,使得CVD金刚石的高精度抛光成为一个巨大的挑战。针对金刚石抛光难度问题,使用纳秒激光... 高表面平整度的CVD金刚石在微刀具、光学窗口、半导体等领域具有非常广阔的应用前景。然而,由于CVD金刚石具有的高硬度、高耐磨性和化学惰性等特性,使得CVD金刚石的高精度抛光成为一个巨大的挑战。针对金刚石抛光难度问题,使用纳秒激光复合离子束刻蚀技术抛光CVD金刚石,开展了多晶CVD金刚石激光抛光实验研究,针对激光功率和扫描速度两种激光参数研究其对CVD金刚石烧蚀深度和表面粗糙度的影响,在此基础上对激光抛光后的CVD金刚石进行离子束蚀刻抛光,研究了离子束抛光下的金刚石表面粗糙度变化,并对离子束抛光后的金刚石表面成分进行分析。通过所述方法实现了CVD金刚石样品表面粗糙度从6.687μm降到0.804μm的优异的抛光效果。此研究提供了一种旨在红外窗口、微型铣床和航天航空等领域具有应用价值的金刚石抛光方法。 展开更多
关键词 激光光学 纳秒激光抛光 离子束抛光 CVD金刚石 粗糙度
在线阅读 下载PDF
二硫化钼-金-正方形阵列结构复合SERS基底的制备技术
10
作者 张景然 毕研瑞 +4 位作者 靖博文 乔健 于淼 石广丰 李晶 《中国表面工程》 北大核心 2025年第4期64-73,共10页
肌红蛋白的检测对于预防急性心肌梗死具有重要意义。基于聚焦离子束、磁控溅射、滴涂三种方法相结合制备二硫化钼-金-正方形阵列结构以作为复合表面增强拉曼散射(SERS)基底,以用于肌红蛋白的高灵敏检测。采用聚焦离子束方法制备不同边... 肌红蛋白的检测对于预防急性心肌梗死具有重要意义。基于聚焦离子束、磁控溅射、滴涂三种方法相结合制备二硫化钼-金-正方形阵列结构以作为复合表面增强拉曼散射(SERS)基底,以用于肌红蛋白的高灵敏检测。采用聚焦离子束方法制备不同边长和不同间距的正方形阵列结构。当正方形边长为300 nm时,相邻正方形间距(504、424、344、264 nm)的变化使其纳米孔的状态由分离到刚接触至相互叠加,且阵列结构的一致性高。采用该SERS基底检测10^(−5)mol/L的R6G溶液,试验结果表明,与相邻正方形纳米孔为分离或叠加状态相比,边长300 nm、间距424 nm的正方形阵列结构(刚接触状态)检测R6G溶液的增强强度最高。其次,与Au-MoS_(2)-L1S2和Au-L1S2相比,MoS_(2)-Au-L1S2复合SERS基底检测10^(−6)mol/L R6G分子的拉曼强度最高,其检测R6G溶液拉曼强度的标准偏差为4.66%,且检测R6G溶液的分辨率为10^(−8)mol/L。此外,在生物蛋白分子检测方面,采用该复合SERS基底能够检测0.02μg/mL的肌红蛋白分子,实现了对肌红蛋白分子的高灵敏度检测。 展开更多
关键词 聚焦离子束 二硫化钼 正方形阵列结构 R6G分子 肌红蛋白分子 表面增强拉曼散射(SERS)
在线阅读 下载PDF
镓离子束改性单晶金刚石刀具超精密切削加工性能研究
11
作者 陈孝洲 邓福铭 +4 位作者 邓雯丽 宗文俊 刘子逸 邢晓天 余浚哲 《工具技术》 北大核心 2025年第8期17-22,共6页
