期刊文献+
共找到30篇文章
< 1 2 >
每页显示 20 50 100
Dislocation and Wet Etching of Lu_(2)O_(3)
1
作者 LI Guoxin WANG Pei +3 位作者 MU Wenxiang ZHAO Lili WANG Shanpeng YIN Yanru 《发光学报》 北大核心 2025年第6期1095-1108,共14页
Lutetium oxide(Lu_(2)O_(3))is recognized as a potential laser crystal material,and it is noted for its high ther⁃mal conductivity,low phonon energy,and strong crystal field.Nevertheless,its high melting point of 2450... Lutetium oxide(Lu_(2)O_(3))is recognized as a potential laser crystal material,and it is noted for its high ther⁃mal conductivity,low phonon energy,and strong crystal field.Nevertheless,its high melting point of 2450℃induces significant temperature gradients,resulting in a proliferation of defects.The scarcity of comprehensive research on this crystal’s defects hinders the enhancement of crystal quality.In this study,we employed the chemical etching method to examine the etching effects on Lu_(2)O_(3)crystals under various conditions and to identify the optimal conditions for investi⁃gating the dislocation defects of Lu_(2)O_(3)crystals(mass fraction 70%H3PO4,160℃,15-18 min).The morphologies of dislocation etch pits on the(111)-and(110)-oriented Lu_(2)O_(3)wafers were characterized using microscopy,scanning electron microscopy and atomic force microscopy.This research addresses the gap in understanding Lu_(2)O_(3)line defects and offers guidance for optimizing the crystal growth process and improving crystal quality. 展开更多
关键词 Lu_(2)O_(3) etch pit dislocations crystal defects
在线阅读 下载PDF
6英寸低缺陷掺硫磷化铟晶体制备与性质研究
2
作者 李晓岚 高渊 +4 位作者 闫小兵 徐成彦 史艳磊 王书杰 孙聂枫 《半导体技术》 北大核心 2025年第7期684-690,共7页