单晶金刚石超精密切削技术是制造纳米级表面的光学元件、超精密器件的重要加工工艺之一。在精密切削加工过程中,单晶金刚石刀具前刀面与切屑之间的摩擦磨损导致刀具寿命缩短、摩擦生热,进而使加工表面质量降低。针对上述问题,提出在金刚... 单晶金刚石超精密切削技术是制造纳米级表面的光学元件、超精密器件的重要加工工艺之一。在精密切削加工过程中,单晶金刚石刀具前刀面与切屑之间的摩擦磨损导致刀具寿命缩短、摩擦生热,进而使加工表面质量降低。针对上述问题,提出在金刚石(100)晶面进行镓离子(Ga)注入的刀具表面改性方法,提高单晶金刚石刀具的超精密加工性能。研究发现,随着镓离子注入浓度从4.65%增大到32.26%,金刚石(100)晶面表面能的降低幅度从21.16%变化到33.08%,液滴接触角分别从35.2°增大到64.3°。单晶金刚石刀具干切削试验表明,镓离子改性金刚石刀具在超精密切削过程中产生的切削力更小,加工表面质量更优,当镓离子注入剂量≥13.7×10^(13)时加工工件表面粗糙度可控制在Sa10 nm以内。 展开更多
关键词 离子束改性 金刚石单晶 超精密加工 干切削
在线阅读 下载PDF
基于聚焦离子束切割制样的热镀锌汽车钢板漏镀缺陷结构表征与成因分析
12
作者 韦浪浪 田秀刚 +4 位作者 梁健 苗斌 杨峰 李扬 郑士建 《材料导报》 北大核心 2025年第4期172-178,共7页
漏镀缺陷易在先进高强汽车钢板的热镀锌过程中形成。一般认为合金元素的偏聚是几十到几百微米漏镀缺陷形成的原因,这些缺陷可以通过金相显微镜和SEM进行较好的表征分析以确定其形成原因。但是,针对几微米的针孔漏镀以及存在其他附生组... 漏镀缺陷易在先进高强汽车钢板的热镀锌过程中形成。一般认为合金元素的偏聚是几十到几百微米漏镀缺陷形成的原因,这些缺陷可以通过金相显微镜和SEM进行较好的表征分析以确定其形成原因。但是,针对几微米的针孔漏镀以及存在其他附生组织的漏镀缺陷,传统平面样和截面样的观察方法无法精细表征,对其形成机制的认知尚有不足。本研究针对广泛应用于汽车板的热镀锌780 MPa级双相钢,通过聚焦离子束切割技术对漏镀缺陷进行切割,制备了针对微米尺度漏镀缺陷的截面样品,并利用TEM对漏镀缺陷的结构及成分进行了表征。所得结果揭示了780 MPa级双相钢中存在的两种漏镀缺陷及其不同于一般认知的形成机制:第一种漏镀缺陷的形成是由于镀锌前钢基板表面存在坑状缺陷,这种漏镀缺陷内界面层物相和成分与未漏镀区域并无较大差异;第二种漏镀缺陷的形成是由于镀锌前钢基板表面存在铁颗粒,在镀锌过程中影响了正常的镀锌反应,这种漏镀缺陷内存在疏松的附生组织。为减少780 MPa级双相钢以及其他镀锌先进高强汽车钢板镀锌层中的这两种微米级漏镀缺陷,需要在钢板轧制阶段重点关注并减少表面坑状缺陷,并去除表面的多余铁颗粒。 展开更多
关键词 热镀锌 双相钢 聚焦离子束切割 透射电镜 漏镀缺陷结构
在线阅读 下载PDF
离子电推进产品寿命初期束流闪烁耦合诱发机理研究
13
作者 吴辰宸 耿海 +4 位作者 郭德洲 郭伟龙 孟伟 蒲彦旭 王紫桐 《宇航学报》 北大核心 2025年第4期808-819,共12页
针对离子电推进产品寿命初期束流闪烁耦合诱发机理不清的问题,基于寿命初期产品特点构建了束流闪烁耦合诱发机理模型,重点研究微凸起、微凸起-微粒耦合、微凸起-电介质薄膜耦合3种机制诱发束流闪烁的机理;根据模型计算了单次束流闪烁能... 针对离子电推进产品寿命初期束流闪烁耦合诱发机理不清的问题,基于寿命初期产品特点构建了束流闪烁耦合诱发机理模型,重点研究微凸起、微凸起-微粒耦合、微凸起-电介质薄膜耦合3种机制诱发束流闪烁的机理;根据模型计算了单次束流闪烁能量区间,模型计算值与束流闪烁能量实测数据吻合良好,验证了模型的正确性。以30 cm离子电推进产品为研究载体,运用模型分析了3种机制诱发束流闪烁的物理过程,明确了束流闪烁诱发机理及关键参数阈值,研判了典型工况下3种机制诱发束流闪烁的可能性,针对可能诱发束流闪烁的情形提出了工程抑制方法建议,为中国离子电推进产品可靠性与健壮性提升提供理论支撑。 展开更多