低缺陷掺硫磷化铟晶片是光电器件的主要衬底材料,制备6英寸(1英寸=2.54 cm)大直径单晶是降低器件成本的重要手段之一。通过分析6英寸低缺陷掺硫磷化铟单晶生长过程的杂质效应机理、热应力和热场温度分布,并对掺硫磷化铟晶体头、中、尾... 低缺陷掺硫磷化铟晶片是光电器件的主要衬底材料,制备6英寸(1英寸=2.54 cm)大直径单晶是降低器件成本的重要手段之一。通过分析6英寸低缺陷掺硫磷化铟单晶生长过程的杂质效应机理、热应力和热场温度分布,并对掺硫磷化铟晶体头、中、尾切片进行电学性能、位错密度及应力测试,得到载流子浓度与掺杂量、迁移率及位错(腐蚀坑)密度之间的关系,以及掺硫磷化铟晶体易开裂的原因。优化了适合生长6英寸低缺陷掺硫磷化铟单晶的半封闭可调热场系统,通过增加热屏罩,提高了炉体上部空间的气氛温度,降低了晶体内部的温度梯度,从而有效降低了晶体内的残余应力。确定了InP中In2S3的掺杂质量分数最大限度(≤300×10^(-6)),得到了低位错密度(<3000 cm^(-2))的磷化铟晶体,并有效地降低了晶体开裂的概率,实现了6英寸低缺陷掺硫磷化铟单晶的重复生长。 展开更多
关键词 掺硫磷化铟 晶体生长 杂质效应 位错(腐蚀坑)密度 晶体开裂
在线阅读 下载PDF
氨热法GaN单晶生长的位错密度演变研究 被引量:2
3
作者 夏政辉 李腾坤 +6 位作者 任国强 解凯贺 卢文浩 李韶哲 郑树楠 高晓冬 徐科 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第3期480-486,共7页
氮化镓单晶具有高击穿电压、直接带隙、高饱和电子漂移速率、良好的化学稳定性等特性,在光电子器件和大功率电子器件中有广泛的应用。然而异质外延氮化镓会产生高位错密度,限制了氮化镓基器件的性能发挥。本研究以HVPE-GaN为籽晶,采用... 氮化镓单晶具有高击穿电压、直接带隙、高饱和电子漂移速率、良好的化学稳定性等特性,在光电子器件和大功率电子器件中有广泛的应用。然而异质外延氮化镓会产生高位错密度,限制了氮化镓基器件的性能发挥。本研究以HVPE-GaN为籽晶,采用氨热法生长了氮化镓单晶,利用扫描电子显微镜(SEM),光学显微镜和湿法腐蚀研究了氨热法氮化镓单晶籽晶区至侧向生长区的位错演变。研究结果表明,侧向生长区的氮化镓单晶位错密度明显低于籽晶区,侧向生长超过25μm后,位错密度降低2个数量级。 展开更多
关键词 氮化镓单晶 氨热法 侧向生长 位错密度 腐蚀坑
在线阅读 下载PDF
r面白宝石单晶的温梯法生长及缺陷研究 被引量:4
4
作者 彭观良 周国清 +6 位作者 庄漪 邹军 王银珍 李抒智 杨卫桥 周圣明 徐军 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期653-656,共4页
本文描述使用温梯法(TGT)生长(1102)方向的白宝石单晶,应用X射线双晶摇摆曲线(XRC)测定了晶体内部的完整性,再利用KOH熔体腐蚀出样品的r面(1102)上的位错蚀坑,借助扫描电子显微镜(SEM)进行观察,发现r面白宝石的位错腐蚀坑呈等腰三角形,... 本文描述使用温梯法(TGT)生长(1102)方向的白宝石单晶,应用X射线双晶摇摆曲线(XRC)测定了晶体内部的完整性,再利用KOH熔体腐蚀出样品的r面(1102)上的位错蚀坑,借助扫描电子显微镜(SEM)进行观察,发现r面白宝石的位错腐蚀坑呈等腰三角形,并且有台阶状结构,并分析了位错的成因。 展开更多
关键词 温梯法 r面白宝石 位错 化学腐蚀 腐蚀坑 缺陷
在线阅读 下载PDF
掺质YAG晶体中的缺陷 被引量:8
5
作者 曾贵平 曹余惠 殷绍唐 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第4期354-358,共5页