关键词 离子电推进 束流闪烁 耦合诱发机理 抑制方法
在线阅读 下载PDF
高速空间定向分子流地面模拟与压力校准方法研究
14
作者 张湧颀 鄂鹏 +2 位作者 陈千睿 宋春尧 王欢 《真空科学与技术学报》 北大核心 2025年第10期853-859,共7页
文章针对航天器在轨运行时周围中性气体压力测量与校准的需求,开展了高速空间定向分子流的地面模拟与压力校准方法的研究。基于离子束表面中和的方法,采用单一种类气体来模拟空间定向分子流的压力效应,通过建立束流的传输过程模型,并对... 文章针对航天器在轨运行时周围中性气体压力测量与校准的需求,开展了高速空间定向分子流的地面模拟与压力校准方法的研究。基于离子束表面中和的方法,采用单一种类气体来模拟空间定向分子流的压力效应,通过建立束流的传输过程模型,并对离子束的加速引出、中和以及传输过程进行定量化分析,建立了一套校准转换器型方向规的方法。该方法为高速定向分子流的地面模拟与压力校准提供了参考方法,可用于指导转换器型方向规及其地面校准装置的研制。 展开更多
关键词 压力校准 高速空间定向分子流地面模拟 离子束 表面中和
在线阅读 下载PDF
基于频域滤波面形的毫米级束径离子束驻留时间补偿
15
作者 卞萌 胡海翔 +2 位作者 唐瓦 季鹏 张学军 《光学精密工程》 北大核心 2025年第11期1739-1749,共11页
为提升细束径去除函数对空间波长接近其特征尺寸的面形误差的修正能力,开展了毫米级束径离子束加工收敛率分析及优化研究,提出基于多频段面形“贝壳纹”加工程度的修形能力分析方法,通过分析均方根密度的频域分布特性与各频段的收敛率... 为提升细束径去除函数对空间波长接近其特征尺寸的面形误差的修正能力,开展了毫米级束径离子束加工收敛率分析及优化研究,提出基于多频段面形“贝壳纹”加工程度的修形能力分析方法,通过分析均方根密度的频域分布特性与各频段的收敛率、不同周期面形幅值的加工结果,量化评估细束径去除函数的跨频段误差修正能力。在此基础上通过分析制定加工补偿策略,提出了一种基于频域滤波进行驻留时间补偿的收敛率优化提升方法,提高了可修正频段的收敛率,并通过仿真和实验进行验证。实验结果表明:以加工“贝壳纹”的方式可以实现去除函数多频段面形误差修正能力的高效分析,驻留时间补偿方法可有效提升细束径去除函数可修正频段内的单轮收敛率。针对2 mm半宽去除函数收敛能力发生转折的关键频段(0.186~0.385 mm^(-1)),实际平均收敛率从76.4%提升至91.7%。该方法有助于实现单束径去除函数加工时的全频段误差一致性收敛,适用于高精度光学元件加工。 展开更多
关键词 超精密加工 离子束修形 驻留时间 收敛率 细束径去除函数 修形能力
在线阅读 下载PDF
平行板电离室在医用电子场的极化和离子复合修正因子研究
16
作者 陆刚 李毅华 +4 位作者 王志鹏 王坤 金孙均 吴晗 韩佳乐 《核电子学与探测技术》 北大核心 2025年第5期623-631,共9页
针对平行板电离室极化效应和离子复合修正系统研究较少的问题,本研究选用了四种不同几何结构的平行板电离室(PPC05,Advanced Markus,PPC40和NACP-02)在6、12、20 MeV电子能量下进行测量,求得平行板电离室在不同极化电压下的极化修正因子... 针对平行板电离室极化效应和离子复合修正系统研究较少的问题,本研究选用了四种不同几何结构的平行板电离室(PPC05,Advanced Markus,PPC40和NACP-02)在6、12、20 MeV电子能量下进行测量,求得平行板电离室在不同极化电压下的极化修正因子(k_(pol)),分别使用Jaffe图法和双压法计算平行板电离室的离子复合修正因子(ks),探究极化效应和离子复合与射线束能量及极化电压的关系。结果表明:PPC05,Advanced Markus和NACP-02电离室的k_(pol)随着电子能量的增大而增大,PPC05和Advanced Markus电离室的k_(pol)随着极化电压的增大而减小,平行板电离室进行极化效应修正时,需要考虑灵敏体积对平行板电离室的k_(pol)值的影响。电离室的ks值均随着极化电压的增大而降低,与电离室的几何结构无明显相关性。比较Jaffe图法和双压法的ks数据,ks值之间的最大差异分别为0.5%、0.3%、0.2%和0.7%。电离室的ks值均小于1.009,符合AAPM TG-51报告中ks值不得超过1.05的建议。 展开更多
关键词 平行板电离室 医用电子束 复合效应 极化效应
在线阅读 下载PDF
应用离子束注入技术改善乳杆菌维生素K_(2)合成能力
17
作者 沐璟玮 杨旭 +3 位作者 汪洪波 王丽 孙曼曼 王鹏 《生物学杂志》 北大核心 2025年第2期46-51,共6页
维生素K_(2)(VK_(2))对维持人体骨骼、心血管健康具有重要作用,但由于乳酸菌(LAB)VK_(2)合成路径中部分基因沉默或不表达,导致目前乳制品中基本不含有VK_(2)。以发酵乳杆菌Lactobacillus fermentum(LF1)为出发菌株,分析不同离子束注入... 维生素K_(2)(VK_(2))对维持人体骨骼、心血管健康具有重要作用,但由于乳酸菌(LAB)VK_(2)合成路径中部分基因沉默或不表达,导致目前乳制品中基本不含有VK_(2)。以发酵乳杆菌Lactobacillus fermentum(LF1)为出发菌株,分析不同离子束注入条件下的致死率和正负突变率,确定最佳注入能量为10 keV、注入剂量为75(×2.6×1013 N+/cm 2)。通过多轮离子束注入结合适应性实验室进化(ALE),获得VK_(2)高产菌株LFX,产量为0.67 mg/g,并在连续传代实验中验证菌株良好的遗传稳定性。转录组分析发现,在LFX的VK_(2)相关合成途径中,甲萘醌主环与聚异戊二烯侧链合成相关基因的表达水平显著增加,抗氧化系统、辅因子合成及中央碳氮代谢等途径显著增强。结果表明,多轮离子束注入和ALE可以协同优化代谢通量,提高VK_(2)的生物合成和稳定性。 展开更多
关键词 离子束 诱变选育 适应性实验室进化 维生素K_(2) 发酵乳杆菌 转录组
在线阅读 下载PDF
离子束溅射技术在X射线光电子能谱(XPS)深度剖析中的应用 被引量:1
18
作者 周传强 袁干印 +1 位作者 龚翔翔 黄学武 《中国无机分析化学》 北大核心 2025年第1期56-63,共8页