本文报道了用化学腐蚀法对掺质浓度不同和掺质种类不同的YAG晶体样品进行的腐蚀,详细地观察了样品表面的腐蚀坑形貌,尤其是位错腐蚀坑的形貌和分布,测量了原生态和相应的退火样品上位错腐蚀坑的平均密度。在观测中发现,有些掺钕... 本文报道了用化学腐蚀法对掺质浓度不同和掺质种类不同的YAG晶体样品进行的腐蚀,详细地观察了样品表面的腐蚀坑形貌,尤其是位错腐蚀坑的形貌和分布,测量了原生态和相应的退火样品上位错腐蚀坑的平均密度。在观测中发现,有些掺钕晶体样品上,位错腐蚀坑在中心区与边缘区的密集程度不同,有明显的分界。对此现象进行了探讨,认为出现在样品边缘区内的密集位错,除了来自于籽晶中以及来自于晶体从籽晶开始生长的起始处外,也由于熔体中出现在晶体周界处的自然对流与强迫对流边界层内的液流不稳,引起了生长界面边缘局部不稳而产生,环境气流起了相当的作用。 展开更多
关键词 位错 腐蚀坑 YAG晶体 晶体缺陷 化学腐蚀法
在线阅读 下载PDF
VB法生长低位错GaAs单晶 被引量:4
6
作者 王建利 孙强 +4 位作者 牛沈军 兰天平 李仕福 周传新 刘津 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期200-204,共5页
用于激光二极管(LD)和发光二极管(LED)的GaAs晶片,要求其具有低的位错密度(EPD)。为了获得低位错密度的GaAs晶片,必须先得到低位错密度的体单晶。我们采用垂直布里奇曼(VB)法分别得到了2英寸和3英寸的GaAs单晶,单晶长度可达10cm,平均位... 用于激光二极管(LD)和发光二极管(LED)的GaAs晶片,要求其具有低的位错密度(EPD)。为了获得低位错密度的GaAs晶片,必须先得到低位错密度的体单晶。我们采用垂直布里奇曼(VB)法分别得到了2英寸和3英寸的GaAs单晶,单晶长度可达10cm,平均位错密度5000cm-2。通过改变加热器结构,改善轴向和径向的温度梯度,优化了生长时的固液界面,得到的单晶长度达20cm,平均位错密度为500cm-2,最大位错密度小于5000cm-2。 展开更多
关键词 位错密度 垂直布里奇曼法 GAAS晶体 温度梯度 热场
在线阅读 下载PDF
温梯法Al_2O_3晶体位错形貌分析 被引量:2
7
作者 周国清 徐军 +7 位作者 邓佩珍 徐科 周永宗 干福熹 朱人元 田玉莲 蒋建华 王洲光 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第3期249-252,共4页
用温度梯度法( Temperature Gradient Technique ,简称温梯法或 T G T 法) ,定向籽晶[0001] 方向,生长出110mm ×80m m Al2 O3 单晶,晶体完整、透明。采用硼酸钠... 用温度梯度法( Temperature Gradient Technique ,简称温梯法或 T G T 法) ,定向籽晶[0001] 方向,生长出110mm ×80m m Al2 O3 单晶,晶体完整、透明。采用硼酸钠玻璃液作为 Al2 O3 晶体的化学抛光和化学腐蚀剂,观察了晶体不同部位处(0001) 、(1120) 晶片的化学腐蚀形貌相,(0001) 切片的位错腐蚀坑呈三角形,位错密度为2 ×103 ~3 ×103/cm2 ;(1120) 切片位错腐蚀坑呈菱形,位错密度为7×103 ~8 ×103/cm2 ;而且等径生长部位的完整性比放肩处高。利用同步辐射 X 射线白光衍射实验分析了(0001) 晶片的(2021) ,(1101) 和(0221) 衍射面内的位错组态。确定了两组位错线的 Burgers矢量,温梯法生长的 Al2 O3 晶体中的位错主要是刃型位错。 展开更多
关键词 位错 腐蚀 温梯法 三氧化二铅晶体 形貌
在线阅读 下载PDF
晶面指数对高纯铝表面腐蚀发孔的影响 被引量:4
8