X射线光电子能谱技术是唯一一种既能检测材料表面元素组成又可分析元素价态或化学态的现代分析测试方法,但它只能探测样品表面1~10个原子层深度。离子束溅射技术能够实现材料表面层的逐层可控剥离,广泛应用于功能材料的X射线光电子能谱... X射线光电子能谱技术是唯一一种既能检测材料表面元素组成又可分析元素价态或化学态的现代分析测试方法,但它只能探测样品表面1~10个原子层深度。离子束溅射技术能够实现材料表面层的逐层可控剥离,广泛应用于功能材料的X射线光电子能谱深度剖析。对近年来离子束溅射技术在材料X射线光电子能谱深度剖析中的应用研究进行综述,分析了当前单原子离子束与气体团簇离子束溅射技术在材料深度剖析中面临的瓶颈难题,讨论了离子束溅射技术的应用前景和发展趋势。 展开更多
关键词 X射线光电子能谱 表面分析 溅射 深度剖析
在线阅读 下载PDF
温度补偿型声表面波滤波器SiO_(2)膜厚均匀化工艺路线研究
19
作者 王鹏 贺贞 +4 位作者 罗淦 伍平 付红霞 梁柳洪 田本朗 《压电与声光》 北大核心 2025年第4期672-676,共5页
针对温度补偿型声表面波滤波器SiO_(2)平坦化后存在的膜厚均匀性问题,设计并对比了4种不同的工艺路线。结果表明,化学机械抛光工艺会降低SiO_(2)膜厚均匀性,而利用扫描式离子束刻蚀技术可优化其均匀性。其中,仅在化学机械抛光之后或之... 针对温度补偿型声表面波滤波器SiO_(2)平坦化后存在的膜厚均匀性问题,设计并对比了4种不同的工艺路线。结果表明,化学机械抛光工艺会降低SiO_(2)膜厚均匀性,而利用扫描式离子束刻蚀技术可优化其均匀性。其中,仅在化学机械抛光之后或之前进行扫描刻蚀可将膜厚均匀度由5.4%分别提升至3.3%和3.1%,而在化学机械抛光前后均进行扫描刻蚀,则可以将SiO_(2)膜厚均匀度提升至2%。 展开更多
关键词 TCSAW滤波器 扫描式离子束刻蚀 化学机械抛光 SiO_(2)均匀化
在线阅读 下载PDF
一种基于FIB的平面透射电镜样品高效制备技术 被引量:1
20
作者 段北晨 吴海辰 +2 位作者 张蕾 陈国新 柯培玲 《实验室研究与探索》 北大核心 2025年第3期43-46,共4页
为了解决聚焦离子束(FocusIonBeams,FIB)制备平面透射样品时面临的难度大、成功率低等问题,提出了一种倒立的立体等腰梯形状的透射样品薄片模型。该模型在不破坏透射样品薄区结构完整性的前提下,通过抬高薄片底部截断沟槽的位置并缩小... 为了解决聚焦离子束(FocusIonBeams,FIB)制备平面透射样品时面临的难度大、成功率低等问题,提出了一种倒立的立体等腰梯形状的透射样品薄片模型。该模型在不破坏透射样品薄区结构完整性的前提下,通过抬高薄片底部截断沟槽的位置并缩小其面积(减少54%),从而缩短了截取时间。这种技术不仅减轻了高能离子束对样品的损伤,还削弱了加工过程中产生地再沉积效应,显著提高了平面透射样品薄片的制备效率及成功率。此外,在减薄过程中,通过在薄片上表面定点沉积细棒状碳层来标记待测试薄膜的位置,确保目标试样能够完整地保留于透射区内,实现了可定位区域的精准减薄。这种基于FIB的技术适用于多种材料体系,特别是对二维薄膜材料的平面透射样品制备尤为有效。 展开更多
关键词 聚焦离子束 平面透射电子显微镜样品 精准定位 二维薄膜
在线阅读 下载PDF
上一页 1 2 66 下一页 到第
使用帮助 返回顶部