作者 李东 毛卫民 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期1802-1806,共5页
采用含有盐酸、硝酸、氢氟酸的混合溶液腐蚀了从高纯铝锭上切割出的单晶{100}和{124}表面。定量统计两表面腐蚀孔密度随腐蚀时间的变化,并对变化规律进行了非线性拟合。研究表明,试样表面发生点蚀的位置为表面位错露头,其腐蚀发孔的难... 采用含有盐酸、硝酸、氢氟酸的混合溶液腐蚀了从高纯铝锭上切割出的单晶{100}和{124}表面。定量统计两表面腐蚀孔密度随腐蚀时间的变化,并对变化规律进行了非线性拟合。研究表明,试样表面发生点蚀的位置为表面位错露头,其腐蚀发孔的难易程度与相应的位错应变能有关。研究表明,{100}面潜在发孔位置密度高于{124}面,而初始发孔率低于{124}面。{124}面较高的表面能使腐蚀孔生长较快,造成腐蚀后期其孔密度明显低于{100}面。 展开更多
关键词 高纯铝 晶面指数 位错 腐蚀发孔 表面
在线阅读 下载PDF
异质外延碲镉汞薄膜的位错抑制技术 被引量:1
9
作者 覃钢 李东升 +5 位作者 夏宗泽 邸卓 陈卫业 杨晋 杨春章 李艳辉 《红外技术》 CSCD 北大核心 2019年第5期405-412,共8页
本文简述了MBE异质外延碲镉汞薄膜位错形成机理、位错在外延层中的演化过程以及位错抑制理论,总结了国内外CdTe缓冲层的位错抑制技术、HgCdTe薄膜的位错抑制技术,分析了热循环退火技术各个要素与位错密度变化之间的关系。
关键词 异质衬底 碲镉汞 位错抑制 循环退火 腐蚀坑密度
在线阅读 下载PDF
Nd,Y∶SrF_(2)激光晶体的位错缺陷表征及分布研究 被引量:2
10
作者 王迪 汤港 +5 位作者 张博 王墉哲 张中晗 姜大朋 寇华敏 苏良碧 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第7期1208-1218,共11页
氟化物激光晶体Nd,Y∶SrF_(2)(NYSF)具有热导率高、发射光谱宽、发射截面适中等特点,在高功率激光技术领域具有重要应用。激光晶体中的位错是反映其晶格完整性的一类重要的微观晶体缺陷,对晶体材料的力学、光学性能具有重要影响。本文... 氟化物激光晶体Nd,Y∶SrF_(2)(NYSF)具有热导率高、发射光谱宽、发射截面适中等特点,在高功率激光技术领域具有重要应用。激光晶体中的位错是反映其晶格完整性的一类重要的微观晶体缺陷,对晶体材料的力学、光学性能具有重要影响。本文采用坩埚下降法制备了NYSF激光晶体,分析了腐蚀实验条件对位错蚀坑形貌的影响,获得了化学腐蚀法研究NYSF晶体位错缺陷的最佳腐蚀工艺,即浓度为4 mol/L的盐酸溶液作为腐蚀液,腐蚀温度为60℃、腐蚀时间为9~12 min;表征了位错腐蚀坑形态的演变过程,探讨了晶格原子排列对位错蚀坑形态的影响;利用化学腐蚀方法表征了位错缺陷在晶体中的分布规律,即轴向分布为从放肩到尾部先减少后增加,径向分布为从中心到边缘逐步增加;分析了晶体生长条件对位错缺陷形成的影响,提出了位错密度随坩埚下降速率的提高而升高的可能原因。 展开更多
关键词 Nd Y∶SrF_(2) 激光晶体 氟化物晶体 坩埚下降法 位错 位错蚀坑形貌 晶体缺陷
在线阅读 下载PDF
坩埚下降法生长CaF_2单晶的研究 被引量:1
11
作者 段安锋 范翊 +3 位作者 罗劲松 关树海 沈永宏 刘景和 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期1328-1331,共4页
采用坩埚下降法生长了CaF2单晶体,研究了不同条件生长的单晶缺陷和光谱性能。结果表明:当晶体生长过程中进入水等含氧杂质时,所生长的晶体不仅在1500nm附近产生非常宽的OH-两倍振动吸收带,而且在可见-紫外波段也形成强烈的色心吸收带。... 采用坩埚下降法生长了CaF2单晶体,研究了不同条件生长的单晶缺陷和光谱性能。结果表明:当晶体生长过程中进入水等含氧杂质时,所生长的晶体不仅在1500nm附近产生非常宽的OH-两倍振动吸收带,而且在可见-紫外波段也形成强烈的色心吸收带。同时,杂质离子Ce3+的存在也导致晶体出现306nm的吸收带。 展开更多
关键词 CaF2晶体 下降法 位错蚀坑 光谱
在线阅读 下载PDF
InSb(111)A面腐蚀坑成因分析 被引量:1
12
作者 吴卿 巩锋 +2 位作者 陈元瑞 侯晓敏 崔健维 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2014年第9期1011-1013,共3页
采用光学显微镜和光学轮廓仪分析了InSb晶片(111)A面经特定腐蚀剂腐蚀后出现的两种特征腐蚀坑,并通过多次腐蚀试验观察了这两种腐蚀坑形貌的演变。从理论上对腐蚀坑形貌的成因进行了分析,结果显示1类特征腐蚀坑的成因是由于晶片固有的... 采用光学显微镜和光学轮廓仪分析了InSb晶片(111)A面经特定腐蚀剂腐蚀后出现的两种特征腐蚀坑,并通过多次腐蚀试验观察了这两种腐蚀坑形貌的演变。从理论上对腐蚀坑形貌的成因进行了分析,结果显示1类特征腐蚀坑的成因是由于晶片固有的位错缺陷,2类特征腐蚀坑可能是由于晶片表面存在一定深度的损伤层引起的。 展开更多
关键词 INSB 腐蚀坑 位错 损伤层
在线阅读 下载PDF
PBN坩埚生长碲锌镉单晶的性能与缺陷研究 被引量:1
13
作者 范叶霞 徐强强 +3 位作者 侯晓敏 折伟林 吴卿 周立庆 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2019年第2期198-203,共6页
采用垂直布里奇曼法,利用热解氮化硼(PBN)坩埚生长碲锌镉单晶(CdZnTe),并对晶体进行定向、切割与磨抛制成(111)面碲锌镉晶片。采用傅里叶红外透过光谱仪、红外透射显微镜、金相显微镜、X射线形貌仪、X射线衍射仪和X射线双晶衍射仪等仪... 采用垂直布里奇曼法,利用热解氮化硼(PBN)坩埚生长碲锌镉单晶(CdZnTe),并对晶体进行定向、切割与磨抛制成(111)面碲锌镉晶片。采用傅里叶红外透过光谱仪、红外透射显微镜、金相显微镜、X射线形貌仪、X射线衍射仪和X射线双晶衍射仪等仪器系统地检测和研究了碲锌镉晶体的性能与缺陷。研究发现:相比于石英坩埚,采用PBN坩埚生长的碲锌镉晶体单晶率和出片率均大幅增加,孪晶、小角晶界和位错密度明显减少。 展开更多
关键词 碲锌镉晶体 PBN坩埚 位错密度 小角晶界 单晶体积
在线阅读 下载PDF
采用扫描电镜的ECP技术分析人工合成金刚石晶体中的晶体缺陷 被引量:1
14
作者 朱衍勇 廖乾初 《电子显微学报》 CAS CSCD 1995年第5期369-372,共4页
本文应用扫描电镜的ECP技术对人造金刚石晶体表面的位错密度,进行了实验分析,并同位错蚀坑分析技术的测量结果进行了比较。结果表明:如采用临界束流强反作为描述ECP本征衬度的参数,则它同位错密度间存在明显定量的数学关系。... 本文应用扫描电镜的ECP技术对人造金刚石晶体表面的位错密度,进行了实验分析,并同位错蚀坑分析技术的测量结果进行了比较。结果表明:如采用临界束流强反作为描述ECP本征衬度的参数,则它同位错密度间存在明显定量的数学关系。因此上述临界束流强度可用来评价晶体中位错密度的相对变化。 展开更多
关键词 金刚石 ECP技术 蚀坑技术 人造金刚石 晶体缺陷
在线阅读 下载PDF
碲锌镉表面腐蚀坑所对应缺陷的特性研究
15
作者 刘从峰 方维政 +3 位作者 涂步华 孙士文 杨建荣 何力 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2005年第11期849-852,共4页
文中通过使用Nakagawa、Everson、EAg1和EAg2四种常用腐蚀剂对碲锌镉材料的腐蚀坑空间分布特性进行研究,结果显示,20μm厚的(111)晶片A、B面上的腐蚀坑在空间位置上不存在对应关系,这表明腐蚀坑所对应的缺陷不是具有穿越特性的位错。腐... 文中通过使用Nakagawa、Everson、EAg1和EAg2四种常用腐蚀剂对碲锌镉材料的腐蚀坑空间分布特性进行研究,结果显示,20μm厚的(111)晶片A、B面上的腐蚀坑在空间位置上不存在对应关系,这表明腐蚀坑所对应的缺陷不是具有穿越特性的位错。腐蚀坑的空间局限性特征和热处理后腐蚀坑密度(EPD)减少等实验结果表明,腐蚀坑更有可能对应某种微沉淀物缺陷,将目前常用腐蚀剂的EPD作为碲锌镉材料的位错密度是缺乏实验依据的。 展开更多
关键词 碲锌镉 腐蚀坑密度 位错 微沉淀缺陷 热处理
在线阅读 下载PDF
GaP:N LPE半导体材料位错密度和位错坑形态分析
16
作者 李永良 郝京海 +2 位作者 李桂英 杨锡震 王亚非 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1998年第4期472-475,共4页
利用扫描电子显微镜研究GaP:NLPE材料中位错密度和发光的关系及位错坑形态,结果发现:样品经外延后,外延层的位错密度比衬底的位错密度有不同程度的下降,因样品各异,下降幅度为37%~83%;外延层的位错密度越低,样品的发光越好... 利用扫描电子显微镜研究GaP:NLPE材料中位错密度和发光的关系及位错坑形态,结果发现:样品经外延后,外延层的位错密度比衬底的位错密度有不同程度的下降,因样品各异,下降幅度为37%~83%;外延层的位错密度越低,样品的发光越好.位错坑的形态有正六棱锥形、不等边六棱锥形和正三棱锥形3种形状,随着腐蚀过程进行,正六棱锥形坑渐渐演变为正三棱锥形坑. 展开更多
关键词 位错密度 位错坑形态 磷化镓 半导体 LEP
在线阅读 下载PDF
碲锌镉材料腐蚀坑及其缺陷特性研究 被引量:3
17
作者 崔晓攀 方维政 +2 位作者 张传杰 刘从峰 杨建荣 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2010年第3期405-410,共6页
跟踪观察了Everson腐蚀剂在碲锌镉晶体(111)B面形成的腐蚀坑的形貌特征和空间延伸特性,并分析了各种腐蚀坑所对应的缺陷的特征。研究表明:碲锌镉材料的腐蚀坑具有三角锥型坑、平底三角坑、彗星状腐蚀坑和不规则腐蚀坑4种类型,其中三角... 跟踪观察了Everson腐蚀剂在碲锌镉晶体(111)B面形成的腐蚀坑的形貌特征和空间延伸特性,并分析了各种腐蚀坑所对应的缺陷的特征。研究表明:碲锌镉材料的腐蚀坑具有三角锥型坑、平底三角坑、彗星状腐蚀坑和不规则腐蚀坑4种类型,其中三角锥型坑的坑尖又有5种不同的空间取向。彗星状腐蚀坑、三角锥型坑和不规则腐蚀坑具有定向移动特性。这表明这类腐蚀坑所对应的缺陷与材料的位错相关,但其穿越深度都不超过18μm,即缺陷同时具有局域化的特性。没有观测到平底三角坑的空间延伸特性,其所对应的缺陷可能是材料中的微沉淀缺陷。研究还发现:对于不同样品,各类腐蚀坑的数量和比例可有很大差异。而且,有些腐蚀坑所揭示的缺陷在被观察位置已经消失。因此,简单地用腐蚀坑密度(EPD)来描述碲锌镉材料表面缺陷密度和性能是不准确的。 展开更多
关键词 碲锌镉 缺陷 位错 腐蚀坑
在线阅读 下载PDF
无位错Te-GaSb(100)单晶抛光衬底的晶格完整性 被引量:4
18
作者 冯银红 沈桂英 +5 位作者 赵有文 刘京明 杨俊 谢辉 何建军 王国伟 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第6期1003-1011,共9页
采用液封直拉(LEC)法批量生长的直径2英寸(1英寸=2.54 cm)n型Te-GaSb(100)单晶的位错腐蚀坑密度(EPD)通常低于300 cm^(-2),达到无位错水平。本文利用X射线摇摆曲线以及倒易空间图(RSM)对这种GaSb单晶抛光衬底的晶格完整性和亚表面损伤... 采用液封直拉(LEC)法批量生长的直径2英寸(1英寸=2.54 cm)n型Te-GaSb(100)单晶的位错腐蚀坑密度(EPD)通常低于300 cm^(-2),达到无位错水平。本文利用X射线摇摆曲线以及倒易空间图(RSM)对这种GaSb单晶抛光衬底的晶格完整性和亚表面损伤情况进行了分析表征,结果表明经过工艺条件优化的化学机械抛光处理,GaSb单晶衬底表面达到原子级光滑,不存在亚表面损伤层。利用分子束外延在这种衬底上可稳定生长出高质量的Ⅱ类超晶格外延材料并呈现出优异的红外探测性能。在此基础上,对CaSb衬底材料的物性、生长制备和衬底加工条件之间的内在关系进行了综合分析。 展开更多
关键词 GASB 衬底 液封直拉法 晶格完整性 位错腐蚀坑密度 倒易空间图 亚表面损伤 化合物半导体
在线阅读 下载PDF
晶格畸变检测仪研究碳化硅晶片中位错缺陷分布 被引量:3
19
作者 尹朋涛 于金英 +6 位作者 杨祥龙 陈秀芳 谢雪健 彭燕 肖龙飞 胡小波 徐现刚 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2021年第4期752-756,共5页
利用晶格畸变检测仪研究了SiC晶片位错分布情况,通过对熔融KOH腐蚀后的SiC晶片进行全片或局部扫描,从而得到完整SiC晶片或局部区域的位错分布。与LEXT OLS40003D激光共聚焦显微镜扫描腐蚀图进行比较,晶格畸变检测仪扫描腐蚀图可以将晶... 利用晶格畸变检测仪研究了SiC晶片位错分布情况,通过对熔融KOH腐蚀后的SiC晶片进行全片或局部扫描,从而得到完整SiC晶片或局部区域的位错分布。与LEXT OLS40003D激光共聚焦显微镜扫描腐蚀图进行比较,晶格畸变检测仪扫描腐蚀图可以将晶片上位错腐蚀坑信息完全呈现出来,且根据腐蚀坑呈现的颜色及尺寸大小,可以分辨出三种不同类型的穿透型位错,其中黑点腐蚀坑对应螺位错,小尺寸白点腐蚀坑对应刃位错,大尺寸白点腐蚀坑对应混合型位错。采用晶格畸变测试仪研究了4英寸(101.6 mm)N型4H-SiC晶体不同生长时期的位错密度及分布情况,结果表明随着晶体生长,位错密度呈现逐渐降低的趋势,生长后期晶片的总位错密度降为生长前期晶片总位错密度的近1/3,有利于反馈位错缺陷在SiC晶体生长过程中的延伸和转化特性信息,以指导SiC晶体生长工艺改进。 展开更多
关键词 4H-SIC 晶格畸变检测仪 位错 位错密度 KOH腐蚀 位错缺陷分布
在线阅读 下载PDF
材料表面位错密度的测量方法研究 被引量:5
20
作者 林文星 付秀丽 +1 位作者 孟莹 王勇 《工具技术》 北大核心 2017年第6期10-14,共5页
不同加工处理方法在材料表面产生的晶体缺陷直接决定已加工表面的微观组织结构特征,并影响其使用性能,其中位错的演变尤为显著。对材料加工表面位错参数进行准确的测量与分析,是全面把握材料加工表面微观结构和宏观性能的关键。论文重... 不同加工处理方法在材料表面产生的晶体缺陷直接决定已加工表面的微观组织结构特征,并影响其使用性能,其中位错的演变尤为显著。对材料加工表面位错参数进行准确的测量与分析,是全面把握材料加工表面微观结构和宏观性能的关键。论文重点阐述了几种主流的位错测量方法及其应用现状,对比了不同测量和分析方法的局限性和应用范围,展望了加工表面材料位错密度测量分析技术的发展趋势。 展开更多
关键词 位错密度 金相腐蚀 x射线衍射(XRD)
在线阅读 下载PDF
上一页 1 2 下一页 到第
使用帮助 返回顶部